ZnO를 이용한 TTFT와 그 활용

소개

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목차

서 론

1. 투명 전도 산화물이란?
2. 투명 전도 산화물의 종류
3. Si TFT와 산화물 TFT의 비교
4. ZnO 선정 이유

본 론

1. ZnO 의 특성
2. 박막 트랜지스터란?
3. P형 N형 반도체
4. TTFT의 원리
5. TTFT의 공정
6. TTFT의 활용 분야
7. 투명 디스플레이 제작 과정
8. 투명 디스플레이의 활용

결 론

참 고 문 헌

본문내용

서 론
1. 투명 전도 산화물(TCOs)
투명 전도산화물(Transparent conducting oxides, TCOs)의 정의는 일반적으로 105Ω-1㎝-1의 전도도, 가시영역에서 80%이상의 투과성, 3eV이상의 밴드갭을 가지는 재료로써, 전기 전도도와 가시광 영역에서의 투과성이 비교적 높아서 전기적, 광학적 재료로 관심을 받아왔고, 다년간 연구 대상이 되어왔다. 주로 태양전지 (solar cell), 평판 디스플레이 (flat panel display, FPD), 액정 디스플레이(liquid crystal displays, LCD)등에 이용되는 투명 전도 산화물 (TCOs)는 그 외에도 여러 분야에 응용되어 사용되고 있다. 투명 전도 산화물 (TCOs)는 전기전도에 기여하는 운반자의 종류에 따라 n타입과 p타입으로 구분할 수 있다.

2. 투명 전도 산화물의 종류
투명전도산화물 (TCOs)는 Cd metal 박막을 첫 보고한 1907년 이래로 Al-doped ZnO, GdInOx, SnO2, F-doped In2O8 등대부분의 연구가 금속 산화물로 이루어진 n타입 반도체들에 집중되어 왔다. SnO2, In2O8와 같은 이성분계 화합물로 이루어진 투명전도산화물 (TCOs) thin film은 오래 전부터 CVD, PVD에 의해 발전되어 왔고 Cd2SnO4, CdSnO8 그리고 CdInO4와 같은 이성분계, 삼성분계 화합물들이 1980년대에 우선적으로 발전되어왔다. 그러나 1960년 이래 광전 디바이스용으로 가장 널리 사용된 것은 ITO (Tin-doped Indium Oxide)이다.

참고자료

· 투명전자소자의 기술 동향/황치선/2007
· 투명디스플레이 기술 동향 및 전망
· /박상익/2010
· 산화물 반도체 TFT를 이용한 투명 디스플레이기술/정승묵,조두희
· /한국진공학회 /2010
· 산화물 트랜지스터를 이용한 투명 디스플레이/방상희,유민기/대한전자공학회
· /2010
· 투명 박막 트랜지스터 제조공정 및 특성 평가 연구/이성용/2010
· AI-doped zinc oxide 투명 전도성 박막 을 전극으로 사용한 투명 트랜지스터 제 작에 관한 연구/송영욱/2010