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증착시간에 따른 미세결정질 실리콘 박막의 물성연구

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최초등록일 2025.07.04 최종저작일 2006.01
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증착시간에 따른 미세결정질 실리콘 박막의 물성연구
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    서지정보

    · 발행기관 : 한국물리학회
    · 수록지 정보 : 새물리 / 52권 / 1호 / 45 ~ 49페이지
    · 저자명 : 이규현, 윤종환

    초록

    본 연구에서는 다량의 아르곤 ($Ar$)으로 희석된 사일렌 ($SiH_4$)
    가스를 사용하여 플라즈마 화학 기상 증착 (PECVD)에 의해 미세결정질
    실리콘 박막을 제조하였으며, 증착시간에 따른 박막의 물성을
    광루미네슨스, 암전기전도도, Raman 및 투과전자현미경 (TEM)을
    이용하여 연구하였다. 증착시간이 증가 할수록 결정질 상에 의한
    물리적 특성이 우세하게 나타나는 거동들이 관측되었다. 활성화
    에너지의 감소, 0.9 eV 근처의 광루미네슨스의 증가 및 520
    ${cm}^{-1}$ 근처의 Raman 세기의 증가. 또한 단면 TEM 측정 결과
    결정질 상은 역 원뿔 형태로 성장하는 거동을 나타내었다. 증착시간의
    증가에 따른 박막의 물리적 특성 변화는 결정질 상이 역 원뿔 형태로
    성장함에 따라 박막내의 결정질상의 체적 비율이 높아지기 때문으로
    이해된다.

    참고자료

    · 없음
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