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반도체 하드마스크 SOH 레포트2025.05.021. SOH (Spin-on Hardmasks) SOH는 패터닝 공정에서 반도체 미세 패턴 구현을 위한 보조재료입니다. gap을 채우고 평탄화를 강화하여 내에칭성을 강화해야하는 특성을 요구합니다. SOH는 반도체 회로 패턴 형성 시 기존의 CVD 방식이 아닌 spin coating 방식으로 막을 형성하는 미세 패턴 형성 재료로, 미세 선폭의 패턴 정확도를 구현합니다. 2. PR MASK와 HARD MASK 비교 미세패턴을 구현하려면 PR MASK의 폭이 점점 줄어들어야 합니다. PR MASK의 가로에 대한 세로의 비율이 특정 값보다...2025.05.02
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MEMS 개론 기말과제2025.01.161. MEMS 공정 MEMS 공정에는 패턴 정의, 첨가 공정(성층, 증착), 제거 공정(식각) 등이 있다. Bulk micromachining은 실리콘 기판 자체를 가공하여 원하는 구조체를 만드는 것이고, Surface micromachining은 실리콘 기판을 손상시키지 않고 표면의 얇은 막으로 구조체를 만드는 것이다. 이러한 MEMS 공정을 통해 작은 스케일의 특징을 파악할 수 있다. 2. Soft baking과 Hard baking Soft baking은 감광액 내 용매를 약 5% 제거하여 감광액의 밀도를 높이고 웨이퍼와의 접...2025.01.16
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멀티미디어 편집도구 조사 및 분석2025.04.301. 오디오 편집도구 오디오 편집도구로는 Audacity와 Oceanaudio가 있다. Audacity는 무료 오디오 편집 프로그램으로 다양한 오디오 포맷을 지원하고 편리한 인터페이스를 제공한다. Oceanaudio는 다양한 필터와 직관적인 인터페이스, 실시간 효과 미리보기 기능이 특징이다. 2. 이미지 편집도구 이미지 편집도구로는 Luminar AI와 Lightroom이 있다. Luminar AI는 AI 기술을 활용하여 반복적인 작업을 자동화하고 다양한 편집 효과를 제공한다. Lightroom은 사진 관리와 편집 기능이 뛰어나며 ...2025.04.30
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Photolithography 예비보고서2025.05.051. 반도체 기본 개념 반도체는 상온에서 전기 전도도가 도체와 부도체 사이인 물질을 말한다. 반도체를 통해 다이오드, 트랜지스터, DRAM, 플래시 메모리와 같은 소자를 만들 수 있게 되었으며 현대 산업의 핵심 물질로 각광받고 있다. 반도체의 종류로는 intrinsic semiconductor(진성반도체)와 extrinsic semiconductor(외인성반도체)가 있으며 extrinsic semiconductor에는 Negative Type과 Positive Type이 있다. 2. 전자 이동도 전기장이 외부에서 가해지면 자유 전자...2025.05.05
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Photolithography 결과보고서2025.05.051. Photolithography 이번 실험은 Photolithography을 통해 baking, Alignment, Exposure와 같은 개념을 알아보고 반도체 8대 공정을 이해하는 실험이었습니다. 실험을 하는 과정에서 기판을 세척하여 이물질을 제거해주는 것이 실험 결과에 지대한 영향을 미친다는 것을 확인할 수 있었으며, 스핀코터의 Rpm조건에 따라 기판에 새겨지는 마크의 차이점을 이해할 수 있었습니다. 이번 실험을 통해 PR에 빛을 비추어 패턴을 형성하는 과정인 Exposure(노광)에도 여러 가지 종류가 있다는 것을 학습할...2025.05.05
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주기억장치와 보조기억장치 중 주기억 장치의 종류와 특징, 최근 많이 사용되고 있는 주기억 장치2025.05.021. 주기억장치 주기억장치란 CPU가 처리하고 있는 내용을 저장하는 기억장치이다. 대표적으로 ROM과 RAM으로 나뉜다. 2. ROM ROM은 Read Only Memory로 전원의 공급이 없어도 기록된 데이터가 삭제되지 않는 비휘발성 메모리라는 특징이 있다. ROM의 종류로는 Mask ROM, PROM, EPROM, EEPROM 등이 있다. 3. RAM RAM은 Random Access Memory로 데이터를 기록하고 판독할 수 있는 메모리이다. RAM에 복사된 정보는 비교적 빠른 속도로 처리할 수 있지만, 전원의 공급이 없으면 ...2025.05.02
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마이크로프로세서응용 ATmega128 Polling 방식과 Interrupt 방식 보고서2025.01.241. Floating 현상과 Pull-Up, Pull-Down Floating 현상은 주로 데이터 라인이나 제어 라인에서 불안정한 전압이나 전류가 발생하여 예상치 못한 동작을 유발하는 현상입니다. 이는 전원 문제, 입출력 라인 상태 불안정, 접촉 불량, 노이즈와 간섭 등의 원인으로 발생할 수 있습니다. Pull-Up은 입력 핀을 논리적으로 '1' 상태로 유지하기 위해 사용되는 전기적인 장치이며, Pull-Down은 입력 핀을 논리적으로 '0' 상태로 유지하기 위해 사용됩니다. 2. Chattering 현상과 방지 방법 Chatter...2025.01.24
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반도체 Dry Etching2025.01.191. Dry Etching Dry Etching은 고에너지 상태의 가스를 이용하여 반도체 회로의 패턴을 구현하는 건식식각 기술입니다. 이 기술은 이방성 및 등방성 식각을 동시에 가능하게 하여 고종횡비 회로 구현 및 미세한 패턴 조각에 필수적입니다. Dry Etching은 습식식각에 비해 고종횡비로 회로 패턴 구현이 가능하고 미세 패턴 조각에 유리하며 고밀도 3D 회로에 필수적인 이방성 식각을 구현할 수 있습니다. 2. Cryogenic Etch 극저온 Etching은 Passivation Gas 생성으로 인한 식각률 저하 문제와 D...2025.01.19
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SOC(software on chip) 조사하시오2025.01.121. SOC(System on Chip) SOC(System on Chip)은 하나의 칩에 컴퓨터 시스템의 대부분 또는 모든 구성 요소를 통합하는 반도체입니다. CPU, GPU, 메모리, 인터페이스 등 다양한 기능을 가진 블록들이 하나의 칩에 집적되어 있어 크기가 작고 전력 소비가 적으며 저렴한 가격으로 생산될 수 있다는 장점이 있습니다. 최근 스마트폰, 태블릿, 사물 인터넷(IoT) 기기 등 모바일 및 임베디드 시장의 성장과 함께 SOC 기술 또한 빠르게 발전하고 있습니다. 2. SOC의 역사 SOC는 1980년대에 처음 등장했습...2025.01.12