나노제작기술에 대한 레포트

소개

나노제작기술에 대해 여러가지 예를 들어 쓴 레포트 입니다

목차

○ 현재의 나노 제작 기술의 종류
○ 소프트 리소그래피
○ 탄성 스탬프 제작
○ 미세 접촉 인쇄법
○ 모세관 미세 몰딩법
○ 딥펜 리소그래피
○ 각종 리소그래피의 장단점
○ 해결 방안

본문내용

○ 현재의 나노 제작 기술의 종류
⑴ 기존방식의 포토 리소그래피
- 크롬층과 유리기판의 맨 위에 놓인 감광 고분자 막 위에 레이저 빔으로 마이크로 칩 의 회로 패턴을 기록한다. 고분자에 레이저 빔을 쏘면 그 부분을 선택적으로 제거할 수 있다.
- 고분자가 제거되면서 노출된 크롬 부분도 제거하고, 남은 고분자 부분을 분리해 낸다. 이렇게 만들어진 결과물이 사진을 만들 때 인화용 원판에 해당하는 마스크이다.
- 자외선을 마스크에 직사하면 빛은 크롬 내의 틈을 통과한다. 렌즈는 실리콘 웨이퍼 위의 포토레지스트에 빛의 초첨을 모아 패턴을 축소시킨다.
- 포토레지스터의 노출된 부분이 제거되면서, 실리콘 칩 위에 축소된 패턴이 복사된다.
⑵ 기본 포토 리소그래피 방식의 한계
- 기존 공정에 사용하는 자외선의 파장 250nm : 250nm의 반보다 작은 간격은 회절로 인하여 일반적으로 실패한다.
- 100nm이하의 구조물을 제작 가능하게 특별히 고안된 포토리소그래피 장비는 수천만, 수억 달라에 해당하는 고가 장비이다.
○ 소프트 리소그래피
탄성 스탬프(elastic stamp)를 이용한




⑷ 딥팬 리소그래피
- AFM의 팁으로 금박막 위에 티올 분자의 박막을 입힌다.
- 상대적으로 느리지만, 여러 가지 다른 형태의 분자를 잉크로 사용해서 nm크기를 기 록 한다.
○ 해결 방안
나노 기술은 한층 더 나아가 우리가 사용할 기계와 회로가 저절로 성장하도록 하는 자기조립(Self assembly) 기술을 발전시키고 있다. 생명체에 들어있는 단백질은 만들어진 후 저절로 꼬이면서 제대로 된 기능을 실행 시키게 된다. 이 과정을 설명하여 우리가 만드는 반도체 회로나 기계들이 저절로 조립된다면 자기조립 과정은 너무 작은 세계를 우리가 직접 다루는 것이 힘들기 때문에 대량 생산을 위해서는 반드시 필요한 제작 공정이 될 것이다.
대부분 Top-down 방식으로 이루어진 리소그래피는 소자의 한계크기가 제한되어 있어 Bottom-Up 접근방식이나 아니면 또 다른 방향에서나 이런한 방식을 대체할 수 있는 실용성을 가진 대안이 제시되어야 하며, 이를 위해서는 기초재료분야, 전기전자 공학분야, 물리화학분야 등 다양한 분야에서 지속적인 연구가 수행되어야 하고 제정적으로도 많은 뒷받침이 있어야 할 것이다.

참고자료

· 없음