반도체 폐수 중 불산폐수 처리

소개

산업폐수 중 많은 부분을 차지하고 있는 반도체폐수에 대해 알아보고,
더 나아가 반도체 폐수 중 불산폐수에 대해 알아보도록 한다.

목차

1. 반도체의 정의와 활용

2. 반도체의 제조공정

3. 반도체폐수의 발생 및 특징

4. 불산폐수

본문내용

3. 반도체 폐수의 특징 및 발생
반도체 폐수의 특징
① 다양한 화학약품 사용으로 인한 다양한
화학물질 배출
② 높은 pH, T-N, F농도
③ 연마, 도금, 납땜 공정으로 인한 금속
찌꺼기 유입

반도체 제조 공정에서 발생되는 폐수

고농도 실리콘 함유 폐수
불소 화합물 폐수
중금속 함유 폐수
유기성 폐수

4. 불산 폐수
<불산 폐수의 원인>
각 공정진행 후 기판 표면에 부착된 입자, 금속불순물, 유기오염물 및 불필요한 산화 표면막 등을 기판에 아무런 영향 없이 깨끗하게 제거하기 위해 불산을 사용하며 이에 따라 많은 양의 불산 폐수가 배출되게 된다.

▶그런데 왜 불산을 사용할까?

불산(HF)의 이용
반도체산업에서 wafer 및 glass 등의 원재료를 세정하고 표면에 증착 및 현상, 식각 공정에 많은 양의 불산(HF)을 이용하고 있다.

불소가 사람에게 미치는 영향
불소는 환경기준치인 1.5ppm 이상의 농도를 사람이 장기간 흡입하였을 경우에 뼈와 골격에 불소 침착증, 뼈 연화증 반상치, 신경학적인 손상을 입히게 되므로
불소제거는 반드시 필요하다

참고자료

· http://www.hynix.com/webzine/201101/info05.jsp