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비정질 실리콘 MIS 소자에서 홀 캐패시턴스의 광 의존성 (Illumination Intensity and Spectral Dependence of the Hole Capacitance of Amorphous Silicon in Metal-insulator-semiconductor Structure)

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최초등록일 2025.05.29 최종저작일 2008.05
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비정질 실리콘 MIS 소자에서 홀 캐패시턴스의 광 의존성
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    서지정보

    · 발행기관 : 한국물리학회
    · 수록지 정보 : 새물리 / 56권 / 5호 / 444 ~ 450페이지
    · 저자명 : 방극정, 박혁렬

    초록

    수소화된 비정질 실리콘 MIS 소자에 대해 이 소자의 홀 C--V 특성이
    소자에 조사되는 광 세기와 광 에너지에 따라 어떤 반응을 보이는지를
    조사하였다. 조사에 사용된 시료는
    Glass/ITO/n$^{+}$--a--Si:H/a--Si:H/a--SiNx:H/Mo 순서의 역방향 MIS
    구조이다. 소자의 C--V 특성은 중간 주파수 (10 kHz $<$ f $<$ 1 Hz)의
    미소교류신호를 출력시키고 또 입사신호의 위상선별이 가능한
    주파수고정증폭기를 사용하여 측정하였다. 소자의 홀 C--V 특성은 조사
    광의 세기에 강한 의존성을 갖는다. 또한 비정질 실리콘 소자의 홀
    캐패시턴스 스펙트럼은 이 물질의 광흡수 스펙트럼과 비슷한 거동을
    보인다.이상의 결과들은 적절한 모형을 통해 설명하였다.

    영어초록

    We have investigated the illumination-intensity and the spectral
    dependences of the hole capacitance of hydrogenated amorphous
    silicon (a-Si:H). The samples used are
    Glass/ITO/n+-a-Si:H/a-Si:H/a-SiNx:H/Mo metal-insulator-semiconductor
    (MIS)-type devices. The hole capacitance had a strong dependence on
    the illumination intensity and showed spectral behaviors similar to
    those of conventional optical absorption spectra of a-Si:H films.
    These results can be explained through the defect-mediated
    generation-recombination model, which was used to explain the
    frequency and the temperature dependences of the hole capacitance of
    a-Si:H MIS devices.

    참고자료

    · 없음
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