"VLSI공정"의 검색결과 입니다.

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"VLSI공정" 검색결과 101-120 / 317건

삼성전자의 반도체 사업부

컴퓨터의 CPU 를 말함 MCU (Microcontroller Unit) - 각종 전자제품 내에서 기능을 제어세계반도체산업 반도체의 생산공정 웨이퍼의 표면에 여러 종류의 막 ... (Fabrication) 웨이퍼 제조 조립 ( Ass’y ) 검사 (Test) 회로 설계 마스크 제작세계반도체산업 반도체의 생산공정세계반도체산업 반도체의 생산공정세계반도체산업 반도체 ... 의 생산공정세계반도체산업 반도체의 생산공정반도체산업의 발전추이와 현황 제품의 설계능력 중요성 부각 자본집약적 양산능력 중시 미국의 메모리분야 사업 포기 후 비 메모리 분야로 집중 한국

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| 리포트 | 27페이지 | 3,500원 | 등록일 2011.08.27

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[삼성전자 전략][브랜드 전략][경영 전략][인재육성 전략][HRD]삼성전자 브랜드 전략, 삼성전자 경영 전략, 삼성전자 인재육성 전략, 삼성전자 HRD(인적자원개발) 전략 분석

주에게 원 스톱 shopping의 기회를 제공하고, 항상 광고주 보다 먼저 준비 된 상황속에서 이전의 단순한 갑을적 종속 관계에서 벗어나 공정한 마케팅 카운셀러로 인정받아야 할 것 ... 었다. 그 후 12월 20일 한국반도체의 외국 지분 50%를 마저 인수하여, 1980년에 삼성반도체를 출범시켰다. 처음에는 초보적인 집적회로를 생산하던 삼성반도체는 VLSI에 투자하기 ... 로 결정하였고, 불과 1년도 안되어서 1983년 12월 1일 64KD램을 개발하여 세계를 놀라게 하였다. 미국의 마이크론 테크놀로지의 칩 설계기술과 일본 샤프의 공정기술을 도입해서

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| 리포트 | 10페이지 | 5,000원 | 등록일 2013.07.17

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한미반도체 합격 자기소개서

습니다.2010년에는 VLSI사에서 실시한 ‘반도체 장비 고객 만족도 조사’에서국내 반도체 장비 제조기업으로는 유일하게 ‘The best’에 선정되었습니다.한미반도체, 발광다이오드 ... 와 태양전지까지 사업확장!한미반도체는 반도체 및 태양광, 발광다이오드(LED) 제조용 장비를 생산, 판매하는 업체인데요. 이 기업은 발광다이오드(LED) · 태양전지 후공정 장비 분야 ... 로 사업을 확대해 나가고 있습니다. 최근 LED 패키징 후공정 핵심장비인 다이본더를 개발해 중국의 LED 패키지 회사에 공급했으며 올해 이 분야에서만 20억원의 매출을 기대하고 있

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| 자기소개서 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.03.05

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삼성반도체의 기술혁신 전략 - 레포트

메모리 사업 추진 준비1987~1991 메모리 사업기반 구축87~90년 3라인 대규모 투자 16MD램 공동 최초 개발01~02년 세계 최초 4GD램 공정 기술 개발 반도체 시장 ... 순위 2위84~86년 사업본격 추진 및 시련기74년 한국 반도체 인수 시계 칩 등 저가품 생산83년 고부가가치 사업 추진 결정 국내최초 VLSI 양산라인 건설92~95년 D램 1위 ... 구축 시기는 단축다양한 공정혁신을 통해 생산비용을 절감했다. - 차세대 공정기술 개발 과정에서 확보한 기술을 현 세대 상용화 제품 생산에 적용 - 현 세대 칩 크기 축소 경쟁

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| 리포트 | 15페이지 | 2,500원 | 등록일 2011.05.07

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[컴퓨터의이해공통] 마이크로프로세서의 발전과정과 컴퓨터산업에 기여한 점 및 마이크로프로세서최신동향, 매트릭스 코드의 하나인 QR코드와 QR코드만들기 마이크로프로세서발전과정

로 성공한 컴퓨터에 장착이 되었다.1976년에 다시 8080의 입출력 부분과 기능적인면을 보강한 8085가 선보였다. 8085에서 가장 중요한 것은 NMOS공정과 5V 단일전원 ... CPU로서 450, 500, 550MHz의 클럭스피드로 제조공정은 0.25미크론이 될것이고 카트마이는 지금까지 INTEL이 밝힌 바대로 부동소숫점 연산에서 'SIMD' (Single ... 는 것이다. 최근, LSI, VLSI, ULSI기술을 “세계를 장악하는 열쇠”라 부르는 것은 그 중요성을 웅변하고 있는 것이다.컴퓨터는 현대 사회에서 빼 놓을수 없는 중요한 도구가 되

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| 리포트 | 14페이지 | 2,500원 | 등록일 2013.04.07

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NMOS 트랜지스터 공정

형성소스와 드레인 형성금속 배선 공정100 방향의 연마된 P형 실리콘 웨이퍼를 사용. 실리콘 표면에 SiO₂ 층을 성장시키고, 그 위에 Si₃N₄ 박막을 증착. 선택 산화 위해 질화 ... 막(Si₃N₄) 위에 감광막(PR)을 도포하고, 마스크 1 을 가져다 노광 및 Si₃N₄ 식각 공정후 감광막과 질화막을 제거. 감광막 제거 후 고온에서 장시간 열 산 ... 및 SiO₂를 제거. 게이트 산화층을 열 산화 공정으로 성장시킴. (필요하다면, 게이트 문턱전압 조절 위해 게이트 산화막을 기르기 전이나 후에 채널 증가형에는 붕소, 채널 공핍

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| 리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2012.06.07

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MOSFET 소스 접지 증폭기 실험 결과 보고서

의 바이어스 방법과 같이 voltage divide 방식과 self-bias 방식의 두 가지가 있다.MOSFET은 BJT에 비해 아주 작은 크기로 만들 수 있고 제조공정이 비교적 간단 ... 하다. 그리고 MOSFET만을 사용하여 디지털 논리기능과 메모리 기능을 실현할 수도 있다. 이런 이유로 현재 대부분의 초대규모집적회로(VLSI)는 MOSFET으로 만들어진다. 또한

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| 리포트 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.01.28

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삼성전자반도체, 삼성 반도체

연구소 건립 1983 년 VLSI 양산 공장건설 착수 , 64K DRAM 개발 , San Jose 에 현지법인 설립 1986 년 1M DRAM 개발 1990 년 16M DRAM ... 적 R D 투자 ∴ 선발주자 이점 ( 특히 , 모바일 관련 사업으로 다각화 추진 ) Part 2 - 공정혁신② “ 기술적 불균형 (technical imbalaces )” 을 통한 ... 을 해야 하나 고민하게 됐다 . 설비를 빨리 가동하기 위해 신제품 개발을 계속해야 했고 , 또 설비 활용도를 높이기 위한 여러 가지 대안을 찾아야만 했다 .” Part 2 - 공정

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| 리포트 | 20페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.08.03

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삼성기업분석 (2010년 ver)

50%를 마저 인수하여, 1980년에 삼성반도체를 출범시켰다. 처음에는 초보적인 집적회로를 생산하던 삼성반도체는 VLSI (초고밀도 집적회로 : Very-large-scale ... integration; VLSI) 에 투자하기로 결정하였고, 불과 1년도 안되어서 1983년 12월 1일 64KD램을 개발하여 세계를 놀라게 하였다. 미국의 마이크론 테크놀로지의 칩 ... 설계기술과 일본 샤프의 공정기술을 도입해서 개발된 64KD램은 미국과 일본에 대해 10년 이상 뒤떨어져 있던 한국의 반도체 기술개발 간격을 4년 정도로 줄여주었다. 그러나 1984

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| 리포트 | 21페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.11.10

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디지털공학 예비레포트

는 것이다. 이와 같은 자동화는 VLSI(Very Large Scale Integration)의 경우에 있어 더욱 중요하다. VLSI급 정도의 고집적 IC를 사람이 수작업으로 개발 ... 용하는 제조공정이 필요하다. 실리콘(Silicon) 원판위에 필요한 여러 층을 쌓아 나감으로써 IC로서의 기능을 가지며, 칩 1장은 1개 레이어(Layer)에 해당된다. 같

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| 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.11.07

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반도체공정 레포트 최종

반 도 체 공 정DISP463(00)과목명 : 반도체공정교 수 :학 번 :제출자 :《 목차 》1. 실험 일자.2. 실험 목적.3. 실험 이론.4. 실험 과정 & 주의 사항5 ... : Sputtering6월 3일 : 비저항 측정.2. 실험 목적.반도체 공정의 Photolithography, Evaporation, Sputtering에 대해서 실험을 통해 그 ... 원리를 알아보고, 비저항을 측정한다.3. 실험 이론.반도체 공정은 크게 산화공정, 확산공정, 이온주입 공정, 화학기상증착공정, 사진식각공정, 금속 공정으로 나눌 수 있다.1

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| 리포트 | 21페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.01.25

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[삼성전자]삼성전자의 이념, 삼성전자의 핵심역량, 삼성전자의 글로벌화, 삼성전자의 중국시장진출, 삼성전자의 전략적 제휴, 삼성전자의 성공 사례, 향후 삼성전자의 교육 방향 분석

인수하여, 1980년에 삼성반도체를 출범시켰다. 처음에는 초보적인 집적회로를 생산하던 삼성반도체는 VLSI에 투자하기로 결정하였고, 불과 1년도 안되어서 1983년 12월 1일 ... 64KD램을 개발하여 세계를 놀라게 하였다. 미국의 마이크론 테크놀로지의 칩 설계기술과 일본 샤프의 공정기술을 도입해서 개발된 64KD램은 미국과 일본에 대해 10년 이상 뒤떨어져

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| 리포트 | 14페이지 | 6,500원 | 등록일 2013.08.06

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전자회로 설계 및 실험 5 MOSFET의 특성 예비보고서

은 MOSFET이다. BJT에 비해 MOS 트랜지스터는 아주 작게 만들 수 있고 제조 공정이 비교적 간단하다. 더욱이 MOSFET만을 이용하여 디지털 논리 기능과 메모리 기능을 실현할 수 ... 도 있다. 이런 이유로, 현재의 대부분의 VLSI회로는 MOS기술로 만들어지고 있다.전류 전도를 위한 채널의 형성(a) 게이트 전압에서의 MOSFET, (b) Depletion ... 다.(12-4)단 여기서은 전자 이동도,는 게이트-몸체간 커패시터의 단위 면적당 커패시턴스, L은 채널 길이, 그리고 W는 채널폭을 나타낸다. 주어진 공정 과정에 대해 ()의 값은 상수이

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| 리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.04.15 | 수정일 2016.06.21

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(예비)FET이용 Audio Power Amplifier 제작

트랜지스터)은 BJT(쌍극성접합트랜지스터)에 비해 아주 작은크기로 만들 수 있고 제조공정이 비교적 간단하다. 그리고 MOSFET만을 사용하여 디지털 논리기능과 메모리 기능을 실현 ... 할 수도 있다. 이런 이유로 현재 대부분의 초대규모집적회로(VLSI)는 MOSFET으로 만들어진다. 또한 MOSFET은 아날로그 집적회로설계에도 많이 이용되고 있다.- 증가

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| 리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.12.28

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[컴퓨터의이해-1학년공통] 마이크로프로세서발전과정과 마이크로프로세서가 컴퓨터산업에 기여한점 마이크로프로세서최신동향/ QR코드조사하여 본인의 QR코드만들기(마이크로프로세서발전과정)

되고 있기 때문에 마이크로프로세서에 대한 연구의 중요성은 강조되고 있다. 또한, 하나의 칩에 여러 가지 기능과 뛰어난 성능을 집적할 수 있는 VLSI 기술과 공정기술의 발달로 인하

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| 리포트 | 12페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.04.05

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대기업(재벌) 동양그룹, 대기업(재벌) LG그룹, 대기업(재벌) 삼성그룹, 대기업(재벌) CJ그룹, 대기업(재벌) 쌍용그룹, 대기업(재벌) SK그룹, 대기업(재벌) 금호그룹 분석

년쟁력 강화를 위해 원료에서 최종 제품에 이르는 공정을 일관 체제로 확립할 수 있는 석유 화학 공업으로의 진출을 꾀하는 등 미래 전략 산업 참여를 위해 열심히 뛰었다.그리하여 ... 1983년에 구체화된 반도체 사업은?산업의 쌀? 또는?산업의 기름?으로 불릴만큼 유망한 사업으로 모든 산업의 핵심으로 자리잡았다. 1983년 12월에 발표된 64KD램 VLSI

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| 리포트 | 12페이지 | 5,000원 | 등록일 2013.08.06

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[한국경영][한국][경영][한국경영 역사][한국경영 시스템][한국경영 사상]한국경영의 역사, 한국경영의 시스템, 한국경영의 사상, 한국경영의 지식정보화,향후 한국경영의 제고 방안

부분의 모든 공정과 건축, 전기, 설비 부문까지 총동원된 종합건설공사였다는 것으로도 특기할만한 사업이었다. 이 사우디 국왕의 주베일산업항 계획의 현대시공은 재벌로 성장한 정주영 ... 이 하락하였기 때문에 삼성은 커다란 타격을 입었다. 직후 삼성반도체통신은 Macron Technologies Inc.(Idaho소재)의 도움으로 초대규모 집적회로VLSI를 생산

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| 리포트 | 14페이지 | 6,500원 | 등록일 2013.07.29

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[컴퓨터의이해] 마이크로프로세서의 발전과정과 컴퓨터산업에 기여한 점 그리고 최신동향/매트릭스 코드의 하나인 QR코드조사와 본인의 QR코드만들기-마이크로프로세서발전과정-

기능과 뛰어난 성능을 집적할 수 있는 VLSI(Very Large Scale Integration) 기술과 공정기술의 발달로 인하여 마이크로프로세서는 날로 다기능, 고성능, 저전력

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| 리포트 | 14페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.03.15

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경영전략

반도체의 외국 지분 50%를 마저 인수하여, 1980년에 삼성반도체를 출범시켰다. 처음에는 초보적인 집적회로를 생산하던 삼성반도체는 VLSI에 투자하기로 결정하였고, 불과 1년도 안 ... 되어서1983년 12월 1일 64KD램을 개발하여 세계를 놀라게 하였다. 미국의 마이크론 테크놀로지의 칩 설계기술과 일본 샤프의 공정기술을 도입해서 개발된 64KD램은 미국과 일본

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| 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.06.09

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[삼성][삼성그룹][마케팅]삼성(삼성그룹) 마케팅 전략, 삼성(삼성그룹) 경영 전략, 삼성(삼성그룹) 인재육성 전략, 삼성(삼성그룹) E비즈니스(E-BIZ,이비즈니스) 전략 분석

1977년 12월 20일 한국반도체의 외국 지분 50%를 마저 인수하여, 1980년에 삼성반도체를 출범시켰다. 처음에는 초보적인 집적회로를 생산하던 삼성반도체는 VLSI에 투자하기 ... 로 결정하였고, 불과 1년도 안되어서 1983년 12월 1일 64KD램을 개발하여 세계를 놀라게 하였다. 미국의 마이크론 테크놀로지의 칩 설계기술과 일본 샤프의 공정기술을 도입해서

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| 리포트 | 12페이지 | 5,000원 | 등록일 2013.07.22

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