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숭실대학교 신소재공학실험2 다결정 박막 코팅 및 분석 결과보고서2025.01.211. 다결정 박막 코팅 및 분석 이 보고서는 다결정 박막 코팅 및 분석에 대한 실험 결과를 다루고 있습니다. 실험의 목적은 다결정이 무엇인지 이해하고, Spin-coater와 AFM 기계 사용법을 익히며, 단결정과 다결정의 구조 차이를 분석하는 것입니다. 실험 방법으로는 CsPbBr3 전구체 용액을 준비하고 Spin-coating 및 열처리를 진행했습니다. 실험 결과로 XRD, SEM, PL 데이터를 확인했으며, 단결정과 다결정의 XRD 패턴 차이, UVO 처리에 따른 박막 특성 변화 등을 분석했습니다. 1. 다결정 박막 코팅 및 ...2025.01.21
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[A+] 단국대 고분자공학실험및설계2 <박막 및 용액의 형광 측정 (Photoluminescence)> 레포트2025.01.221. 반데르발스 힘 반데르발스 힘은 분자 내 전자밀도의 순간적인 변화에 의해 생성되는 분자 간 약한 상호작용으로, 대부분의 화합물에서 나타난다. 상호작용의 크기는 분자의 표면력에 의해 결정되며, 표면력이 클수록 분자 간 인력이 커진다. 분자 간 거리가 짧을수록 반데르발스 힘의 크기가 증가한다. 2. 형광과 인광 형광은 들뜬 상태의 전자가 빠르게 바닥 상태로 돌아오면서 방출되는 빛이며, 내부 양자효율이 25%로 낮다. 인광은 triplet exciton을 활용하여 100%의 내부 발광 효율을 만드는 원리이다. 3. 광발광 (Photo...2025.01.22
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숭실대학교 신소재공학실험2 Oxidation 공정 결과보고서2025.01.211. ALD를 통한 TiO2 박막 형성 실험에서는 ALD 공정을 통해 p-type Si 기판과 p++-type Si 기판에 TiO2 박막을 형성하였다. 기판의 도핑 농도에 따라 증착된 박막의 두께가 달랐는데, 도핑이 적은 p-Si 기판에 비해 도핑이 많은 p++-Si 기판에서 상대적으로 박막이 얇게 형성되었다. 이는 도핑이 TiO2의 확산을 방해하거나 충돌을 유발하기 때문인 것으로 분석된다. 2. TiO2 박막 두께 측정 TiO2 박막의 두께는 Ellipsometry와 XRF 장비를 사용하여 측정하였다. 두 장비의 측정 원리가 다르...2025.01.21
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스퍼터링(Sputtering) 이론레포트2025.05.081. 스퍼터링 기법의 장점 스퍼터링 기법은 CVD 기법에 비해 저온 증착이 가능하며, 열에 약한 물질이나 고융점 물질에도 쉽게 박막을 형성할 수 있다. 또한 넓은 면적에서 균일한 두께의 박막 증착이 가능하고, 박막 두께 조절이 쉬우며 성분 조절이 용이하다. 하향 증착과 수평 방향 증착이 가능하고, 진공 증착 기법에 비해 박막의 순도가 높다. 2. 스퍼터링 기법의 단점 스퍼터링 기법의 단점은 증착 속도가 다소 느리고, Ar 이온이 타겟 표면과 화학 반응을 하여 화합물 층을 형성할 수 있어 증착 속도에 영향을 줄 수 있다. 또한 고전압...2025.05.08
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[실험설계] 은 나노의 회전속도에 따라 적층된 박막의 특성 분석2025.01.241. Property Analysis of Substrate formed by laminating Ag Nanowire and PEDOT: PSS on glass 이 실험은 Ag Nanowire의 회전속도를 달리하여 코팅하고 PEDOT:PSS는 회전속도를 4000으로 고정하여 기판 위에 적층한 후 3개의 박막의 특성을 비교하였습니다. 실험 결과, Ag Nanowire의 회전속도가 빨라질수록 박막의 두께가 얇아지고 투과도가 높아지지만 전도도는 감소하는 것을 확인하였습니다. 또한 PEDOT:PSS와 Ag Nanowire의 blend보다...2025.01.24
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Four-point probe법을 이용한 유/무기 전극의 전기전도도 측정 실험 (결과)2025.05.121. Four-point probe 방법을 이용한 전기전도도 측정 Four-point probe 방법을 이용하여 무기 박막(Ag)과 유기 박막(PEDOT:PSS + DMSO 5wt%)의 전기전도도를 측정하였다. 무기 박막의 경우 고유 저항은 2.426*10-8Ω·m, 전기 전도도는 0.412*108S/m로 나타났다. 유기 박막의 경우 스핀 코팅 속도에 따라 두께가 달라지며, 이에 따라 면 저항, 고유 저항, 전기 전도도 값이 변화하였다. DMSO 첨가로 인해 유기 박막의 전기 전도도가 크게 향상되었다. 2. 스핀 코팅을 통한 유기 ...2025.05.12
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전자기적특성평가_면저항 결과보고서2025.01.081. 박막 박막은 반도체 제조 공정에서 중요한 재료 중 하나이며, 두께가 나노미터에서 마이크로미터 범위의 얇은 막을 의미한다. 박막의 특성을 확인할 때 면저항은 가장 적합한 특성평가 방법이다. 실험을 통해 박막의 종류와 전기전도율, 비저항, 면저항의 이론을 이해하고 면저항과 비저항의 차이를 알아볼 수 있다. 2. ITO ITO(Indium Tin Oxide)는 산화인듐과 산화주석의 혼합물로 구성된 투명하고 전도성 있는 박막이다. ITO는 우수한 전기 전도성과 투명성으로 인해 다양한 전자기기와 광전자 응용 분야에 널리 사용되지만, 인...2025.01.08
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Film growth (반도체)2025.05.081. Epitaxy Epitaxy는 epi(위에) + taxis(배열)의 합성어로, 결정성 기판 위에 단결정 박막을 성장시키는 기술을 의미한다. 호모에피택시는 동일한 물질로 이루어진 기판과 박막을 사용하며, 헤테로에피택시는 서로 다른 물질로 이루어진 기판과 박막을 사용한다. 에피택시 성장에서는 격자 불일치로 인한 응력 완화와 임계 두께 등의 개념이 중요하다. 2. Molecular Beam Epitaxy (MBE) MBE는 초고진공 환경에서 분자 빔을 이용하여 반도체 박막을 에피택시 성장시키는 기술이다. MBE는 낮은 성장 속도, ...2025.05.08
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숭실대학교 신소재골학실험2 Deposition 공정 및 소자 제작 평가 결과보고서2025.01.211. MIS 및 MIM 커패시터 소자 이번 실험에서는 MIS(Metal-Insulator-Semiconductor) 구조와 MIM(Metal-Insulator-Metal) 구조의 커패시터 소자에 대해 이해하고, Evaporator와 Shadow mask를 활용하여 상부 전극을 증착하고 Probe station을 통해 전기적 특성을 평가하였습니다. MIS 구조에서는 p-Si 박막이, MIM 구조에서는 p++-Si 박막이 사용되었습니다. MIM 구조의 경우 절연체 역할을 하는 insulator로 인해 전하를 축적하고 유지하는 능력이 있...2025.01.21
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[A+ 보장] 일립소메트리의 실리콘 시편의 특성 분석 및 비교2025.05.111. 실험 결과 실험 결과 값은 2번 편광기의 각도를 10도씩 돌려서 측정한 출력 전압 값을 각도에 대비한 값으로 구하면 대부분 땅콩 형태의 모양이 나오게 된다. 출력 전압이 의미하는 것은 측정기기에 얼마나 많은 양의 빛이 들어갔는지를 의미하게 되고, 출력값이 원점에서 멀어질수록 빛을 많이 받았음을 알 수 있고 반대로 원점에 가까울수록 적은 량의 빛을 받았음을 알 수 있다. 가장 적은 양의 빛을 받은 부분은 p파가 가장 많이 투과된 지점으로 해석할 수 있다. 시편B에서는 출력 전압 값이 0에 가까운 부분이 보임을 확인할 수 있고 이...2025.05.11
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