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이온빔 보조 반응이온 마그네트론 스퍼터링으로 증착된TiO2 박막의 특성

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최초등록일 2025.05.17 최종저작일 2002.09
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이온빔 보조 반응이온 마그네트론 스퍼터링으로 증착된TiO2 박막의 특성
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    서지정보

    · 발행기관 : 한국진공학회
    · 수록지 정보 : Applied Science and Convergence Technology / 11권 / 3호 / 141 ~ 150페이지
    · 저자명 : 김성화, 이재홍, 황보창권

    초록

    낮은 산소 부분압과 긴 타깃-기판 거리에서 DC 반응이온 마그네트론 스퍼터링(reactive magnetron sputtering; RMS) 방법으로 TiO2 박막을 증착하였으며, 증착되는 박막에 end-Hall 이온 소스를 이용하여 아르곤 이온빔 보조 증착을 해 주었다. TiO2 박막의 광학적 특성은 분광광도계에서 측정된 투과율과 반사율 스펙트럼을 이용하여 분석하였고, 구조적 특성은 AFM과 XRD를 이용하여 분석하였다. 이온빔 보조 RMS 방법으로 증착된 TiO2 박막은 일반적인 RMS로 증착된 박막보다 조밀도가 높고, 흡수가 낮으며, 표면거칠기가 작았다. 본 연구에서는 이온빔 보조 RMS 방법이 유전체 광학박막 코팅에 적용될 수 있음을 보여준다.

    참고자료

    · 없음
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