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박막 증착 스퍼터링 반도체 공정 OLED cvd 박막 투과도 ITO
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"진공및박막" 검색결과 1,161-1,180 / 1,634건

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    [전자공학, 멀티미디어]VFD의 원리 및 장단점
    VFD(Vacuum Fluorescent Display)1.VFD의 정의 및 개요진공형광표시관(VFD)는 캐소드와 그리드, 애노드로 구성된 3극 진공관의 일종으로 10~100V ... 의 개발로 여러가지 색표시가 가능하다. 구동방법에는 직류구동과 펄스구동이 있으며 캐소드, 그리드 및 아노드를 고진공의 유리용기에 봉입한 3극관의 일종으로 각종 플랫디스플레이 중 ... 한다.리드 출력단자리드 출력단자는 필라민트,그리드,어노드의 전원을 공급하는 역할을 하며 진공관 외부로 출력된 형태를 갖는다.(2) 작동 원리 및 장/단점VFD는 3극관의 구조를 가진다
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    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.04.11
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    [반도체공정] 화학기상증착
    기판 위에 박막층을 형성하는 공정이다. CVD는 공정 중의 반응기의 진공도에 따라 대기압 화학기상증착(APCVD)과 저압 또는 감압 화학기상증착(LPCVD)으로 나뉜다. CVD ... 다. 한편, 반응기 내의 기판의 위치에 따라서 horizontal 반응기, barrel 반응기 및 pancake 반응기 등으로 구분하기도 한다.(2) 박막 성장 메커니즘CVD 법 ... 성장되는 표면까지의 전달 속도 F1 및 박막 성장을 위해 AB 기체의 소모되는 속도인 표면 반응 속도 F2는 다음과 같이 표현할 수 있다.반도체 공정 중 원하는 재료를 기판 위
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    | 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.06.29
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    온도측정방법에 따른 온도계의 종류
    에 아주 좁은 장소 및 빠른 온도변화 측정에 적당하며, 10∼10℃의 온도변화도 검출할 수 있다. 비드형 NTC에 전기를 통해 자기가열시키면 전압전류특성에 음성저항특성이 나타나는 것 ... 을 이용하여 통신기의 자동이득조절장치·리미터 등에 사용한다. 또한 자기 가열에 시간적인 지연이 있음을 이용하여 지연동작 및 서지전력흡수용 소자(素子)로도 쓰고, 이 음성저항특성 ... 이 풍속, 진공, 가스의 종류, 그 밖의 환경조건에 따라 변동하는 것을 이용하여 풍속계·진공계·가스분석계 등의 센서로도 사용한다. 박편형은 열용량이 작은 점을 이용하여 적외선검출
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    | 리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.08.18
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    [공학기술]플라즈마의 첨단기술 응용
    가지 종류의 원소 및 화합물의 증착이 가능하며 공정조건의 제어범위가 매우 넓어서 다양한 특성의 박막을 쉽게 얻을 수 있을 뿐만 아니라 좋은 step coverage를 갖는 등의 특성 ... 1.플라즈마의 정의 및 응용분야1)플라즈마의 정의물질의 상태는 고체, 액체, 기체, 플라즈마 상태(제 4의 상태)가 있다. 물질 중 가장 낮은 에너지 상태는 고체이다. 이것이 열 ... 플라즈마의 중심부와는 밀도측면에서 다른 양상을 보이기도 한다.(플라즈마 sheath의 존재) 이러한 플라즈마의 다양하고도 이해하기 어려운 특성들은 지극히 많은 분야에서 그 응용성 및
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    | 리포트 | 16페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.05.29
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    비파괴 검사
    된다.적용재료 및 용접부의 결함검사, 내부구조 및 내용물의 조사, 재료, 기기의 계측검사, 재질검사, 표면 처리층 두께 측정, 스트레인 측정에 적용된다.2. 용접결함용접균열1) 발생 ... 및 원리에 따른 분류: ①고온균열, 응고균열, 액화균열 ②저온균열, 수소균열, 지연 균열 ③연성저하균열 ④라멜라 테어2)발생위치에 따른 분류: ①용접금속균열 ②열영향부 균열 ... ③루트균열 ④토우균열 ⑤언더비 드 균열⑥크레이터 균열3)비드에 대한 방향에 따른 균열: ①횡 방향 균열 ②종 방향 균열기타 용접균열 및 용접 결함: 재열균열, 기공과 비금속 개재물
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    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.05.03
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    Cell gap 측정, 표준 셀의 유전율 측정
    to Peak법이 가장 널리 이용되고 있다. 그러나 액정이 주입된 셀의 cell gap측정시 이 측정법에서는 투과율이 LCD에 사용되는 액정, 박막 및 유리등과 같은 LCD구성 ... 하여 막 간섭법으로 계산한다., 막간섭법은 박막의 위, 아래 상의 경계에서 빛의 반사에 의해 발생하는 간섭세기가 막의 두께와 파장에 의존하는 원리를 이용하는 것이다. 측정은 MCPD ... . 로, 진공 또는 자유공간의 유전율은 εo로 각각 표시한다. 그리고 이들의 비인 ε/εo은 유전상수라 하며 그리스 문자 κ(카파) 로 표시한다. SI 단위계에서 진공상태의 유전율
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    | 리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.11.03
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    폴리바이닐카바졸계 OLED 소자
    -하여 청색발광과 유기용매에 대한 용해성을 높이기 위한 시도에 대해 알아보며 폴리바이닐카바졸의 유도체의 박막물성 및 고분자 EL 소자로의 응용에 대해 요약하고자 한다.II. 본 론 ... 필요한 노란색 및 주황색 발광 재료로 구분할 수 있다.유기 EL에서 사용되는 모든 재료들의 바람직한 특성은 순도가 높아야 하고 진공증착이 가능해야 한다. 또한 유리 전이 온도와 열 ... -----------------------------------5II-1-1. OLED 정의II-1-2. OLED의 구조 및 동작원리II-2. 저분자 유기물질 -----------
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    | 리포트 | 30페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.12.11
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    AFM(Atomic Force Microscopy, 원자 현미경)
    이 있다. 광학렌즈·증착막의 두께 및 굴곡 측정, 천연광석 표면 분석, 반도체 표면 계측 및 결함 분석, 콤팩트디스크·자기디스크·광디스크 등에 쓰이는 비트의 모양새 조사, 평판 ... 디스플레이 분석장비 등 주로 연구용·산업용 및 분석·측정 기기로 활용된다.SPM은 Scanning Probe Microscope의 약자로서 물질의 표면특성을 원자단위까지 측정할 수 있 ... 현미경다. ZnO나 PZT박막 구동기로 캔틸레버만 상하 운동을 하게하고 원통형 Scanner는 x-y방향으로만 스캔하면 z축 응답대역이 수십kHz까지 넓어져 초당 한 장 정도의 영상
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    | 리포트 | 15페이지 | 6,000원 | 등록일 2010.06.12 | 수정일 2020.09.15
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    OLED예비보고서
    하여 엑시톤릴 수 있는 플라스틱이나 PET 필름 등을 사용할 수도 있다. 유기 박막층의 재료는 저분자 또는 고분자 물질로 구분할 수 있는데 저분자 물질은 진공 증착법을 사용하고, 고분자 ... 분자 박막을 이용해서 영국 CDT에서는 2.6V의 저전압에서 휘도 100cd/m2, 발광효율 22lm/W인 녹색 LED를 발표했다. 이 효율은 무기 반도체 LED의 최대 효율인 약 ... 에 유기 박막층이 있는 구조로 되어 있다. 이러한 유기 EL소자에 순방향의 전압을 가하면 양극과 음극에서 각각 정공(hole)과 전자가 주입되고, 주입된 정공과 전자는 결합
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    | 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.11.23
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    NANO코팅
    기의 약8만분의 1크기로 수소원자 10개를 나란히 늘어놓은 정도이다. 나노기술은 물질의 크기가 대략 수백 nm일 때 나타나는 새로운 현상 및 특성을 이용하는 기술이다. 즉 원자 ... ,이 PVD법에 해당되는 이유는 증착시키려는 물질이 기판에 증착될 때 기체상태가 고체상태로 바뀌는 과정이 물리적인 변화이기 때문이다.[8] PVD법은 고품질의 박막이나 나노 구조 ... 를 만들 때 쓰이지만 진공이 필요하므로 장비가 고가이며 나노구조 형성이 용이하나 증착속도가 느리다는 문제점을 가지고 있다.[5]CVD(Chemical Vapor Deposition
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    | 리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.11.22
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    반도체의 역사와 정리
    ShoclcleyPearson과 함께 박막형 반도체에서 반도체 표면의 전하량을 조절하여 전기전도도를 변화시키는 증폭소자인 MOS 트랜지스터의 구조에 대하여 연구하였고, 또 1952년에는 다수 ... 가 바로 그것이었다.그러나 1950년대에 이르러서도 아직 반도체 공정 및 처리 기술의 수준은 초보적인 단계에서 맴돌 뿐이었고 재현성 있는 동작을 얻기에는 미흡한 상태였다. 더구나 ... 의 역대전 중에는 마이크로파 레이더에 트랜지스터 발명을 위한 기초를 형 성하게 되었으며, 1905년에 처음으로 다이오드 진공관이 플레밍에 의해서 만들어 졌다. 플레밍은 전구 안에 있
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    | 리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.06.15
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    LCD와 VFD 발표자료
    ..PAGE:1LCD&VFD 보고서20314411기계공학부 4학년박 성 오..PAGE:2목 차1. LCD& VFD1) 원리 및 구조2) 제작공정3) 시장 현황4) 시장 미레예측2 ... . 문헌참고..PAGE:3LCD의 원리 및 구조LCD의 원리LCD는 전계에 의해 일정한 방향으로 액정 소자 배열이 형성되고, 일정한 방향의 파동을 가진 빛을 선택적으로 통과 ... 시킨다...PAGE:4LCD의 원리 및 구조색상을 표현하기 위해서는 컬러필터를 사용한다.필터의 픽셀 단위는 RGB의 3개 서브픽셀로 구성되고,대개 LCD에서 RGB는 바둑판 구조를 갖
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    | 리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.09.27
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    가스센서 및 반도체식 가스센서 자료조사
    다. 박막형 가스센서는 sputtering 법이나 진공증착법으로 제작된다. 기판으로는 마찬가지로 알루미나가 사용되며 전극은 보통 0.5 mm에서 수mm 정도의 간격으로 Au를 증착한다.이다. ... 1. 가스센서에 대한 이론①가스센서란?②가스센서의 구조 및 원리③가스센서 기술④결론2. "반도체식 가스센서"를 제조하기 위한 공정①반도체식 가스센서란②반도체식 가스센서의 구조 및 ... 원리③반도체식 가스센서 구하는 식④반도체식 가스센서 기술⑤반도체식 가스센서 공정⑥결론3. 접촉연소식 가스센서①접촉연소식 구조 및 원리, 식②접촉연소식 가스센서 특성③접촉연소식
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    | 리포트 | 15페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.28
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    TFT LCD
    기술은 수 백 옹스트롬 내지 수 천 옹스트롬의 얇은 막을 절연기판상에 진공증착에 의해 형성하는 기술로서 처음엔 박막재료로서 CdS 등이 사용됐으나 지금은 아모퍼스 실리콘막이 주류 ... 1. TFT-LCD란 무엇인가?TFT-LCD는 Thin Film Transistor - Liquid Crystal Display의 약자로 전자 시계,전자계산기 및 기타 문자도형 ... )FET의 일종으로 유리기판 위에 아모퍼스 실리콘(amorphous-Silicon) 등의 반도체박막을 형성시켜 여기에 FET구조를 만든 것을 말한다. 박막(thin film)형성
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    | 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.05.28
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    [반도체] 박막두께측정
    아나가는 막을 가리킨다. 따라서 1) 고밀도에서 공공이 없는 박막, 2) 단결정에 가까운 고안정?고신뢰성박막 등이 요구되고 있으며 진공을 이용한 PVD(Physical Vapor ... ) 400~850nm 파장의 빛을 이용하여 측정한다.3) 박막의 광학 상수인 n, k 및 t 값을 신속하게 표현해 낸다.4) 두께 측정 분야의 시장을 선도하는 광학 방식을 이용한다.5 ... 박막이란?-종래에는 증착 등으로 얻어지는 두께 1㎛ 이하의 막을 “박막”이라고 말했으나 현재의 박막이란 막의 원료를 원자나 분자까지 분해하고 목적하는 기판위에 분자를 다시 쌓
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    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.09
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    [광전자] 박막제조와 화학증착공정실험
    화학증착공정을 이용한 박막제조 및 특성평가 실험1. 실험 목적화학 기상 증착 공정의 기본 원리를 이해하고 직접 실험을 통하여 박막을 만들어보고 그 특성을 분석하여 실제 연구 ... × 두께 / 100 이다비저항 = 187Å × 48.84 ㏀/□㎠ /100 = 91330.8 μΩ㎝5. 결과 및 고찰위 실험을 통해 얻은 결과는 물론 박막일 것이고 이것의 두께와 비저도이다. ... 에 응용할 수 있는 기본적인 능력을 배양하는 데에 본 실험의 목적이 있다.2. 이 론2.1 박막 제조 공정의 종류(습식&건식)◈ 습 식습식은 electro plating(전기 도금
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    | 리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.08.23
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    금속의 표면저항
    이용되는데 대개 PVD는 고품질의 박막이나 나노구조를 만들 때 쓰이지만 진공이 필요하므로 장비가 고가이며 증착속도가 느리고 CVD는 넓은 면적에 빠른 속도로 박막이나 나노구조 ... 1. 목적진공 중에서 금속 화합물 또는 합금을 가열 증발시켜 증발 금속 또는 증발 금속 화합물을 목적 물질의 표면에 붙게하여 얇은 피막을 형성시키는 방법인 증착법을 사용하여 시험 ... 및 장단점을 알아본 후 실제 실험에 나온 데이터를 가지고 공식에 대입 그 결과를 도출 해 본다.【】이론증착법(Deposition)증착법 (Vapor Deposition)들은 크
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    | 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.10.16
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    PACVD
    PAPVD (Ion-plating)1. 개요Plasma-assisted physical vapour deposition (PAPVD) 은 박막의 성질을 향상시키기 위하여 glow ... 할 수 있다.5) 부도체를 포함한 다양한 범위의 기판재료와 박막재료가 사용 가능하다. (보통 RF bias를 사용함)6) 다양한 증발원을 사용하기 때문에 증착율를 제어할 수 있 ... 로 쓰고 진공환경에서 사용함으로 고순도 증착이 가능하다.9) CVD법에 비해 낮은 증착온도이다.10) 전기도금에서 문제가 되는 수소취성을 피할 수 있다.11) 코팅의 성질
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    | 리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.04.04
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    [화학실험]ALD공정의 기본원리를 이용한 박막제조 및 특성평가(final)
    barrier)박막을 증착하는 공정이다.공정 조건은 다음과 같다.· ALD 반응기 내의 온도: 325℃· 진공장치: Rotary Pump· Chamber내의 압력: 9mmtorr ... 1.실험목적원자층 단위 증착(Atomic Layer Deposition) 공정의 기본 원리를 이해하고 직접 실험을 통하여 박막을 만들어보고 그 특성을 분석하여 실제 연구에 응용 ... 원료를 각각 분리하여 공급하는 방식으로 한 cycle 증착 시에 표면 반응에 의해 1ML(monolayer) 이하의 박막이 성장하게 된다.그림1. ALD의 증착 mechanism
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    | 리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.02.02
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    반도체 소자
    ★ 소자[素子, element, device]- 장치, 전자회로 따위의 구성요소가 되는 낱낱의 부품으로, 독립된 고유기능을 가지고 있는 것. 진공관·트랜지스터와 같은 능동소자 ... 가 흐르고 소비전력이 적어 편리하다. 초기에는 잡음·주파수 특성이 나쁘고, 증폭도도 충분하지 못하였으나 지금은 많이 개량되어 진공관을 대치하고 있다.①. pnp형 트랜지스터P형, N ... 형 vacuum-tube]높은 진공 속에서 전자가 전기적인 힘에 의해 자유롭게 움직일 수 있는 성질을 이용하여 전자기장으로 전자의 운동을 제어하기 위해 쓰이는 기구이다. 미약
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    | 리포트 | 10페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.10.07
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2025년 11월 04일 화요일
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