나노고분자 중간고사 대비 총정리 자료(3개년 족보 참고)

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1. Photolithography, photoresist
PR은 고분자, 용매, 감광제, Other additive로 구성된다. 고분자는 플라스틱과 같이 고체로 이루어져있고, 용매는 도포의 용이성을 지니고, 고분자를 용해하여 용액으로 만들어야 한다. 감광제는 PR이 빛을 받고 현상액에 용해에 잘되거나, 용해가 되지 않는 것을 의미한다. Other additive는 상황과 목적에 따라 달라진다.

2. Photolithography에 사용되는 기기, 장비(mask aligner, mask, spin coater)
contact aligner는 포토레지스트와 mask간 공간이 없이 거리가 가까워 빛의 회절의 영향을 적게 받는다. 따라서 원하는 패턴을 구현하기 쉬우며, 작은 패턴에 유리하다. 하지만 mask를 붙이고 떼는 과정에서 결함이 발생할 수 있다는 단점이 있다.

참고자료

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