포토리소그래피(PhotoLithography)발표자료

소개

자료가 깔끔하고 정리가 잘되어있습니다.

목차

Photolithography 의 정의
Photoresist 의 정의
PhotoMask
PhotoLithography Process
PhotoLithography Application

본문내용

- 얻고자 하는 패턴의 Mask를 사용.
- 빛을 선택적으로 PR에 조사함으로써 Mask의 패턴과 동일한 패턴을 형성.
- 화학 또는 플라즈마 식각을 사용.
- 일반사진의 필름에 해당하는 Photoresist를 도포하는 PR 도포공정.
- Mask를 이용하여 선택적으로 빛을 조사하는 노광공정.
- 현상액을 이용하여 빛을 받은 부분의 PR을 제거하여 패턴을 형성시키는 현상공정.
< PhotoLithography 의 정의 >
특정한 화학약품(PR) 이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리
Photoresist로부터 Wafer 표면의 장벽층으로 패턴을 옮김.
PhotoLithography 공정의 구성.
1
Photo
(광)
Litho
(돌)
Graphy
(그림)
Mask 의 Pattern을 Wafer 표면에
옮기는 공정.
< PhotoLithography 의 정의 >
1
< PhotoResist 의 정의 >
2
화상형성용의 사진식각(Photoetching)에 사용되는 감광성 고분자.
반도체 제조 시 원판 표면 위에 미세한 회로를 그리기 위하여 사용되는 액체.
- 빛에너지에 의해 분해 또는 가교 등이 일어나 용해 특성이 변화하는 물질.
Micron이나 Micron 이하의 미세형상 구현이 요구되는 재료.
- 반도체, LCD, 인쇄 분야, 인쇄 회로기판분야.
- 정밀 가공 금속, 유리 제품 제조 등 산업 전반에 널리 이용.
< PhotoResist 의 정의 >

참고자료

· < 동영상 >
· http://www.youtube.com/watch?v=9x3Lh1ZfggM
· http://www.youtube.com/watch?v=Jdn1ndJBY1
· http://www.youtube.com/watch?v=KKdBzjL-ZiU
· < 관련 도서 >
· 공업재료가공학 (PEARSON)
· Serope Kalpakjian, Steven R. Schmid 지음
· 김낙수 옮김
· 제13장 미소전자기계기구와 나노가공
· - 13.7.1 포토리소그래피 (PhotoLithography)
· < 인터넷 >
· www.hansols.com
· http://www.naver.com <지식인>
· http://cafe.naver.com/endoftech/303 <카페>
· http://cafe.naver.com/mctnet/383 <카페>
· http://blog.naver.com/ioyou64/130009639856 <블로그>
· http://blog.naver.com/kkami7 <블로그>