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[나노가공] Nano Technalogy(나노공학)

*해*
최초 등록일
2004.10.01
최종 저작일
2003.10
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소개글

나노 관련 기술에 대하여 그중 나노 형상가공 기술에 관한 레포트 혹은 발표자료입니다.

목차

나노형상가공기술
lithography
Optical Lithography(OL)
EPL & PXL & IPL
Comparison of NGL Technologies
EUVL 원리 및 시스템 구성
EUVL Process
EUVL System
EUVL 의 장점
EUVL 의 단점
State of the Art Technologies for EUVL
해외 개발 현황 (U.S.A)
해외 개발 현황 (Japan)
해외 개발 현황 (Europe)

본문내용

-나노형상가공 기술의 혁신(EUVL)
파장 13.4 nm EUV 이용
EUV는 렌즈를 통과할 수 없으므로 거울의 반사를 이용하여 상을 축소
EUV 반사율을 극대화하기 위하여 모든 광학 소자에 다층박막 이용
빛을 사용하는 점에서 광학적 노광의 기술적 연장
35 nm 이하에서도 사용 가능

참고 자료

http://seraphim.snu.ac.kr/upload/samsung/2001/lithography.pdf
http://www.euvl.com
http://www-us-east.intel.com
http://computer.howstuffworks.com/euvl3.htm
http://diamond.kist.re.kr/SMS/seminar/chung-ohp.ppt
http://nano.postech.ac.kr
국가 과학 기술 주요 추진시책 (과학기술부 2003.1)

자료후기(1)

*해*
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