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[디스플레이공학] 고분자 OLED재료의 최신 기술동향

"[디스플레이공학] 고분자 OLED재료의 최신 기술동향"에 대한 내용입니다.
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한컴오피스
최초등록일 2004.11.17 최종저작일 2004.10
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[디스플레이공학] 고분자 OLED재료의 최신 기술동향
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    목차

    1. 서론
    ꋫ 현재의 display 기술 현황
    ꋫ OLED의 장점과 가능성

    2. 본론
    (1) OLED의 기본 원리와 구조
    a. OLED의 구동 원리
    b. OLED의 구조

    (2) 단분자 OLED재료와 고분자OLED 재료의 비교
    a. 단분자 재료의 기술 현황과 장, 단점
    b. 고분자 재료의 기술 현황과 장, 단점

    (3) 고분자 발광 재료에 관한 최신 기술
    a. DNA를 이용한 발광소자 연구
    b. 기존의 고분자 재료들을 이용한 OLED 소자 연구 현황

    3. 결론
    (1) 고분자 OLED 소자의 과제
    (2) 고분자 OLED의 전망
    ■ 참 고 문 헌

    본문내용

    분자 전기발광소자의 최적 구조는 <그림 11>에 나타낸 것과 같다. 초기에는 주로 발광층만을 투명전극이 coating된 기판 위에 spin coating 등과 같은 습식법으로 coating하여 소자를 제작하였으나 켜짐 전압, 휘도, 그리고 효율을 최적화시키기 위해서 3층 이상의 구조로 개선하였다. Buffer layer는 cathode의 불균일한 표면을 평탄하게 만들어 발광층과의 접착력을 개선할 뿐만 아니라 단분자 유기 전기 발괄소자의 정공 수송층과 동일한 역할을 한다. <그림 12>에 에너지 띠 구조를 나타내었다. 발광 과정은 단분자 유기 전기발광소자와 거의 유사하다.
    일반적으로 고분자는 반복단위인 단분자가 공유결합에 의하여 수십에서 수백 개가 서로 연결되어 있기 때문에 단분자에 비해서 박막 형성이 용이하며 내 충격성이 큰 장점이 있기 때문에 유기 전자발광소자와 같이 초박막을 이용하는 전자 및 광학 소자에 가장 적합한 재료 중의 하나이다. 그러나 이러한 장점이도 불구하고 여전히 해결해야 할 문제점 들이 남아있다. 특히 완충층을 습식으로 coating한 후 다시 발광층을 만들기 위해서 발광 고분자를 담은 용액을 완충층 위에 coating할 때 용매에 의하여 완충층이 녹거나 미세하게 부푸는 경우가 발생하게 된다. 이러한 현상을 방지하기 위하여 완충층을 녹이지 않는 용매를 선별해야만 한다. 그러나 완충층의 구성성분이 가교결합 등에 의한 불용성이 아닌 경우 대부분 상처를 입게 되므로 기본적인 소자는 제작할 수 있으나 상용화 할 수 있는 정도의 안정성은 부족하다. 또 다른 문제점은 습식 coating 후 남아 있는 미량의 용매 분자이다. 일반적으로 고분자 용액을 사용하여 박막을 제조할 경우 고분자의 종류 및 분자량에 따라서 다르지만 높은 온도 및 진공을 사용하여 건조하여도 사슬에 끼어 있는 일정량의 용매 분자는 제거하기 어렵다. 다행히 이러한 조건에서도 제거가 되지 않기 때문에 소자를 제작한 후 구동하여도 남아 있는 소량의 용매 분자가 큰 영향을 주지 않을 수도 있지만 용매 분자와 고분자 사슬은 단지 약한 분자간력에 의하여 물리적으로 결합하고 있기 때문에 오랜 시간에 따른 완화거동이 발생할 경우 소자의 long-term- lifetime에 치명적인 영향을 주게 된다.

    참고자료

    · 13) http://lget.ups-tlse.fr/weblgetgb/labo/domaines/materaux/destruel/diodes
    · 14) http://www.iae.re.kr/english/news/98040eld
    · 15) http://www.universakdisplay.com
    · 16) http://itri.lotola.edu/displays/c4-slb.
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