UBM Sputtering System에 의한 TiN막의 색상과 경도에 관한 연구 (The Study of Color and Hardness of TiN Thin Film by UBM Sputtering System)

서지정보

· 발행기관 : 한국안광학회
· 수록지 정보 : 한국안광학회지 / 14권 / 1호 / 57 ~ 62페이지
· 저자명 : 박문찬, 이종근, 주경복

초록

목적: Magnetron의 세기를 비대칭으로 한 unbalanced magnetron sputtering 장치를 설계·제작하고 sus304시편 위 에 TiN박막을 증착하여 색상과 경도에 관한 연구를 하고자 한다. 방법: 증착된 박막표면의 화학조성을 양적으로 분 석하기 위하여 XPS high resolution scan과 curve fitting을 수행하였으며, 박막 표면의 경도를 측정하기 위해 nano indentation 장비를 이용하였다. 결과: 박막 두께가 두꺼워지면 박막의 색상은 처음에는 연한 금색, 시간이 지남에 따 라 어두운 금색, 연보라, 남색으로 바뀌었다. 두께에 따른 박막의 색상변화는 박막에 TiOxNy, TiO2, TiN과 같은 세 가지 화합물의 조성변화에 기인함을 알 수 있었으며, TiOxNy의 조성변화가 두께에 따른 색상변화에 가장 큰 영향을 미치는 것을 여겨졌다. 결론: TiN박막의 비커스 경도가 TiN의 일반적인 경도보다 수치가 작은 것은 박막이 TiN, TiO2, TiOxNy 세가지 물질 섞여 있기 때문이라고 여겨지며, 두께에 따른 박막의 경도가 점점 커지다가 줄어드는 것 은 두께에 따른 TiN 양과 밀접한 관계가 있음을 알 수 있었다.

영어초록

Purpose: TiN films were deposited on sus304 by unbalanced magnetron sputtering system which was designed and developed as unbalancing the strength of the magnets in the magnetron electrode. The color and hardness of deposited TiN films was investigated. Methods: The cross sections of deposited films on silicon wafer were observed by SEM to measure the thickness of the films, the components of the surface of the films were identified by XPS, the components of the inner parts of the films were observed by XPS depth profiling. XPS high resolution scans and curve fittings of deposited films were performed for quantitative chemical analysis, Vickers micro hardness measurements of deposited films were performed with a nano indenter equipment. Results: The colors of deposited films gradually changed from light gold to dark gold, light violet, and indigo color with increasing of the thickness. It could be seen that the color change come from the composite change of three compound, TiOxNy, TiO2, TiN. Especially, the composite change of TiOxNy compound was thought to affect the color change with respect to thickness. Conclusions: Deposited films had lower than the value of general TiN film in Vickers hardness, which was caused by mixing three TiN, TiO2, TiOxNy compound in the deposited films. The increasing and decreasing of micro hardness with respect to thickness was thought to have something to do with the composite of TiN in the films.

참고자료

· 없음