DC마그네트론 스퍼터 기술로 제조된 ITO/Cu/ITO 박막의 특성 (Characteristics on ITO/Cu/ITO Films Deposited by Using DC Magnetron Sputter Technology)

서지정보

· 발행기관 : 한국물리학회
· 수록지 정보 : 새물리 / 64권 / 11호 / 1077 ~ 1082페이지
· 저자명 : 김미정, 채영안, 박환열, 김현숙, 차덕준, 채영안

초록

DC 마그네트론 스퍼터링 공정으로 고성능 유기소자에 이용하기 위해 ITO/Cu/ITO 다층박막을 제작하였다. 저온 공정이었음에도 불구하고, ITO 단층박막 (R{sh} = 185 Ω/□, T = 81.3%)에 비해 아주 우수한 특성의 다층의 투명전극박막 (R{sh} = 5 Ω/□, T = 51.3%)을 얻을 수 있었다. 고분해능 X-선 회절분석기 (HR-XRD), 자외선-가시광선 분광광도계 (UV-Vis spectrophotometer), 전계방사형 전자 현미경 (FE-SEM) 장비를 이용하여 투명전극 박막의 전기적, 광학적, 구조적, 그리고 형상학적 분석을 하였다. Cu 중간층 두께가 증가할수록 전기전도도가 두드러지게 올라갔지만, 광 투과율은 꽤 감소한 결과가 나왔다. 박막의 성능을 평가하기 위해 면 저항과 광 투과율 데이터를 통해 Haacke’s 성능 수치 (figure of merit)를 계산하여 분석하였다. 이러한 결과는 ITO/Cu/ITO 다층투명전극이 고성능 유기소자의 양극으로서 이용될 수 있음을 암시한다.

영어초록

We investigated the characteristics of ITO/Cu/ITO multilayer electrodes grown by DC magnetron sputtering for advanced organic devices. In spite of the low-temperature process, very good quality, transparent, conducting thin films (R{sh } = 5 Ω/□, T = 51.3%) were achieved in comparison with ITO single-layer films (R{sh} = 185 Ω/□, T = 81.3%). Several analytical tools, such as high-resolution X-ray diffraction (HR-XRD), ultraviolet-visible spectrophotometry (UV-Vis), and field-emission scanning electron microscopy (FE-SEM) were used to examine the changes in the electrical, optical, structural, and morphological properties. The electrical conductivity remarkably increased with increasing Cu-intermediated-layer thickness. However, the optical transmittance decreased somewhat due to increased optical absorption in the Cu layer. To evaluate the performance of the thin film, we calculated Haacke’s figure of merit from the sheet-resistance and the optical-transmittance data. The result indicates that an ITO/Cu/ITO multilayer electrode can be used as a promising anode for advanced organic devices.

참고자료

· 없음