"포토공정"의 검색결과 입니다.

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"포토공정" 검색결과 21-40 / 1,045건

반도체 포토공정에서 총 가중작업흐름시간을 최소화하기 위한 스케쥴링 방법론에 관한 연구 (Scheduling Algorithms for Minimizing Total Weighted Flowtime in Photolithography Workstation of FAB)

한국산업경영시스템학회 최성우

논문 | 8페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.26 | 수정일 2025.05.14

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유전알고리즘 기반 로트 타겟팅 최적화 연구: 반도체 포토공정을 대상으로 (A GA-based Optimization of a Weighted Lot Targeting Rule in a Semiconductor Wafer Fab)

대한산업공학회 한광욱, 강봉권, 김해중, 홍순도

논문 | 9페이지 | 무료 | 등록일 2025.03.17 | 수정일 2025.03.28

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(특집) 포토공정 심화 정리5편. 현상(Development)과 Hard bake

< (특집) 포토공정 심화 정리5편. 현상(Development)과 Hard bake >이번시간은 '포토 공정 중 현상(Development) & Hard bake를 주제로 다뤄 ... 보겠습니다.?Development & Hard bake 공정은 크게 PHOTO 공정 8단계 중 6,7번째 과정입니다.?[6] Development(현상)?* 현상 ... (Development)이란??- PR의 일부 영역을 제거하여 원하는 Pattern의 형식으로 PR을 남기는 공정?> Development 공정의 방식은 크게 Spray 공정 / Puddle 공정

리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.15

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(특집) 포토공정 심화 정리10편. Photo(빛)에 대한 이해

< (특집) 포토공정 심화 정리10편. Photo(빛)에 대한 이해 >이번시간은 '포토공정에 사용되는 가장 기본적인 재료인 빛에 대한 이해'에 대해서 알아보

리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.16

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(특집) 포토공정 심화 정리16편. EBL, FIB 노광기법

< (특집) 포토공정 심화 정리16편. EBL, FIB 노광기법 >이번시간은 노광방식의 다양한 종류인 EBL, FIB 노광기법에 대해서 소개해드리겠습니다.?< EBL

리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.16

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반도체 생산 공정에서 포토장비의 부하 밸런싱을 위한 Dedication 부하 기반 디스패칭 룰 (Dedication Load Based Dispatching Rule for Load Balancing of Photolithography Machines in Wafer FABs)

한국CDE학회 조강훈, 정용호, 박상철

논문 | 9페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.23 | 수정일 2025.05.13

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(특집) 포토공정 심화 정리11편. PR(Photoresist)에대한 이해

< 포토공정 심화 정리11편. PR(Photoresist)에대한 이해 >이번시간은 '포토공정에 사용되는 소재 PR, 포토레지스트에 대해서 알아보겠습니다.?Photoresist ... , PR은 반도체 원료인 웨이퍼 위에 도포하는 ‘감광액’이다. 빛을 받아 반도체 회로를 새기는 특수 고분자물질이다. 400여 개 반도체 공정 가운데 30여 개에 포토레지스트를 사용 ... : Monomer(단위 분자)가 수천 개씩 결합한 상태, 현상 후 패턴으로 남아있는 Resist의 실체)> Sensitizer : 현상 공정에서 Polymer를 녹게 하

리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.16

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(특집) 포토공정 심화 정리2편. PR Coating(Spin coating)

< (특집) 포토공정 심화 정리2편. PR Coating(Spin Coating) >이번시간은 '포토 공정 중에서 PR Coating(Spin Coating) 주제입니다 ... .?PHOTO 공정은 아래 크게 8단계로 구성되며 2번째 과정인 Spin Coating에 대해서설명드리겠습니다.?[2] Spin Coating?* Spin Coating?

리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.15

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포토 리소그래피 공정을 위한 Ti(10 nm)-Buffered층 위에 직접 성장된 고품질 무전사 단층 그래핀 공정 (High Quality Non-Transfer Single-Layer Graphene Process Grown Directly on Ti(10 nm)-Buffered Layer for Photo Lithography Process)

한국전기전자재료학회 오거룡, 한이레, 엄지호, 윤순길

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.05.03 | 수정일 2025.05.16

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(특집) 포토공정 심화 정리14편. PSM, OPC, RELACS Process, Multi Patterning

< (특집) 포토공정 심화 정리14편. PSM, OPC, RELACS Process, Multi Patterning >이번시간은 'Photo공정상 생기는 문제극복을 위한 개발방향 ... 2탄'에 대해서알아보겠습니다.??저번시간에 이어서 Photo공정의 한계극복 개발방향에 대해서 소개해드리겠습니다.??⑤ Phase Shift Mask(PSM)?- Mask의 원본 ... 디자인 시, 실제 공정에서 형성되는 영역을 미리 생각하여 디자인 할 필요가 있습니다.- 특히 Photolithography 공정에서는, 빛의 산란을 고려하여 디자인을 진행합니다.

리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.16

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(특집) 포토공정 심화 정리12편. 분해능(Resolution) 초점심도(DOF)

< (특집) 포토공정 심화 정리12편. Photo공정의 성능 요소 2가지 :분해능(Resolution) / 초점심도(DOF) >이번시간은 'Photo공정의 성능 요소 2가지인 ... 분해능과 초점심도'에 대해서 계속 알아보겠습니다.?우리가 일반적으로 포토공정의 성능이 좋다고 하면 어떤걸 말하는 걸까요?여러가지가 있겠지만 가장 일반적으로 성능을 판단하는 기준 ... 미세패턴이 만들기 더 어렵다는 것을 의미함. (RES와 DOF는 양립하기 어렵다)?* 미세공정?- 미세공정 : 다른 Factor 보다 Resolution 개선이 가장 큰 issue

리포트 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.16

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(특집) 포토공정 심화 정리8편. 노광설비의 종류와 Mask Aligner의 설비구조

< (특집) 포토공정 심화 정리8편. 노광설비의 종류와 Mask Aligner의 설비구조 >이번시간은 노광방식 / 노광설비의 종류 / 노광설비 중 Mask Aligner의 구조 ... 양 = 파워 X 시간 (빛의 파워는 일정하고 시간만 주로 조절)??* Mask Aligner 설비를 이용한 공정 진행?1) Wafer Loading : Wafer stage ... 에 Wafer를 놓고, 공정 진행을 위해 고정하는 단계Wafer 고정 방법에 따라 4가지로 분류합니다. (Vacuum, Hard, Soft, Proximity contact)?

리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.16

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(특집) 포토공정 심화 정리13편. Immersion ARF, Top coat, ARC, OAI

< (특집) 포토공정 심화 정리13편. Immersion ARF, Top coat, ARC, OAI >이번시간은 'Photo공정상 생기는 문제극복을 위한 개발방향 1탄'에 대해서 ... 을 공기에서 물(혹은 용매)로 바꿔서 노광하는 공정. n(굴절률) : 1 → 1.44(물)?- Immersion Lithography에 용매로 쓸 수 있는 조건1) 매질이 빛을 흡수 ... 된 고분자- 노광 후 불소 치환된 시너를 이용하여 제거가 가능해야 함.?2) Top coat 사용의 단점- Coating / Cleaning 공정 증가 (각각 1회 → 2회)

리포트 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.16

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포토리소그래피 공정만을 이용한 단일벽 탄소 나노튜브의 자가 조립 공정에 대한 연구와 단일벽 탄소나노튜브 다중채널 전계효과 트랜지스터 제작 (Study on the Self-assembled Process of Single-walled Carbon Nanotubes (SWNTs) Fabricated Using Only Photolithography and the Fabrication of SWNT-based Multi-channel Field-emission Transistors)

한국물리학회 김경헌, 김태근, 김선호, 변영태

논문 | 4페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.27 | 수정일 2025.05.14

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포토공정 실험자료

리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.04.02 | 수정일 2020.08.17

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PHTO 공정 ( 포토공정)

DEVELOPP.E.BDEVELOPHARD BAKEINSPECTIONVISUAL INSPECTIONOVERLAYCD측정PHOTO 공정 전체 모식도PHOTO 공정의 이해PHOTO 공정 ... 의 정의-PHOTO공정을 이해하기 위해서는 우선 반도체 CHIP 위에 배선을 어떻게 그리는지에 대해 의문을 가져볼 필요가 있다. 눈에 보이지 않는 미세한 배선을 실수없이 반복 ... 화 기술을 의미하였으나, 현재는 반도체 용어로도 쓰이고 있으며, Wafer 위에 복잡한 패턴을 반복적으로 복사해내는 공정을 일컫는다.이것을 다른말로 Photo 공정이라고 한다

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.05.21

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포토리소그라피 공정 반도체 실험 과정과 결과물

하나의 원판을 정확하게 제작한 후 빛을 사용하여 같은 모양의 패턴을 반복하여 복사하면 짧은 시간에 소자의 대량 생산이 가능하다. 물론 포토리소그래피 공정만으로 3차원 구조가 만들 ... . (Did u get to know the principle of lithography? And explain it in the report포토리소그래피(Photolithography ... )는 원하는 회로설계를 유리판 위에 금속패턴으로 만들어 놓은 마스크(mask)라는 원판에 빛을 쬐어 생기는 그림자를 웨이퍼 상에 전사시켜 복사하는 기술이며, 반도체의 제조 공정

리포트 | 22페이지 | 4,000원 | 등록일 2019.02.28 | 수정일 2021.07.07

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포토마스크 펠리클 제조를 위한 Aluminum Frame 표면 세정공정 연구

한국재료학회 김현태, 김향란, 김민수, 이준, 장성해, 최인찬, 박진구

논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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photolithography 공정 발표자료, 포토리소그래피

Photo-litho-graphy : light-stone-writinglithography2-D patternphotolithography3-D patternThen, how is the pattern transfered in photolithography? In t..

리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.04.26 | 수정일 2016.05.04

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포토 공정과 에치공정

photo 공정1. 반도체 포토리소그래피 공정의 개요포토리소그래피(Photolithography)는 원하는 회로설계를 유리판 위에 금속패턴으로 만들어 놓은 마스크(mask)라는 ... 원판에 빛을 쬐어 생기는 그림자를 웨이퍼 상에 전사시켜 복사하는기술이며, 반도체의 제조 공정에서 설계된 패턴을 웨이퍼 상에형성하는 가장 중요한 공정이다.빛을 사용하여 노광하는 포토 ... 되어왔다.근접 노광 방식 투영 노광 방식2. 포토리소그래피 공정 순서① PR(Photoresist) 물질이 웨이퍼 표면에 spin-coat 된다.② Spin-coat 된 막

리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.12.10

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