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"ZnO박막의제조" 검색결과 121-140 / 234건

  • 화합물 반도체 태양전지
    에 이른다. 가격을 절감해 지상용으로 사용하기 위해서는 값싼 기판 위에 박막으로 제조해야 하는데 아직까지 실용화단계에 이르지 못하고 있다. 우주용의 경우 현재는 GaInP/GaAs/Ge ... 로 반도체 중에서 가장 높아 두께 12 μm의 박막으로도 고효율의 태양전지 제조가 가능하고, 또한 장기적으로 전기광학적 안정성이매우 우수한 특성을 지니고 있다. 따라서 현재 사용되고 있 ... , CIGS 박막-배면전극, 광흡수층, 버퍼층, 앞면 투명전극, 반사방지막을 순차적으로 형성시켜 만든다. 단위박막별로 다양한 종류의 재료와 조성, 또한 제조방법에서는 갖가지 물리적, 화학
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    | 리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.05.13
  • 화합물 반도체 태양전지
    의 두께를 혁신적으로 줄이는 기술, 또는 유리와 같이 값싼 기판위에 박막형태의 태양전지를 증착시키는 기술이 주목을 받고 있다. 기존의 박막 제조공정을 이용할 경우 보다 값싼 방법 ... 에 이른다. 가격을 절감하여 지상용으로 사용하기 위해서는 값싼 기판위에 박막으로 제조하여야 하는데, 아직까지 실용화단계에 이르지 못하고 있다.1990년대 초반부터는 100% 무기 ... 한 종류의 재료와 조성, 또한 제조방법에서는 갖가지 물리적, 화학적 박막 제조방법이 사용될 수 있다. 태양전지의 면적이 커지면 면저항의 증가로인하여 효율이 감소하게 된다. 따라서
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    | 리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.04.02
  • 세라믹재료 분체의 표면처리
    적 성질을 이용한 소자 소결체 특성을 이용한 소자 ( 결정입자 / 표면 / 입계 ) 입계의 성질을 이용한 소자 ( ZnO 배리스터 / PTC 서미스터 )1. 표면처리의 목적과 효과 ... ZnO 배리스터 ZnO 의 물성 원래는 고저항의 물질임 과잉의 이면에 의한 도너준위의 형성에 의해 저항이 매우 작아짐 ZnO 에 희토류산화물과 코발트 산화물을 동시에 첨가하면 입계근방 ... 에 고저항층이 형성되어 전압 – 전류 특성에 비직선성을 나타냄1. 표면처리의 목적과 효과 ZnO 배리스터 ZnO – Bi 2 O 3 계 배리스터 매우 얇은 석출층이 성장 ( 그림
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    | 리포트 | 23페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.12.06
  • cnt 투명전극
    가공 (1/4)(1) CNT 박막 형성을 위한 CNT 조성물 제조 (2) 투명기판 위에 상기CNT 조성물을 이용하여 CNT 박막 형성 (3) 상기CNT 박막의 전도성 분산제를 도핑5 ... . CNT 투명전극 가공 (2/4)(1) CNT 박막 형성을 위한 CNT 조성물 제조 - CNT 및 분산제와 유기용매, 물, 분산매를 포함하여 이루어지는 분산제 용액을 포함 ... 하는 CNT 조성물을 제조분산제5. CNT 투명전극 가공 (3/4)(2) 투명기판 위에 상기CNT 조성물을 이용하여 CNT 박막 형성 투명기판 위에CNT박막을 형성하는 방법은 일반적인
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    | 리포트 | 24페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.11.08
  • 외부전압을 가한 수성 용액 내에서 일어나는 산아아연 나노로드 및 나노튜브 정렬에 대한 제조
    ------------------------- p.4그림. 3 나노로드 성장의 초기 단계에서 관찰된 연속 박막 ----------- p.5그림. 4 외부전압 없이 형성된 ZnO ... 된다.된 막을 제거할 수 없었다. 이는 ZnO 기판에 박막이 강하게 접착되어 있다는 사실을 보여준다.그림2. 실리콘 기판 위에 형성된 ZnO 나노튜브의 SEM 영상. (a)와 (b ... 형성된 ZnO 나노로드따라서 그림1에서 보이듯이 ZnO 나노로드 성장이 기판에 대해 무반응한 이유는 ZnO 나노로드가 실제로는 ZnO 박막으로부터 직접적으로 성장해 나왔다는 사실
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    | 리포트 | 17페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.06.05
  • 나노파우더
    . 나노 분말 제조 및 응용 기술, 김흥회, 한국분말야금학회,2005. 가스응축법에 의한 나노상 ZnO 분말 합성시 입자성형에 미치는 공정변수의 영향, 김진수, 김정한, 박종구, 허무영 ... 나노 파우더Contents제조 방법주제선정 및 필요성응용 분야기술 동향주제 선정 및 필요성나노(nano)란?10억분의 1(10-9) 미터 물질 혹은 다루는 기술현대학의 최첨단 집 ... 적기술새로운 기능 및 특성다양한 분야 및 산업 적용주제 선정 및 필요성나노의 응용분야분말 형태박막형태벌크형태튜브 휘스커 형태주제 선정 및 필요성나노의 연구분야박막 형태분말 소재오랜
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    | 리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.10.30
  • 태양전지효율
    은 장점을 가지고 있다. ZnO 박막은 도핑이 용이하여 좁은 전도대역을 가지기 때문에 도핑물질에 따라 전기 광학적 성질의 조절이 용이하다. 저비용으로 제작 가능하며 높은 광투과성 ... 성을 가진다.2007.10.30○박막형 태양전지의 제조공정박막형은 실리콘 웨이퍼를 사용하지 않기 때문에 제조 공정이 완전히 다르다. 원료 가스 분해 실리콘 증착 PN 접합 형성 ... 의 1 두께' 박막형 태양전지 상용화 '눈앞'두께만 3㎛. 기존 실리콘 웨이퍼를 이용한 결정질 태양전지 두께의 1/100에 불과합 니다. 이 때문에 태양전지 제조에 들어가는 소재의 양
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    | 리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.11.06
  • ZnO박막의특성
    ) b. ZnO (hexagonal wurtzite 구조 )4. 박막제조방법 . a. 졸 - 겔법 b. 화학기상증착법 c. 스퍼터링법 d. Pulse laser 증착법 (PLD)I ... . 실험 a. 실험목적 . 고주파 마그네트론 스퍼터링방법으로 박막제조하여 구조적 , 전기적 , 광학적 b. 실험재료 직경 2 인치 ZnO:Al 2 O 3 (2mol%) 표적 ... Zn O 박막의 특성 조장 발표자 : PPT 작성자 : 자료검색 :– 목 차 – 1. 투명 전도막 2. 투명전극 재료 및 특징 3. 투명전도 박막종류 4. 박막제조방법 5. 실험
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    | 리포트 | 19페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.05.16
  • 인쇄전자소자
    다.CVD, 스퍼터, 진공증착, 도금, 스프레이, 인쇄 등 여러 종류의 반도체 제조장치들은 박막형성재료들을 증기화하여 기판에 성막하여 노광 및 현상공정을 통해 패터닝을 하거나, 금속 ... 기술2. 3 응용분야3. 결론1.서 론휴대전화, 디지털 카메라, DVD, PDP, LCD, DMB 등 디지털 가전제품 시장이 크게 성장함에 따라, 반도체 및 기타 정밀 전자부품의제조 ... 마스크를 이용해 성막과 동시에 패터닝할 수 있어 다양한 종류의 장비들이 사용되고 있지만 기본 원리는 대부분 동일하다. 이런 장비들의 경우, 작은 기판에 박막을 형성하기 위해 많
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    | 리포트 | 14페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.12.24 | 수정일 2020.08.11
  • 졸-겔법에 의한 Spin coating 법을 이용한 발광박막제조(결과레포트)
    :학번 :이름 :1. 실험 목적?졸-겔법을 이용하여 ZnO용액을 제조하고 Spin coating 법을 사용하여 발 광박막제조를 통하여 박막재료 제조공정 및 졸-겔법 이해한다.2 ... REPORT실험제목 『졸-겔법에 의한 Spin coating 법을 이용한 발광박막제조』(결과레포트)과목명 : 전 자 재 료담당교수님 :담당조교 :실험날짜 :제출날짜 :조 ... 적과 같은 미세구조를 제어하기가 용이하기 때문에 널리 이용되고 있다.BST계 박막제조에는 회전 코팅 법이 사용되는데, 회전 코팅은 장치가 간단하고 박막의 두께를 균일하게 얻
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    | 리포트 | 17페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.05.17
  • LED-TV의 현황과 R&D 방향
    GaN, ZnO, ZnSe, SiC 재료를 이용한 청색 LED 의 연구가 활발히 진행되었으나 GaN 및 ZnO 는 p- 형 불순물 층의 활성화문제 , ZnSe 는 재료자체 ... 계열의 재료는 기판과의 큰 격자 부정합도 이외에 높은 Al 조성 및 두꺼운 박막층을 성장할 경우 crack 이 발생할 수 있어 임계두께의 제어와 완충층의 활용이 필요함3. LED ... 연구개발 동향 칩 제조공정 LED 칩을 제작하기 위해서는 패턴 형성을 위한 단위 공정들을 거쳐 0.3 X 0.3 X 0.1mm 의 칩으로 분리되는데 적절한 공정방법을 통해 광추출효율
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    | 리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.12.23
  • 연소 화학 기상 증착법(Combustion Chemical Vapor Deposition)
    Combustion Chemical Vapor DepositionOutline박막제조기술 PVD CVD CCVD CCVD 장점 Summary박막제조기술PVDCVD정의물리적인 힘 ... , ion-plating 으로 크게 분류 Thermal evaporation - 성장속도는 크나 박막의 밀착 강도가 작고 균일한 박막제조에는 불리하다. 특히 방향성 있는 증발입자 ... 의 직선운동 때문에 기판의 step coverage가 낮다. Sputter - Thermal evaporation의 단점을 보완, 금속뿐만 아니라 화합물, 절연체의 박막성장이 용이
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    | 리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.17
  • TCO(Transparent Conductive Oxide) 의 종류 및 ITO 제조 공법에 따른 장, 단점 비교 분석
    TCO (Transparent Conductive Oxide)의 종류 및 ITO 제조 공법에 따른 장, 단점 비교 분석목 차1. TCO의 개요 2. TCO의 요구 특성 3 ... .ITO 의 밀도 : 7.1~7.2 g/㎤ (부피밀도 6.8g/㎤, 소결도 95%) 비저항 2*10-4 Ω㎝ITO 박막중의 Sn 원자의 존재형태에 관해 서는 ① 주로 In 원자 ... 격자 위치에 치환 하고 있다. ② In2O3의 격자간 원자로써 치환하고 있다. ③SnO2의 중성 COMPLEX 를 형성하고 있다. ④결정입자계 혹은 박막 표면에 편석하고 있다.인듐
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    | 리포트 | 17페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.09.09
  • MOF........
    에 pore 를 만드는 구조물로 존재한다 . 링크되어 있는 물질 변화를 통해 동공의 크기를 제어할 수 있으며 쉽다 . MOF 의 전형적인 형태인 MOF-5 는 ZnO 4 가 사면체 ... ) 기체 저장 : H2, CO2, CH4, SF6, O2, 등 2) 기체 분리 : H2/CO2, H2/CH4, CO2/ NOx,Sox → MOF 는 박막으로도 성장이 가능 ... 을 한다 . 대략 나노미터 크기의 세공을 갖는 이들은 끓는점이 높은 중질유를 분해하여 휘발유 , LPG, 경유 등을 제조하는 이른바 cracking 공정에 촉매 활성을 보이기 때문
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    | 리포트 | 19페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.10.28
  • 화합물 반도체
    (ZnO, ZnSe, CdS)◎ 화합물 반도체의 제조 공정◎ 화합물 반도체의 제조 장비※ HWE ( Hot Wall Epitaxy )※ MBE (Molecular Beam ... 되고 있다.※ II-VI 족 화합물 반도체 (ZnO, ZnSe, CdS)최근 ZnO는 매우 특별한 관심을 받아온 물질이다. GaN전자소자에 기판으로 쓰기 위해 시작된 연구지만 그 자체 ... 로 흥미로운 물성 때문에 ZnO 전자소자 개발이 연구되고 있다.ZnO에서 가장 중요한 문제는 다이오드 제작을 위해 흔히 관찰되는 n형 전기전도의 원인과 p형 도핑 방법이다. ZnO
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    | 리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.06.11
  • 박막트랜지스터
    1. 박막트랜지스터?박막트랜지스터는 TFT라고도 한다.제작을 위해서는 반도체와 절연체, 그리고 금속의 박막을 차례로 증착하여 만든다. 전압 대 전류 비의 특성곡선 모양은 단결정 ... 화되지는 못했다. 1970년 대 말 수소화비결정성 실리콘과 다결정 실리콘을 이용한 박막트랜지스터가 발표되면서 연구가 활발하게 진행되었다.TFT는 대면적 기판위에 형성될 수 있는 장점 ... TFT를 이용한 평면디스플레이를 이용하여 9.4인치 급의 노트북 컴퓨터 화면으로 제품화가 되고 있으며 15인치 이상의 대화면도 개발되고 있다.2. 산화물 박막트랜지스터란?산화물을 이용
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    | 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.01.07
  • 졸겔법을 이용한 ZnO용액제조
    1.실험 목적졸-겔법을 이용하여 ZnO용액을 제조하고 Spin coating법을 사용하여 발광 박막제조를 통하여 박막재료 제조공절 및 졸-겔법 이해를 돕는다.2.실험 이론 ... 의 제조로 각광받기 시작하여 최근에는 박막 코팅공정의 발전으로 여러 산업분야에 응용되어지고 있다.1)졸-겔법의 분류 ①일반적으로 졸-겔법은 colloidal sol-gel 공정 ... 시켜 날려 보내고 최종적으로 비정질상의 무기질박막을 만드는 조작이다. 소결(열처리 공정)로 건조조작에 의해 제조된 비정질상의 무기박막을 높은 온도에서 결정화 시키는 조작으로 이를 통해
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    | 리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.12.21
  • [발광디스플레이 실험] TCF의 전기적광학적특성
    다. Wafer, LCD, 태양전지, OLED 등의 생산과정에서 박막의 전도성을 검사하기 위해 쓰인다. 면저항 Rs는 수식적으로 다음과 같이 표현된다. ( 비저항, R 저항, 4.53 보정 ... 으로 나ting Film)TCF는 투명 전도 필름으로 전기 전도성을 가지고 있는 투명한 막이다. TCF는 inorganic material을 쓴 ITO, FTO, ZnO layer가 있 ... 분말 용질로 용액을 만들어 glass 위에 박막을 입힌 것도 TCF이다.재료로는 가시광선 영역의 빛을 투과시켜 사람의 눈에 투명하게 보이는 동시에 전기전도도가 좋은 물리적 특성
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    | 리포트 | 9페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.12.28
  • 콜로이드화학법을 이용한 ZnO나노분말제조
    화 반응을 거쳐 전자를 생성하여 전기전도도에 기여하게 된다. 따라서 ZnO는 성장 직후 10~10의 전도성을 가지게 되며, 이러한 배경 운반체 농도는 p형 ZnO 박막 제조 시 보상 ... 1.실험목적콜리이드화학법을 이용하여 ZnCl와 Urea로부터 ZnO 나노분말을 저온에서 제조2.실험이론2.1)콜로이드의 성질 ①물질의 분산 상태를 나타내는 것으로 물질이 분자 ... .250A, c=5.206A이며 Zn과 O간의 결합양식은 이온결합과 공유결합을 겸하고 있다.반도성 산화물인 ZnO는 1000C이상에서는 원자의 비율이 1:1을 벗어나 Zn원자가 O원자
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    | 리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.12.21
  • 반도성 세라믹 및 PTC 소재
    되는 전압이 어떤 특정 값(항복전압)에 도달하기 전까지는 절연체로 존재하다가 항복전압에 이르면 갑자기 도체로 변화하는 특성을 갖는다. 배리스터 재료로는 SiC, BaTiO3, ZnO ... , SrTiO3, Fe2O3, TiO2 등이 이용되는데 오늘날에는ZnO가 주류를 이루고 있다. 유도뇌써지(surge), 개폐써지, 유도성 부하써지 등의 각종 과도 이상전압 ... 고 있다.② 생산공정반도성 세라믹 부품은 소재분야에 있어서 벌크형과 적층형으로 크게 구분하고, 일부 박막공정도 사용된다. 소재의 후공정으로서 SMD 공정, 래디얼공정 및 axial
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    | 리포트 | 19페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.04.10
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