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III-V 화합물 반도체 InSb의 전기화학적 제조 (Electrochemical Formation of III-V Compound Semiconductor InSb)

4 페이지
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최초등록일 2025.05.04 최종저작일 2005.08
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III-V 화합물 반도체 InSb의 전기화학적 제조
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    서지정보

    · 발행기관 : 한국전기화학회
    · 수록지 정보 : 전기화학회지 / 8권 / 3호 / 135 ~ 138페이지
    · 저자명 : 이정오

    초록

    본 연구에서는 구연산 수용액 전해질을 제조하여 전기도금 방식에 의해 III-V족 화합물 반도체 InSb를 전기화학적으로 합성하였다. 본 연구에서 제조된 InSb는 기존문헌에서 보고된 바와 달리 EPMA 분석결과 In과 Sb의 조성비가 52:48로 화학양론을 정확하게 만족시키고 있고, XPS 분석결과 전해질내의 구연산의 농도가 1.2 M, pH가 4일 때 444.1 eV에서 InSb 화합물의 피크를 관찰하였으며 구연산의 농도가 1.2 M보다 낮거나 pH가 4보다 낮을 때는 InSb 화합물과 금속상태의 In이 혼재되어 있는 것을 확인하였다. 또한 XRD를 통하여 InSb(111)의 우선결정방위를 갖는다는 것을 확인하였고, I-V 특성 곡선 측정을 통해 InSb가 고유한 반도체 특성을 보임을 확인하였다.

    영어초록

    We investigated the electrochemical formation of a stoichiometric III-V compound semiconductor of InSb from an aqueous citric solution. Under an? optimized electrochemical condition, not like other research results, the electrodeposited InSb are satisfied exactly with the stoichiometry. Furthermore it retains the inherent characteristics of III-V compound semiconductor, InSb without heat treatment. EPMA, XPS and XRD were employed for confirmation of its composition/stoichiometry, chemical state, and crystallographic orientation, respectively.

    참고자료

    · 없음
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