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KOH 용액 및 KOH-IPA 혼합용액에 의한 단결정 실리콘의 이방성식각 특성

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최초등록일 2025.04.09 최종저작일 2002.12
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KOH 용액 및 KOH-IPA 혼합용액에 의한 단결정 실리콘의 이방성식각 특성
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    서지정보

    · 발행기관 : 한국진공학회
    · 수록지 정보 : Applied Science and Convergence Technology / 11권 / 4호 / 249 ~ 255페이지
    · 저자명 : 조남인, 천인호

    초록

    이방성 습식 식각기술을 이용하여 멤버레인을 제작하기 위하여 KOH 용액 및 KOH-IPA 혼합용액을 사용하여 단결정 실리콘 기판을 식각하였다. 단결정 실리콘의 식각속도는 식각 용액의 온도와 농도에 좌우되었으며, 식각 용액의 농도에 따라 식각 형태와 패턴 형성 방향이 달라짐도 관찰되었다. 식각을 위한 표면패턴은 실리콘웨이퍼의 primary flat에 45 로 기울여 형성되었으며 KOH 의 농도가 20 wt%로 유지되었을 때, 식각 용액의 온도 80 이상에서는 U-groove, 80 이하의 온도에서는 V-groove 식각 형태가 형성되었다. 각 면에 대한 식각속도 차이에 의해서 생기는 hillock은 온도와 농도가 높아짐에 따라 현저하게 줄어들었다.

    참고자료

    · 없음
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