정보디스플레이학과 광전자공학 4차 결과 보고서 Fabrication of CNT emitters as the an electron beam source, Fabrication of a phosphor, CNT 특성 관찰

목차

Ⅰ. 실험1 - Fabrication of CNT emitters as the an electron beam source
Ⅱ. 실험2 - Fabrication of a phosphor, CNT 특성 관찰
Ⅲ. 실험3 - Electron emission from CNT emitters & CL measurement

본문내용

실험1 - Fabrication of CNT emitters as the an electron beam source
1 실험 목적
CNT의 제작 과정을 이해하고, Photolithography 실습을 통해 해당 공정을 이해한다.
2 시약 및 장비
i. UV Source
Photo 공정에서 자외선을 이용한 Exposure를 해주기 위해서 필요한 장비이다. 코팅한 PR이 UV와 국부적으로 반응하게끔 마스크를 이용해서 선택적으로 제거해 패턴을 새기는, Photolithography 에서 매우 중요한 장비이다.
ii. Spin coater
박막을 형성하기 위해 진공으로 Substrate를 고정시킨 뒤, 용액을 떨어트려 회전시켜 박막을 형성하는 기구이다. 실험에서는 실리콘 웨이퍼에 PR을 코팅할 때 쓴다.
iii. AZ 300 MIF Developer
현상액이라고도 하며, 노광된 영역과 그렇지 되지 않은 영역의 PR을 선택적으로 제거하여 부분적으로 에칭을 가능하게 해주는 역할을 한다.
iv. Photo resist
포토 레지스트는 빛을 조사하면 화학 변화를 일으키는 수지를 말하며, 자외영역 가시영역 파장까지의 빛에 반응하여 용해, 응고의 변화를 일으킨다. 웨이퍼(wafer)에 포토 레지스트를 칠하고, 노광장치로 IC의 회로 패턴을 소부하여 약품으로 현상하면 빛이 닿은 부분 또는 닿지 않은 부분만 포토 레지스트가 남는다.
포토 레지스트는 전자 소자의 회로와 화상 형성 등에 사용되고 있으며, IC, LSI, 초 LSI의 미세하고 복잡한 회로 패턴 제작에 불가결한 재료의 하나이다. PR의 종류는 결론 및 고찰에서 조사하였다.
v. D.I water
De-Ionized Water의 줄임말로, 내부에 있는 이온들을 제거한 매우 순수한 물이다. 복잡한 공정을 거쳐 수중 오염 물질을 전부 제거한다. 불순물에 민감한 반도체 제조공정에서 광범위하게 사용하는 용액이다.

참고자료

· http://terms.naver.com/entry.nhn?docId=1595685&cid=50324&categoryId=50324
· http://terms.naver.com/entry.nhn?docId=869630&cid=42388&categoryId=42388
· http://blog.naver.com/kore2758_/221137836245
· https://en.wikipedia.org/wiki/Photolithography#Exposure_and_developing
· http://academic.naver.com/article.naver?doc_id=11648078
· http://iopscience.iop.org/article/10.1143/JJAP.46.867/meta
· https://blog.naver.com/yeb_kevin/220893826949