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[재료공학부] 주사전자현미경(Scanning Electron Microscopy)을 이용한 조직 분석 및 X-ray회절

금속공학과 학생들은 한번쯤 보시면 도움이 될겁니다..
6 페이지
한컴오피스
최초등록일 2002.03.25 최종저작일 2002.03
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[재료공학부] 주사전자현미경(Scanning Electron Microscopy)을 이용한 조직 분석 및 X-ray회절
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    소개

    금속공학과 학생들은 한번쯤 보시면 도움이 될겁니다..

    목차

    Ⅰ. 제목
    Ⅱ. 서론
    Ⅲ. 실험 목적
    Ⅳ. 이론
    1. TEM
    2. SEM
    3. 주사전자현미경의 원리
    4. 주사전자현미경의 구조
    5. SEM 의 응용
    Ⅴ. 실험 기구 및 재료
    Ⅵ. 실험 방법
    Ⅶ. 실험결과 및 검토

    본문내용

    Ⅱ. 서 론
    주사전자현미경은 물체의 절단면 미세구조를 관찰하기 위한 목적에서 제작된 현미경이다. 따라서 관찰하기위한 과정은 무생물 즉 유기물이나 금속의 경우는 금속입자를 鍍金하여 관찰하거나 아니면 금속의 경우 직접 관찰하고, 생물체의 경우는 고정, 탈수, 건조, 鍍金 그리고 관찰하는 것이 일반적으로 사용되어 왔다.
    그러나 1970년대 말부터 전자현미경의 생물시료에 면역항체를 이용하여 금속입자를 표지하고 단백질의 세포내 존제와 분포 및 이동경로를 확인하는 방법이 계발되어 투과전자현미경에 적용되어 왔다. 1980년대 부터 주사전자현미경에도 이방법이 적용되어 세포의 표면에 물질의 존제와 분포 및 이동경로를 확인하는 방법으로 현재 많이 사용되고 있다.
    특히 최근에는 세포배양기술이 발달되면서 배양세포의 표면미세구조의 관찰에 쉽게 적용 시킬 수 있으므로 많은 연구자들이 면역표지법에 특히 관심이 있다. 따라서 많은 연구자들이 SEM의 Immunolabling technique을 적용시키고 있는 것으로 알고 있다. 혹자들은 SEM과 TEM의 Immunolabling technique을 Immunoelectron Microscopy으로 사용하기도 하고 심한경우에는 면역전자현미경학이라고 까지 할 정도가 되었다. 그러나 본인의 생각으로는 전자현미경의 관찰에서 한가지 방법에 불과한 것을 전공학문으로 승격함은 다소 무지한 표현으로 여겨지며 Immunoelectron Microscopic technique(method) 혹은 Electron Microscopic Immunolabling technique(method)로 사용함이 정확할 것으로 생각한다.

    참고자료

    · 없음
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