Photo-lithography & Sputtering

소개

포토-리도그래피와 스푸터링..제조공정

목차

제조공정
1. 실험준비
2. Process Flow
3. 장비사진
4. 실험결과

본문내용

1. 실험준비
먼저 실험을 하기 전에 실험에 필요한 복장을 갖춘 후 실험실에 들어간 후 실험에 필요한 도구들을 깨끗이 청결하게 유지하는 것이 가장 중요하다고 하였기에 실험 전에 초순수물로 깨끗이 세정을 한 후 물기가 마르기 전에 에어브러쉬로 워터마크가 남지 않게 깨끗이 닦고 실험에 임하였습니다.

2. Process Flow
ⅰ) Cleaning
-Photo 공정은 먼지 등에 매우 취약하기 때문에 실험전에 실험복을 입는 것은 물론이고 실험 재료 역시 초순수물로 깨끗이 씻고 실험에 임했습니다.

ⅱ)Pre-bake
-초순수물로 세척을 한 후 에어브러쉬로 말리기는 했으나 Glass의 표면에 남아있는 수분을 제거 하기 위해서 Hot plate 를 이용하여 물기를 제거 했습니다.

ⅲ)Spin Coating
-Glass 위에 평탄하고 균일한 두께의 PR 막을 얻기 위해서 coater 위에 Glass를 올려놓은후 PR을 떨어뜨린 후에 Glass가 약5000rpm 정도로 회전을 하면서 PR코팅을 Glass 위에 균일한 두께로 코팅하는 모습을 직접 볼 수 있었습니다.

ⅳ)Soft-bake
-PR에 남은 용제를 Hot Plate 위에 올려놓아서 제거함으로써 끈적거림이 없어지고 PR이
굳어지게 되며 광반응이 잘 일어나도록 합니다.

ⅴ)Align & Exposure
-기판위의 PR막에 원하는 Pattern 을 mask 하는 작업이며 원하는 Pattern을 정확하게 원하는 위치에 만들기 위해서 Align 작업을 거쳐서 완전히 원하는 위치에 기판을 고정 시킨 후 약 3.5초 동안 UV를 방출하게 됩니다.

참고자료

· 없음