"리소그래피란"의 검색결과 입니다.

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photolithography asml 면접 euv sk하이닉스 노광공정 리소그래피

"리소그래피란" 검색결과 301-320 / 618건

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(A+레포트) PSM, OPC, OAI, Double Patterning 같 분해능 향상 기술

REPORT반도체 소자를 제조할 때 제조업체는 리소그래피 공정을 통해 마스크의 패턴과 정확히 같은 형상을 웨이퍼 상에 전사시켜야 한다. 현대에 들어 마스크의 패턴은 더 미세화 되 ... 되도록 인위적으로 변조시킨 마스크를 이용하여 리소그래피를 하는 방법을 말한다. Reticle Design상에서 Pattern Edge부에 Cr 추가 및 제거를 통해 PR

리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2019.07.02

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Photolithography Mask Patterning 반도체 공정 실험 보고서_ A +레포트

1. Objective of experiment 실험목적은 설계했던 특정 저항 값에 맞추어, 디자인 Mask Glass와 Silicon Wafer를 가지고 Photolithography 과정과 그 이후의 Etching 과정을 진행한다. 또한 Etching 과정 이후..

리포트 | 8페이지 | 12,000원 | 등록일 2020.06.01 | 수정일 2022.10.10

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화학 물질의 안자극 시험용 세포 기반 미세유체 칩의 제작 및 응용 (Fabrication and application of cell-based microfluidic chip for eye-irritation test of chemicals)

본 연구에서는 화학 물질의 급성 안자극 시험을 수행하기 위한 세포 기반 미세유체 칩의 개발과 응용에 관한 연구를 수행하였다. 포토리소그래피와 소프트리소그래피 공정을 이용하여 미세

논문 | 9페이지 | 무료 | 등록일 2025.06.04 | 수정일 2025.06.09

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실리콘 웨이퍼에 패터닝 후 에칭과 P/N type 판정

제목실리콘 웨이퍼에 패터닝 후 에칭과 P/N type 판정실험목적실리콘을 이용하여 반도체 제조 공정의 기본인 리소그래피와 에칭을 한다.이론적 배경리소그래피 방법웨이퍼 세척웨이퍼 ... , 웨이퍼에 불순물이 묻지 않도록 주의한다.)조각난 샘플은 N2 blowing을 이용해 표면에 달라붙어 있는 먼지, 불순물을 제거한다.리소그래피 (Lithography)PMMA를 준비

리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.08.18

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Photo lithography 예비보고서

: https://en.wikipedia.org/wiki/Photolithography (accessed April, 28, 2019)[2] 포토리소그래피 : https://it

리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2019.10.13

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Photo 및 Etching 공정

1. 사진(Photo) 공정 - 사진(Photo) 공정 포토리소그래피는 마스크상에 설계된 패턴을 실리콘 웨이퍼 표면에 전사하는 모든 공정-Automated Wafer Track

리포트 | 24페이지 | 3,000원 | 등록일 2018.04.04 | 수정일 2018.04.06

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방사선 위치 검출센서의 제작 및 특성 (Fabrication and Characteristics of X-ray Position Detection Sensor)

디지털 X-선 촬영 장치에 응용되는 MSGC형 검출기를 설계 및 제작하였다. 기판의 재질은 실리콘기판과 유리기판을 사용하였으며, 기판위에 증착된 전극물질은 포토리소그래피 공정

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.05.23 | 수정일 2025.05.26

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액적 충돌 거동에 대한 표면 패턴의 영향에 관한 연구 (A Study on the Effects of Surface Patterns on Droplet Impingement Behaviors)

본 논문에서는 나노임프린트 리소그래피 기술을 이용하여 다양한 발수 표면을 제작하였으며, 발수기능의 안정성을 향상시키기 위해 액적의 충돌 거동에 대하여 평탄한 단위면적에 대한 구조

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.06.06 | 수정일 2025.06.09

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Photolithography 예비보고서

○○○, □□□ University리소그래피는 포토레지스트를 도포하는 공정으로 시작해 노광, 현상, 에칭, 포토레지스트 제거에 이르는 일련의 프로세스이다. 현상까지를 레지스트 처리공정 ... 을 전사하는 공정이라고 할 수 있다. 리소그래피(lithography)는 시스템 집적 반도체를 포함한 기억소자와 마이크로 프로세서 (micro processor)등의 실리콘 소자 ... system) 등을 만들기 위한 매우 중요한 기술이다. 특히 리소그래피 공정은 전체 반도체 제조 공정의 약 35%를 차지하는 제일 중요한 기술로서 반도체 집적소자의 초 고집적화 및 이

리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.07.10

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Soft Lithography의 이해 및 응용 예비보고서

대 초부터 Harvard 대학의 Whitesides 교수는 미세접촉프린팅(microcontact printing, μCP)과미세몰딩(micromolding)을 소프트 리소그래피(s ... oft lithography)라는 방법으로 정의하고 많은 독보적인 연구 결과들을 발표하였다. 소프트 리소그래피 방법은 유연한 유기물질(작용기를 갖는 알칸과 고분자물질)을 사용 ... 하여 기존의 포토리소그래피에서 사용하는 복잡한 장치를 사용하지 않고 패턴(pattern)이나 구조물을 만드는 새로운 전사법을 말한다.1.2 Soft lithography의 장단점과 특징

리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.12.22

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포토리소공정

포토리소그래피(Photolithography)공정1. 정의 : 포토리소그래피 공정은 어떤 특정한 화학 약품이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용한 것이 ... 다, 얻고자 하는 패턴의 마스크를 사용하여 빛을 선택적으로 PR에 조사함으로써 패턴 마스크와 동일한 패턴을 형성시키는 공정이다.2. 실험 목적1) OLED공정의 포토리소그래피 공정 ... 의 순서를 안다.2) 포토리소그래피의 각 공정 마다 하는 목적과 특징을 이해한다.3. 실험 이론포토리소그래피 공정 순서세정 - PR도포, 코팅 - 소프트베이크 - 노광 - 현상 -하

리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2015.11.15

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블록공중합체 이중 패터닝을 이용한 금 나노선 투명전극 제작 (Fabrication of Gold Nanowire Transparent Electrodes Utilizing Block Copolymer Double Patterning)

본 논문은 블록공중합체 나노리소그래피 기술을 이용한 금 나노선 투명 전극의 제작 및 특성 분석에대해 다룬다. 블록공중합체 수직배향 라멜라 구조를 나노템플릿으로 활용하여 리프트오프

논문 | 7페이지 | 무료 | 등록일 2025.05.23 | 수정일 2025.05.26

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LC 공진형 압력 센서를 이용한 돼지 경골 동맥의 실시간 혈압 측정 (Real-time Blood Pressure Monitoring in Porcine Tibial Artery Using LC Resonant Pressure Sensor)

되었다. 센서 구조는 포토리소그래피를 이용, 위 아래기판에 형성된 두 개의 인덕터와 두 인덕터 사이 형성된 갭에 의해 만들어진 커패시터로 구성되어진다. 제작된 센서들은 740

논문 | 6페이지 | 무료 | 등록일 2025.06.01 | 수정일 2025.06.05

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A+화학레포트(나노입자의 합성)

적으로 기판 위에 일정한 크기와 모양의 소자를 깎아 만드는 장치)를 이용하여 작은 크기의 소자를 만드는 방법이 여기에 속한다.-Top-down 방식의 대표는 리소그래피(전사기법) 기술 ... 하게 하는 나노리소그래피 기술이 개발되었다. 나노리소그래피는 통상 레지스트라고 하는 재료에 먼저 미세 패턴을 만들고, 그것을 다양한 방법으로 전사하여 나노 구조를 만들어내는 것이 ... 다. 레지스트에 나노 영역의 패턴을 형성하기 위해서는 X선 리소그래피(X-ray lithography)나 전자빔 리소그래피(electron beam lithography)가 이용

리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2019.12.27 | 수정일 2021.01.03

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한권으로 읽는 나노기술의 모든 것 독후감

기술은 이미 존재하는 거시 물질에서 출발하여 점차적으로 크기를 축소해 가면서 원자나 분자 크기의 나노 구조물을 제작하는 방법이고 대표적으로 반도체 제조 공정 기술인 ‘리소그래피 ... 는 방법을 리소그래피라고 한다. 한마디로 리소그래피는 복잡한 회로의 본을 떠서 실리콘 기판위에 똑같은 형상을 반복하여 찍어 내는 방법이다. 한편 상향식의 대표적인 방법은 자연에 존재

리포트 | 1페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.02.27

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세미콘 코리아 강연내용을 요약한 파일입니다.

Semiconductor Industry- ASML이란포토리소그래피는 기판위에 빛으로 반도체의 패턴을 그리는 기술. 이 반도체 공정 장비를 만드는 회사가 바로 ASML이다. 중요한 것은 패턴 ... 을 찍고, 결함을 계측하고, 수정하는 역할을 한다.ASML은 1984년 네덜란드에서 반도체 공정의 핵심장비인 리소그래피 생산 기업으로 설립된 이래현재 세계에서 가장 규모가 큰 광학 ... 리소그래피 공정 장비를 공급하는 네덜란드계 기업입니다.- ASML의 직군포토 장비를 만드는 회사이기 때문에 장비에 문제가 생기기 마련이다. 이러한 장비는 쓰다보면 문제가 생기

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.04.16

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격자 볼츠만 방법을 이용한 액적거동 연구 (Lattice Boltzmann Study on Droplet Behavior)

과 미끄러짐 각을 모사하고 이 결과를 바탕으로 딥 펜 나노리소그래피(dip-pen nanolithography)에서 중요하게 여겨지는 탐침과 기판 사이에 형성되는 물 메니스커스

논문 | 5페이지 | 무료 | 등록일 2025.06.06 | 수정일 2025.06.09

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판매자 표지

[고분자재료실험] PDMS를 이용한 미세접촉 인쇄

을 사용하여 기판의 표면에 잉크의 자기 조립 단일 층 (SAM) 패턴을 형성하는 부드러운 리소그래피의 한 형태더 나아가기 : 기판 = ① IC를 만들기 위한 실리콘의 박판.② 유리천

리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2019.09.30

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photolithography

을 응용한 것이어서 포토리소그래피라고도 한다. 감광성 수지를 도포한 기판에 포토마스크(원판)를 통해 자외선을 조사하면 포토마스크에 새겨진 IC의 패턴이 포토레지스트에 전사된다. 1m

리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.06.28

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MEMS관련 기술 논문 분석

와 증류수의 접촉각을 측정하여 표면구조가 없을 때보다 투과도 및 접촉각이 증가함을 확인하였다.이기중, 신용범, 조나래 (2014). 희생층과 UV 나노임프린트 리소그래피를 이용 ... 하면 유기용메에도 메탈을 쉽고 빠르게 lift-off 할 수 있다.김진승, 조중연, 이헌 (2012). 나노임프린트 리소그래피를 이용한 나노 패턴 사파이어 기판 제작과 이를 이용 ... 한 청색 LED의 효율 향상 연구. 한국표면공학회.기존의 청색 발광 다이오드의 성능 향상을 위하여 도입된 공정인 패턴 된 사파이어 기판(PS, paterned sapphire substrate) 제작 공정은 포토리소그래피 및 식각 공정이 요구된다.

리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.11.22

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