lcd 개론

소개

lcd 개론입니다
한페이지에 4장씩 해서 5장
즉 20페이지입니다

목차

액정 (Liquid Crystal)의 특성
액정 배향 분포 계산
Passive Matrix Driving
TFT LCD의 구조
Passive Matrix Driving
BCE TFT-Array 제조 공정: 5-Mask
Sputtering
Photolithography
PECVD
Etching

본문내용

Sputtering

금속막 및 투명전극의 박막 증착에 사용
• 원리: Ar 가스에 플라즈마 방전을 일으켜 이 때 생성되는 Ar+ 이온으로 target 금속(증착 물
질)을 sputtering 시켜, Sputtering된 원자들은 상호 충돌과 간섭을 통하여 가진 에너지를 소
모하고 유리 기판 표면에서 상호 결합하여 박막 형태로 성장. (통상적으로 RF 방전 이용)
• Magnetron Sputtering 방법: DC Plasma 이용. Target의 둘레와 뒷 쪽에 자석을 설치하여
Magnetic Field 가 Secondary Electron 을 격리시켜 sputtering이 원할히 일어나도록 함.
• Reactive Sputtering: 증착 중에 Chamber내에 Reactive Gas를 주입시켜 Target으로부터
Sputtering 되는 원자들과 주입된 Gas들이 반응하여 Layer별로 화합물이나 Oxide 막을 증착.

Photolithography

• Mask에 그려진 Pattern을 박막이 증착된 Glass위에 전사시켜 원하는 패턴을 형성함.
• 공정 순서:
감광액 도포(Photh Ressist : PR Coating)

참고자료

· 없음