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플라즈마의 모든 것, 레포트 하나로 끝내자2025.04.301. 플라즈마의 정의 플라즈마는 고체, 액체, 기체와 함께 물질의 4대 기본 상태 중 하나입니다. 이온, 전자 및 중성 원자 또는 분자를 포함하는 하전 입자 집합으로 구성된 이온화된 가스입니다. 플라즈마는 별, 번개, 오로라의 형태로 우주에서 자연적으로 발견될 수 있지만 플라즈마 TV, 핵융합 에너지, 의료 치료 등 다양한 응용을 위해 인공적으로 생성되고 제어될 수도 있습니다. 2. 플라즈마 연구의 역사 플라즈마에 대한 연구는 1879년 William Crookes 경이 음극선을 발견하면서 19세기 후반에 시작되었으며 음극선은 음전...2025.04.30
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플라즈마의 모든 것, 레포트 하나로 끝내자.2025.04.301. 플라즈마의 정의와 역사 플라즈마는 고체, 액체, 기체와 함께 물질의 4가지 기본 상태 중 하나이다. 플라즈마는 이온화된 기체로, 자유 전자와 이온으로 구성되어 있다. 플라즈마 연구는 19세기 말부터 시작되었으며, 20세기 중반 이후 핵융합 에너지 개발 등 다양한 분야에서 활용되고 있다. 2. 플라즈마의 특성 플라즈마는 전기 전도성, 자기장에 대한 반응성, 높은 에너지 밀도 등의 특성을 가지고 있다. 이러한 특성으로 인해 플라즈마는 산업, 의학, 에너지 분야 등에서 다양하게 활용되고 있다. 3. 플라즈마의 종류 플라즈마는 열 플...2025.04.30
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반도체 부품 장비 융합 개론 - 노트정리 & 기출문제 포함2025.01.181. 반도체 기본 특성 반도체의 기본적인 특성에 대해 설명하고 있습니다. 마이크로 패브리케이션 공정을 활용한 집적회로, MEMS 센서, 태양광 패널 등의 예시를 제시하고 있습니다. in-plane과 out-of-plane의 차이, 트랜지스터의 발전, 무어의 법칙, 반도체 8대 공정 등을 다루고 있습니다. 또한 클린룸 시설의 중요성과 기준, 실리콘 웨이퍼 직경 증가 추세와 그에 따른 이슈 등을 설명하고 있습니다. 2. 3D 반도체 트렌드 집적도를 높이기 위해 웨이퍼 표면에 수직방향으로 소재를 쌓아올리는 3D 반도체 기술에 대해 설명하...2025.01.18
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[재료공학실험]플라즈마 질화처리2025.05.101. 플라즈마 질화처리 플라즈마 질화처리는 무공해 표면경화처리법으로서 다른 질화법에 비해 running cost가 적게 들며 작업 환경이 청결하고 처리 조건에 따라 질화층을 조절할 수 있는 등 여러 가지 장점이 있다. 플라즈마 질화 시 시간과 강종에 따라 재료의 조직과 경도의 변화를 알아보고자 하였다. SACM645와 SCM 시험편을 5시간과 10시간 동안 플라즈마 질화 처리하고 연마를 통해 경도를 측정하였다. 그 결과 10시간 동안 질화 처리한 시편들의 질화층이 조금이나마 두꺼워졌으며, SACM645가 SCM보다 질화층이 두꺼운 ...2025.05.10
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국가나노인프라협의체 중 5개 기관의 현황과 육성전략2025.05.011. 국가나노인프라협의체 국가나노인프라는 창조경제를 실현시키는 기반이 되는 나노기술의 개발과 나노 산업 성장의 기초가 된다. 국가나노인프라협의체는 나노기술 산, 학, 연 R&BD 프로그램을 연계하고 지원체제를 구축하며 나노 인프라를 활용하여 선행공정을 개발하고 서비스의 고도화 사업을 추진한다. 또한 나노 융합 창업허브를 구축하고 나노기술의 사업화를 지원하며 나노 전문인력을 양성하고 일자리 창출을 지원한다. 2. 한국나노기술원 한국나노기술원은 나노소자와 화합물 반도체 분야의 연구개발과 지원체제를 구축하여 나노기술의 국가경쟁력을 높이고...2025.05.01
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시료가 미량일 때 전처리 방법 및 ICP 분석 방법2025.05.131. 플라즈마 플라즈마란 고도로 이온화된 대단히 뜨거운 전기적으로 중성인 기체로 원자, 이온, 분자, 전자들이 집합되어 있다. 플라즈마는 온도가 10000 K 정도에 이르며 안정하고 불활성이다. 플라즈마는 석영관이 상단에 위치, 그 주위를 2~3회 감싸고 있는 유도 코일에 의해 생성된다. 즉 유도코일에 라디오 주파수의 전류가 흐르면 코일의 바깥 부분이 뜨거워지며 자장과 전장이 유도된다. 이렇게 우도된 전장은 석영관 바깥을 통과하는 냉각 기체가 테슬라 코일의 순간적 방전에 의해 생성된 아르곤이온과 전자에 지속적인 에너지를 공급하게 되...2025.05.13
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고분자 반응/개질을 통한 새로운 고분자 생성2025.05.141. 고분자 개질 고분자 개질이란 고분자에 화합물 작용기를 넣거나 바꾸어 새로운 성질 또는 구조를 가지는 고분자를 만드는 조작이다. 주요 개질 방법으로는 알칼리 감량가공법, 표면 그라프팅법, 플라즈마 방전 기술 등이 있다. 2. 알칼리 감량가공법 PET 섬유에 알칼리로 처리하면 섬유 표면이 가수분해되어 표면이 용해되고 경직감이 없어지는 가공이 가능하다. 이를 통해 섬유가 가늘어지고 직물 조직이 느슨해지며 드레이프성이 증가하는 등 섬유의 물성이 변화한다. 3. 표면 그라프팅법 표면 그라프팅은 고분자 표면이나 벌크 내부에 단량체를 그라...2025.05.14
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유기소재실험2_고분자_표면개질_접촉각2025.05.151. 고분자 표면개질 플라즈마를 통한 고분자 필름 표면개질의 원리는 플라즈마 상태에 놓인 높은 에너지를 가진 입자가 재료 표면에 충돌하면서 그 에너지가 표면에 전달되는 것을 이용하는 것이다. 고분자 개질 공정은 표면 분자층 내의 고분자구조나 원소조성을 변환시켜 탄소와 수소의 결합을 관능기로 교환시킨다. 이때 도입되는 관능기의 종류는 처리가스에 따라 다르며, 이들 관능기들은 표면에 보다 좋은 점착성, 젖음성, 생체 적합성 또는 불활성 특성을 부여한다. 2. 접촉각 표면장력은 액체의 자유표면에서 표면을 작게 하려고 작용하는 장력을 말한...2025.05.15
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ICP 레포트2025.05.101. 복사선의 파장과 강도 복사선의 파장은 원소의 종류에 따라 다르고, 복사선의 강도는 원소의 양에 따라 다르다. 2. 플라즈마 플라즈마는 다수의 하전 입자들이 서로 영향을 끼치면서 존재하는 하전 입자들의 집단이다. 3. 전리상태(이온화) 전리상태(이온화)는 제1상태(고체) → 제2상태(액체) → 제3상태(기체) → 제4상태(플라즈마, 원자가 고온에서 원자핵과 전자로 나누어지는 것)를 말한다. 4. ICP 원자 발광 분석법의 특징 ICP 원자 발광 분석법의 특징은 시료 중의 미량원소 분석에 가장 흔하게 사용되는 방법, 단시간 및 장...2025.05.10
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원자 질량분석법2025.05.011. 원자 질량 분석법 원자 질량 분석법은 용도가 다양하고 널리 사용되는 수단으로, 시료에 존재하는 원소들을 정확히 확인하고 그들의 농도를 결정할 수 있습니다. 원자 광학 분석법보다 많은 원소들의 검출한계가 더 좋고, 간단한 스펙트럼을 얻을 수 있으며 동위원소 비를 측정할 수 있는 장점이 있습니다. 단점으로는 기기 가격이 비싸고 기기적 표류가 있다는 것입니다. 2. 질량분석법의 원자량 질량분석법에서 사용되는 원자량은 다른 분석화학에서 사용되는 값과 다릅니다. 질량분석계는 동위원소의 질량을 구별할 수 있지만 다른 기기는 일반적으로 구...2025.05.01
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