· 1.H. M. Manasevit, Appl. Phys. Lett. 12(1968), p.156 2. R.D . Dupuis and P.D. Dapkus, Appl, Phys. Lett. 31(1977). p.466
· 3. R. D. Dupuis P. D. Dapkus, N. Holonyak, Jr.,and R.M. Kolbas, Appl. Phys. Lett.35(1979), p.487
· 4. S. D. Hersee and J. P. Duchemin, ann, Rev, Mater. Sci. 12(1982), p.65
· 5. For an extended reference see P. D. Dapkus, in Gallium Arsenide Technology edited by D. K. Ferry, SAMS(1985), p.79
· 6. H. M. Manasevit, J. Cryst, Growth 55(1981), p.1
· 7. M. Yoshida, H. Watanabe, and f. Uesugi, J. Electrochem Soc. 132(1985), p.677
· 8. J. Nishizawa and T. Kurabayashi, J. Electrochem. Soc. 130(1983). p.413
· 9. D. Mazzarese, A. Tripathi, W. C. Conner, K. A. Jones, L. Calderon, and D. W. Eckart, J. Electron. Mater. 18(1989). p.369
· 10. Alfa CVD catalog
· 11. P. D. Dapkus, H. M. Manasevit. K. L. Hess, T. S. Low, and G. E. Stillman, J, Cryst. Growth 55(1981), p.10
· 12. L. J. Giling, J. Electrochem, Soc. 129(1989), p.634
· 13. D. H. Reep and S. K. Ghandhi, J. Electrochem, Soc. 130(1983), p.675
· 14. Watanabe, J. Appl. Phys. 20(1981), p.429
· 15. Abei, Appl, Phys. Lett. 44(1984), p.1056
· 16. J. P. Duchemin, M. Bonnet, F. Koelsch, and D. Huyghe, J. Electrochem. Soc. 126(1979), p1134
· 17. A. Taguchi and S. Yamada, J. Appl, Phys. 61(1987), p.2412
· 18. M. Bazaquen, K. Miazuruk, D. Walsh, A. J. Springhtorpe, and C. Mater. 16(1987), p.111
· 19. B. J. Skromme, T. S. Low.l T. J. Roth, G. E. Stillman, J. K. Kennedy, and J. K. Abrokwah, J. K. Abrokwah, J. Electron Mater, 12(1983), p.433
· 20. B. J. Skromme, G. E. Stillman, J. D. Oberstar, and S. S. Chan, J. Electron, Mater. 13(1984), p.463
· 21. K. Hess, N. Stath and K. W. Benx, J. Electronchem. Soc, 121(1974), p.1208
· 22. W. G. Jeong, Ph. D. Dissertation, University of Southern Califernia, USA(1990)
· 23. T. Fukui and Y. Horikoshi, Japan, J. Appl. Phys. 19(1980), L395
· 24. G. B. Stringfellow, J. Cryst, Growth 70(1984), p.133
· 25. M. L. Ludowise, J. Appl. Phys. 58(1985), R31
· 26. W. Kern and V. S. Ban, in Thin Film Process, edited by J. Vossen, W. Kern, Academic Press (1978), p.257
· 27. M. Razeghi and J. P. Duchemin, J. Vac. Sci. Technol. 1(1983), p.265
· 28. R. M. Biefeld J. Cryst. Growth 56(1985), p.382
· 29. N. Holonyak, Jr., W. D. Lsidig, M. D. Camrsd, K, Hess, M. S. Burroughs, J. J. Coleman, and P. D. Dapkus, J. Appl. Phys. 52(1981), p.6777