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"이온주입기술" 검색결과 1,141-1,160 / 2,346건

  • 금속 분말 제조 방법
    한 전기화학적 제조 기술의 가장 큰 장점은 순도가 높은 분말을 제조할 수 있다는 점이다. 그림 3.5에 나타낸 바와 같이 전압을 인가하면 음극(anode)물질이 이온화로 전해액 중 ... 으로 분류되며, 일부 재료는 분말제조를 위해 특수한 공정이 이용되는 경우도 있다.어떤 분말 제조기술이건간에 공정에너지는 분말의 새로운 표면을 만드는데 사용된다. 그러나 이러한 에너지 ... 분말제조공정의 경우 더욱더 많은 에너지가 필요하게 되는데, 심지어는 표면적 형성에 필요한 에너지보다 약 30배 정도 더 큰 에너지가 요구되기도 한다. 분말 제조기술의 선택은 공정
    리포트 | 25페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.11.07
  • 판매자 표지 자료 표지
    대장암 환자 간호과정
    , 아시도시스, 수중독이 나타날수 있다.2. 주입정맥에서 혈전증이 나타날수 있다.NORMAL SALINE INJ 9g/1000㎖ 500㎖염화나트륨으로서 보통 20-1,000mL를 피하 ... , 정맥, 점적 정맥주사 또는 직장에 주입한다.(PNR처방)1. 수분 및 전해질 결핍시의 보급(나트륨 결핍, 염소 결핍).2. 주사제의 용해 희석제.대량·급속투여에 의해 울혈성심부전 ... , 부종, 산증, 혈청전해질 이상투여기술과 관련하여 발열, 주사부위의 감염, 국소통증 또는 반응, 정맥자극, 주사부위로부터 이르는 정맥혈전증 또는 정맥염, 혈관밖유출, 과다혈량
    리포트 | 27페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.09
  • 반도체공정-유전체증착
    공정에서의 CVD 기술은 진공 하에서 공정이 이루어지고 있기 때문에 반도체 공정에 있어 가장 중요한 고려 대상인 먼지나 대기중에 존재하는 이온 물 질로부터 공정을 보호할 수 있 ... 됨 . ⑪이온주입공정 회로패턴과 연결된 부분에 불순물을 미세한 가스입자 형태로 가속하여 웨이퍼의 내부에 침투시킴으로써 전자 소자의 특성을 만들어줌 . 이러한 불순물 주입은 공 온의 ... 전기로속에서 불순물 입자를 웨이퍼 내부로 확산시켜 주입하는 확산 공정 에 의해서도 이루어짐 .⑫화학기상증착 (CVD:Chemical Vapor Deposition) 공정 가스간
    리포트 | 26페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.05.19
  • 기공 교정
    ----------------------------------- 2문제4. 기본기술 및 가철성 교정장치 -------------------------------- 3문제(교정 ... 일부소화, 미각작용, 체내의 수분균형유지.*치아우식 발생을 증가되는 타액의 요건⇒ 수소이온농도↑, 점조도↑, 타액분비량↓, 완충능↓*타액이 무균상태일 경우 치아우식 발생하지 않 ... 음.2환경요인 ? 음식의 종류, 구강청결도, 음료수 불소이온농도*당질(함수탄소) 섭취 줄이고, 올바른 잇솔질(-치아우식증 예방의 가장 기본)3병원체요인 ? 산, 산생성균4.치아우식증
    시험자료 | 181페이지 | 3,000원 | 등록일 2015.12.23
  • 기기분석법 크로마토그래피(GC HPLC)
    주입할 때 특별한 기술이 필요하다. 주입 밸브는 2~1000㎕ 범위의 고정된 부피를 가지고 있는 교환 가능한 강철 루프로 되어 있다. 로드(load) 위치에서는 세척해 주거나 대기압 ... 이론 ( Introduction )분리분석법에는 크게 용매추출법, 크로마토그래피, 전기영동으로 나뉜다. 더 나아가 크로마토그래피는 기체, 이온, 박층, 종이, 초임계유체, 겔침투 ... 고 빠져나오게 된다.크로마토그램의 해석은 나온 peak으로 한다. 각각의 peak은 컬럼으로부터 용출되는 서로 다른 물질을 말한다. retention time은 시료가 주입된 후 검출
    리포트 | 14페이지 | 1,200원 | 등록일 2009.06.28
  • 염료감응형 태양전지 DYE
    의 질에 I3-/I- 이외의 다른 이온들을 첨가해 전자주입에 활동성을 부여하기도 한다.전자주입주입과 생성과정을 시간으로 본다면 초기과정과 염료의 재생과정은 펨토초~나노초 시간 ... 다 또한 염료감응형 태양전지는 나노기술과 분자디바이스 같은 다양한 새로운 개념들과 물질들의 개발로 이루어진 산물로 새로운 광전지기술의 진보를 가져올 것으로 예상한다이와 같이, 다양 ... ) 된다(식 (2), Fig 1의 (b)) 이렇게 주입된 전자는 나노 입자간 계면을 통하여 백금 입자가 담지된 상대 전극(counterelectrode)으로 전달된다(식 (4
    리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.09.26
  • [무기분석실험] 9.그래핀(Graphene) 합성 및 분석 예비
    무기화합물로 된 비결정성 탄소로 구성되어 있다. 탄소는 대기 중에서 산소와 결합하여 이산화탄소가 되며, 석회석과 분필에는 탄산 이온으로 존재하고 있다. 다이아몬드와 흑연은 탄소 ... ) 증착법a. 화학증기 증착법반도체 공정에 많이 사용되는 CVD라고 불리는 기술이다. 탄소를 잘 흡착하는 전이금속을 총매로 이용하여 그래핀을 만든다. 탄소 융해도가 높은 니켈 ... 이라면 이 방식은 Bottom-Up 방식으로서 결정에 고온의 탄소를 주입하면 표면을 따라 그래핀이 성장한다. 가장 대표적인 합성법인 SiC의 열분해를 이용한 에피텍시 합성법
    리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.08.21 | 수정일 2014.09.14
  • 응집,침전
    )① Definition (정의)폐수 중에 현탁되어 있는 콜로이드나 미립자를 응집제에 의하여 덩어리(floc)을 형성시켜, 침전에 의하여 분리하는 기술② Coagulation ... (), 의약품, 응집제 등으로 쓰인다. 응집제 주입률은 일반적으로 10~100ppm의 범위로 사용된다. 응집반응의 최적 pH는 6.0~7.0이다. 탁도제거가 높고 저가이다.일반 ... 하다. 적정주입율의 범위가 pH: 6~9로 넓다. LAS와 혼합하면 침전물이 생성되고, ph, 알칼리도 저하가 황산알루미늄의 1/2이하이다. 탁질제거 효과가 현저하며 과량으로 주입
    리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.05.06
  • 건식식각
    식각의 불균일성 감광막의 lift-off under cut 등등Dry etching 이란 ? 일반적으로 플라즈마와 같이 gas 를 이용하거나 , 이온주입이나 sputtering ... 등과 같이 이온 이나 전자 를 이용한 식각 . 1. 물리적 방법 - Sputter Etching 2. 화학적 방법 – Plasma Etching 3. 물리 , 화학적 방법 ... oupled plasma-reactive ion etching) 유도 결합형 플라즈마 - 반응성 이온 에칭 유도 결합형으로 생긴 고밀도 플라즈마를 소스원으로 하는 반응이온 식각공정
    리포트 | 25페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.06.13
  • Agarose gel electrophoresis of DNA
    , 용액에 있는 다른 전해질의 농도와 이온의 세기, 지지체의 종류 등 여러 가지 요인에 의해 결정. 즉, 분자 자체의 성질에 따라서 결정된다. ③ 전기영동법은 아미노산, 뉴클레오티드 ... 에서 이동시켜 크기에 따라 서로 분리하는 기술이다 DNA나 RNA의 경우 주로 Agarose를 사용하고, 단백질의 경우 Polyacylamide 등을 굳혀서 겔을 만든다 전기영동은 이 ... 는 아가로오스의 농도(%)에 따라 정해진다. 이러한 겔에 전기장이 주어지면, 음전하를 띠는 DNA는 양극으로 이동한다.이 때, 전기장에서의 이동성은 전기영동 완충용액의 이온강도와 조성에 영향
    리포트 | 35페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.12.18
  • 드라이에칭
    를 이용하거나 , 이온주입이나 sputtering 등과 같이 이온 이나 전자 를 이용한 식각 . 1. 물리적 방법 - Sputter Etching 2. 화학적 방법 – Plasma ... – RIE 란 ? (Inductive coupled plasma-reactive ion etching) 유도 결합형 플라즈마 - 반응성 이온 에칭 유도 결합형으로 생긴 고밀 ... 도 플라즈마를 소스원으로 하는 반응이온 식각공정 . 결합 이온화 원자와 반응 가스를 다양한 반도체 , 금속 , 산화물 , nitrides 및 기타 재료를 에칭하는 능력의 플라즈마를 만드
    리포트 | 25페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.06.02
  • 반도체 기술인 샬로우정션(shallow junction)의 기술과 공정 및 문제점 해결방안
    은 얕 플라즈마를 이용한 이온주입법은 불순물의 농도 및 주입 깊이의 조절 용이성 및 불순물 분포의 균일성 등의 장점으로 인하여 대량생산 등에 비교적 용이하게 적용할 수 있는 장점이 있 ... 캡핑 절연막을 제거한다.구조도에 있는 그림으로 좀 더 자세한 설명을 하면, [그림1]은 이온주입공정을 실시하여 반도체기판(100)에 트리플N웰 층(102)를 형성하고 저전압 ... (122)를 형성한 것이다. 그 후 마스크를 한 뒤 기판 내에 이온 주입 공정을 실시한 것이다. 화학기상증착법을 실시하고 [그림3]에서 알 수 있듯이 급속열처리(RTA) 공정을 실시
    리포트 | 28페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.04.26
  • Polymer Electrolyte Fuel Cell의 성능 측정 실험 결과
    . 연료전지는 전지와 엔진의 성격을 동시에 지니고 있다. 전기화학적 반응에 의해 전기를 생산한다는 점에서는 전지의 성격과 유사하나, 주입된 연료에 따라 작동한다는 점에서는 엔진 ... 발전소 건설에는 현재 3,000$ 이상이 필요한 실정이다.b. 연료전지의 수명과 신뢰성을 향상시키는 기술연구개발이 더 이루어져야 한다.c. 가격이 비싸다.: 재료의 대부분이 귀금속 ... 와 건물 및 재충전 건전지 대용품과 같은 훨씬 소형에 응용도 가능한 주요 후보로써 연료 전지를 들었다. 양성자 교환 막은 수소 이온을 통과 시켜 주는 얇은 플라스틱판이다. 그 막
    리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.03.08
  • 방사선 붕괴
    화 함에 주입되는 방사성동위원소의 총량과 이에 따라 방출되는입자의 수는 매우 작기 때문에 Radon핵의 붕괴에 따라 발생하는 공기분자이온의 양도 매우 작다. 따라서 결과적으로 생기는 전류 ... 로 생성되는 딸 원자핵중 기체 상태로서 이온화 chamber에 주입되는 것은이다. Radon의 붕괴를 적절한 시간간격동안 관찰하여 전휴가 시간에 따라 지수함수 적으로 감소하는 현상 ... 한다. 이 방사성동위원소는 반감기의 측정을 위하여 이온화 chamber에 불어서 넣기 쉽고붕괴를 통한 반감기()가 짧아 붕괴상수의 측정을 통하여 반감기를 결정하는 것이 비교적 쉽
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.01
  • 성인간호학 회장루술을 시행한 사례환자
    ) 김씨에게 도움이 될만한 단체 2개의 정보 조사-목 차 -Ⅰ. 서 론1. 장루의 정의와 종류Ⅱ. 수술을 마친 김씨에게 담당간호사가 수행해야 할 장루 사정 내용을 구체적으로 기술1 ... 해야 할 교육내용을 상세히 기술1. 장루 관리2. 부착물의 교환 순서 및 주의사항3. 일상생활Ⅳ 김씨에게 도움이 될만한 단체의 역할과 기능 등의 정보 조사1) 한국장루협회(1) 소개 ... 상태의 유지?구강섭취가 1주 또는 2주 이상 지연되면 비경구 영양이 시작?비경구 영양은 탄수화물, 아미노산, 비타민, 미량원소와 전해질을 포함?정맥주입용 지방은 따로 정맥내로 공급
    리포트 | 8페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.05.15
  • 전기변색소자 물질합성 및 색변화 관찰 [예비]
    도금) or Electrodeposition(전기증착)[도금] 도금이란 음극의 도금대상물 표면에 금속이온을 환원석출시켜 금속 박막으로 코팅시키는 기술이다. 이 금속이온을 환원 ... 한 것이다. 전해질 수용액이나 용융액에 직류전류를 통하면 그 전해질은 두 전극에서 화학변화를 일으키는데, 이 변화를 전기분해 또는 전해라 한다. 전해질은 용액 중에서 양이온과 음이온 ... 으로 이온화하며, 양이온은 음극으로부터 전자를 받아 환원되는데, 환원이 일어나는 전극을 음극이라 하고, 음이온은 양극에서 전자를 내어 놓고 산화하는데 이와 같이 산화가 일어나는 전극
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.11.07 | 수정일 2014.02.02
  • 반도체제조공정
    이 가능하여 대부분의 반도체 공정에 사용Fig 12. The plasma etching. [8]2.2.6. 이온 주입 (Ion Implantation) [9]확산에 의한 불순물의 주입보어준다. ... 이 있다.2. 반도체의 제조기술 [2]반도체는 최초 웨이퍼 제작에서부터 최종완제품까지 크게 4가지 공정으로 구별할 수 있다. 즉 Silicon 원석에서 웨이퍼를 제작하는 웨이퍼 제조 ... 을 절삭 기술을 사용하여 실리콘 단결정봉을 웨이퍼로 바꾸게 된다 . 절삭작업을 거치는 동안 웨이퍼의 가장자리 부분은 매우 날카롭고 깨지기 쉽게 되므로 세척과정을 거친 후 정확
    리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.11.09 | 수정일 2014.09.20
  • 토양_지하수_오염 PPT
    함으로써 미생물의 지중 생분해능을 극대화하는데 중점을 둔 기술 공정원리는 ① 주입정에서 직접 공기주입을 통해 산소가 오염물 질에 주입 ② 증기가 토양에 천천히 유입 ③ 흡착된 유류잔류 ... ASTM 에 명시된 방법을 따른다수소 이온 활동도 (pH) 대부분의 국내 지하수 pH 는 6.0 에서 8.5 범위 비전기전도도 KA = S K : 비전도도 A : 기울기 S ... 어 줌으로써 토양으로부터 휘발성 , 준휘발성 오염물질을 제거하는 정화방법 공정원리는 ① 추출정 , 주입정 등을 오염지역에 설치 ② 관정을 이용 , 청정공기를 오염된 지반에 주입
    리포트 | 27페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.11.13
  • 판매자 표지 자료 표지
    재료학-세라믹(레포트)
    의 정의금속 재료비금속 무기재료무기재료Na, Mg, K, Ca 등 양이온으로 구성금속원소들이 음이온과 결합하여 만들어진 물질자연계에 존재하는 비금속 무기재료는 대리석, 화강암, 대부분 ... 의 변천사변천사1930년 페라이트 발명1940년대 티탄산바륨의 유전성 발견1950년대 이후 현재까지 다양한 새로운 세라믹스의 등장과학 기술 산업을 지탱해주는 근간이 되어줌*2 ... . 세라믹의 분류*2. 세라믹의 분류세라믹 의 분류세라믹 산업파인 세라믹전기, 전자 재료 기계, 구조 재료 광학 재료 화학/환경 재료 생체/바이오 재료인공합성연료 기술집약적 소량다품종생산
    리포트 | 60페이지 | 3,500원 | 등록일 2011.11.14
  • 판매자 표지 자료 표지
    [유기화학실험]Preparation of Benzoin(Benzoin Condensation)
    한 HCN를 사용하면 반응이 매우 느리지만, 소량의 염기나 친핵성 시안화 이온, CN-를 첨가하면 반응이 빨라진다. 다른 방법으로는 반응을 촉진시키기 위하여 KCN을 첨가할 수 있 ... 다. CN- 이온은 알데히드와 케톤에 전형적인 친핵성 첨가 반응을 하여 정사면체의 중간체를 형성한 다음, HCN 의해 양성자가 첨가되어 시아노하이드린 생성물과 CN- 이온을 생성 ... 한 특성으로 화학적 구조, 분자량 등을 통해 미지 물질에 대한 정성분석이 가능하다. 분석대상물질만이 이온화, 조각화되어 검출됨으로써 높은 S/N비를 형성하고 이로 인해 높은 감도
    리포트 | 12페이지 | 4,200원 | 등록일 2009.07.24 | 수정일 2020.07.26
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2025년 08월 09일 토요일
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