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MEMS 개론 기말과제2025.01.161. MEMS 공정 MEMS 공정에는 패턴 정의, 첨가 공정(성층, 증착), 제거 공정(식각) 등이 있다. Bulk micromachining은 실리콘 기판 자체를 가공하여 원하는 구조체를 만드는 것이고, Surface micromachining은 실리콘 기판을 손상시키지 않고 표면의 얇은 막으로 구조체를 만드는 것이다. 이러한 MEMS 공정을 통해 작은 스케일의 특징을 파악할 수 있다. 2. Soft baking과 Hard baking Soft baking은 감광액 내 용매를 약 5% 제거하여 감광액의 밀도를 높이고 웨이퍼와의 접...2025.01.16
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U-헬스,U-시티의 현재와 미래2025.05.101. 유비쿼터스 컴퓨팅 유비쿼터스 컴퓨팅의 특징은 네트워크에 연결되지 않은 컴퓨터는 유비쿼터스 컴퓨팅이 아니며, 가상 공간이 아닌 현실 세계의 어디서나 컴퓨터의 사용이 가능해야 한다는 것이다. 2. SoC(System on Chip) SoC는 칩 자체가 하나의 시스템으로 가능할 수 있도록 정보통신 기기의 핵심 기능을 처리하는 메모리, 디지털 회로, 아날로그 회로, CPU, 센서, 안테나, 수동 소자 등을 하나의 반도체 칩에 집적하는 기술을 말한다. 3. MEMS 기술 MEMS 기술은 시스템뿐만 아니라 미세 구조, 센서, 구동 장치,...2025.05.10
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힘,변형,촉각 센서 개요(Force, Strain, and Tactile Sensors)2025.05.111. Force Sensors 힘 센서는 힘을 측정하고 전기 신호로 변환하는 장치입니다. 표준 질량의 중력과 미지의 힘 사이의 균형을 맞추거나, 질량을 알고 가속도를 측정하거나, 전자기적으로 생성된 힘에 대한 힘의 균형을 맞추거나, 힘을 유체에 대한 압력으로 변환하고 그 압력을 측정하거나, 미지의 힘으로 탄성체에서 생성된 변형률을 측정하는 등의 방법으로 힘을 측정할 수 있습니다. 대부분의 현대 센서에서는 힘이 전기 신호로 직접 변환되지 않으며, 힘-변위 변환기와 위치 센서 등의 센서 결합을 통해 제조됩니다. 2. Strain Gau...2025.05.11
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[A+] 단국대 고분자공학실험및설계2 <포토리소그래피> 레포트2025.01.221. 포토리소그래피 포토리소그래피(Photolithography)는 원하는 회로설계를 유리판 위에 금속패턴으로 만들어 놓은 포토마스크라는 원판에 빛을 조사하여 생기는 패턴을 웨이퍼 상에 전사시켜 복사하는 기술이며, 반도체 및 디스플레이의 제조 공정에서 설계된 패턴을 웨이퍼 상에 형성하는 가장 중요한 공정이다. 포토리소그래피 공정은 측정을 포함하여 기본 8단계로 이루어진다. 2. 포토레지스트 포토레지스트(PR)는 빛에 반응해 특성이 변하는 화학물질로, 디스플레이에서는 TFT에 미세한 회로를 형성하는 포토리소그래피 공정에 사용된다. 포...2025.01.22
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2023_아주대_기계공학기초실험_스트레인 게이지 측정_만점 결과보고서2025.01.221. 스트레인 게이지 스트레인 게이지는 가해지는 힘에 따라 저항이 변하는 센서입니다. 스트레스에 의해 변형이 발생하는 물체의 표면에 스트레인 게이지를 부착하면, 스트레인 게이지에는 이 물체와 동일한 양의 변형률이 발생합니다. 금속의 길이가 길어지면 전기 저항이 증가하고 짧아지면 감소하는 특성을 이용하여 힘, 압력, 무게 등에 의한 변형률을 저항 변화로 측정할 수 있습니다. 이를 통해 스트레인 게이지가 부착된 위치에서 변형을 측정할 수 있습니다. 2. 알루미늄 캔의 압력 변화 측정 탄산을 포함하는 알루미늄 캔은 내부의 이산화탄소로 인...2025.01.22
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[예비보고서]중앙대학교 전자회로설계실습 Oscillator 설계2025.05.101. Oscillator 설계 전자회로 설계 및 실습 예비보고서에서 Oscillator 회로를 OrCAD PSPICE를 사용하여 설계하고 분석하였습니다. 주어진 조건에 맞게 Oscillator 회로를 설계하고, 피드백 계수(β)와 피드백 저항(R)의 영향을 분석하였습니다. 설계한 Oscillator의 동작 원리와 시뮬레이션 결과를 제시하였습니다. 1. Oscillator 설계 오실레이터 설계는 전자 회로 설계에서 매우 중요한 부분입니다. 오실레이터는 주기적인 신호를 생성하여 다양한 전자 장치에서 사용되며, 그 성능은 전체 시스템의 ...2025.05.10
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울산대학교 전기전자실험 18. 발진기2025.01.121. 발진기 이번 실험은 주기를 갖는 정현파나 구형파를 스스로 발생시키는 발진회로의 동작원리를 이해하는 것이 목적입니다. 555 타이머와 2kΩ 저항과 22uF 커패시터를 이용해 단안정회로를 만들었을 때는 50.8ms로 t = ln(3) * RC와 거의 일치하는 것을 확인할 수 있었습니다. 다음으로 비안정 회로에서는 R을 1kΩ으로 설정하고 C를 22uF으로 했을 때 상승시간은 30.864ms, 하강시간은 17ms으로 ln(2)*C*(R1+R2), ln(2)*c*(R2)가 되는 것을 확인할 수 있었습니다. 다음으로 위상천이 발진기에...2025.01.12
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글로벌 시장과 비즈니스 이해 기말고사 리포트2025.12.111. 스위스의 주요산업과 경쟁력 스위스는 천연자원이 부족하지만 제약산업, 시계산업, MEM산업(기계/전자/금속)을 중심으로 고부가가치 제품을 생산하여 일인당 국민소득 8만달러 이상을 유지하고 있습니다. 알프스의 약초자원을 활용한 제약산업, 위그노 교도들의 기술로 발전한 시계산업, 정밀기술 중심의 MEM산업이 스위스 경제를 주도합니다. 경쟁력은 전략적 개방형 자율경제 체제, 직접민주주의 정치체제, 실용적이고 근면한 국민성, 2차 세계대전 중립국 지위로 인한 자본축적 등에서 비롯됩니다. 2. 스위스 강소기업의 성장배경과 성공요인 스위스...2025.12.11
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마이크로 표면 측정 실험 보고서2025.11.161. 접촉각 측정 및 표면특성 분석 접촉각은 액체가 고체표면 위에서 열역학적 평형을 이룰 때 액체면이 고체표면과 이루는 각을 의미한다. 접촉각 측정을 통해 고체표면의 친수성과 소수성을 판단할 수 있으며, 낮은 접촉각은 높은 젖음성과 친수성을 나타내고 높은 접촉각은 낮은 젖음성과 소수성을 나타낸다. 본 실험에서는 Glass, Si-wafer, PDMS, Teflon 등 4가지 기판에 DI-water를 떨어뜨려 접촉각을 측정하였으며, 측정 결과 Glass 66.70°, Si-wafer 88.65°, PDMS 79.20°, 플라즈마 처리...2025.11.16
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건국대학교 물리학및실험1 자이로스코프 결과레포트 + 공기중의 음속 측정 예비레포트2025.01.031. 자이로스코프 실험 결과 및 분석에 따르면, 관성 바퀴의 관성 모멘트 측정 실험을 진행하지 않았기 때문에 I 값을 직접 측정할 수 없었다. 대신 실험 교재에 나와 있는 값인 148460.5 gcm^2을 사용하였다. 각 질량별 실험에서 Ω 값이 순차적으로 증가하는 경향을 보였으며, 장동 운동 또한 관측할 수 있었다. 실험 과정에서 발생한 오차 요인으로는 추의 무게가 가벼워 제대로 고정되지 않은 점, 추 간 부딪힘 등이 있었다. 또한 세차 운동 조건이 명확하지 않아 실험자의 개입이 필요했던 점도 오차 요인으로 작용했다. 2. 공기중...2025.01.03
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