"도핑기술"의 검색결과 입니다.

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반도체 전도성 고분자 itrs 도핑 고분자oled박막 올림픽 산화 공정 Reram

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"도핑기술" 검색결과 1,081-1,100 / 1,142건

[고분자공학] 고기능성 고분자

목 차개요이온 교환 수지감광성 고분자고분자 분리막전기전도성 고분자의료 기능성 고분자고기능성 고분자개요최근 첨단 기술에 대하여 국내외에서 비상한 관심이 쏠리고 있다. 그 이유 ... 는 현재 인류가 직면하고 있는 자원, 에너지 및 식량 위기를 해결하기 위해서는 재래의 사회, 경제적, 기술로는 불가능 하다는 것을 느끼고 있기 때문이다.따라서 새로운 돌파구는 새로운 최 ... 첨단 기술을 개발함으로써 인류의 공통적인 과제들을 해결하고 하는 노력이 기울어지고 있다.또한 최첨단 기술 개발은 그 나라의 운명에 크게 영향을 줄 수 있는 중요한 문제로 인식

리포트 | 12페이지 | 3,000원 | 등록일 2004.08.17

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[반도체] 플라즈마에칭

이온 flux의 방향으로만 식각이 일어나는 비등방성 식각을 얻을 수있다. 아래의 (예)는 이러한 중합막이 형성되는 과정을 기술한 것이다. 여기서볼 수 있듯이 불포화종을 잘 형성 ... 된 wafer의 식각률 증가그림 4.에서 (a)는 도핑되지 않은 Si이 염소에 의해 식각되는 것이다. 이것은 Cl과 Si원자가 공유결합을 이룬 형태로 분자간력에 의해 기판에 접근 ... 률은 그렇게 크지 않다. 이와 달리 (b)는 n-type 도핑된 Si,Poly-Si의 식각이다. doping에 의해 fermi 준위가 상승되어 전자를 Cl에 줌으로써 ionic

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.05.13

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[공학기술] 나노 테크날러지

결정체에 특정의 기능을 부여할 수 있는 기술을 말한다.나노물질은 어떻게 만들까?나노 과학은 원자나 분자를 벽돌처럼 쌓듯이 조합해 완전히 새로운 나노물질을 제조하는 방식 ... 가조립에 관한 연구 필요Nano 관련 기술나노 기술은 80년대 초 원자 및 분자를 제어할 수 있는 원자력 현미경(AFM)과 주사전자현미경(STM)이 개발되면서부터 시작됐다.◇ 혈액 ... 기술에 사용됨. 2. 2차전지전극 및 연료전지 응용장점나노와이어를 이용한 고집적 메모리 기술자석봉을 세워두는 자석봉 어레이기술에 의해 지금의 컴퓨터 하드디스크보다 300배쯤 많

리포트 | 22페이지 | 1,500원 | 등록일 2003.05.20

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트랜지스터

전류는 200mA로 증가한다.반도체 기술의 발달과 회로①전자 회로 : 트랜지스터, 저항, 축전기 등을 연결하여 어떤 특수한 기능을 갖게 구성한 것이 전자회로이다.②집적 회로 ... Integr렉터에 비해 이미터 쪽의 다수캐리어 농도를 훨씬 크게 도핑 함으로써 기능상 차별을 기함과 동시에 전류전도의 효율을 기한다.위 그림에서 이미터 베이스 간은 캐리어의 농도가 상대

리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.06.28

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[컴퓨터 구조와 이론] 광마우스와 LCD의 작동원리 및 특성

를 직접 구동하기 때문에 콘트라스트. 해상도, 시야각, 응답속도 등에서 수동구동보다 훨씬 우수한 특성을 나타낸다.TFT기술로 만들어진 디스플레이 화면은 노트북이나 랩탑 컴퓨터에 보편 ... 은 1,000℃ 정도의 공정온도를 갖는 반면 TFT 공정은 유리기판을 사용하기 때문에 300 ~ 500℃의 공정온도를 유지해야 하므로 오히려 반도체보다 까다로운 기술이다.1 ... 막으로는 활성층을 이루는 비정질 실리콘(a-Si:H)과 접촉 저항층을 이루는 도핑된 비정질 실리콘막(n+ a-Si:H)이 있다.2. Sputtering 공정 (증착공정

리포트 | 35페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.08.04

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[전자회로실험] 증가형 MOSFET의 단자 특성과 바이어싱

에는 모든 회로)의 지지대 역할을 하는 단결정 실리콘 웨이퍼이다.그림에 {n ^＋소스(source)와 {n ^＋드레인(drain) 영역으로 표시되어 있듯이, 고농도로 도핑된 두 개 ... 에 제작되며, 전하 캐리어는 정공이다.NMOS와 PMOS 트랜지스터를 동시에 제조하는 반도체 공정 기술이 있는데, 우리는 이 기술을 상보형 MOS(complementary MOS ... ) 또는 CMOS 기술이라고 부른다. 그림 13.2에, PMOS와 NMOS 트랜지스터가 어떻게 제조되는지를 설명하는 CMOS 칩의 단면도를 나타냈다. PMOS 트랜지스터는 {n

리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.09.05

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[신체운동학] 스포츠의 경기력 향상을 어떻게 파악할 것인가

, 특히 미국의 선수와 유럽의 선수 사이에는 그 운동경과 즉 오늘날이 의미로서 기술 의 상위가 명확히 눈에 띠었다. 처음으로 행하여진 대규모의 국제적인 경기회의 비교라는 것이 가져온 ... 것은, 합목적적인 운동경과의 방식, 소위 기술 에 의하여 경기력이 좌우된다는 중요한 인식이었던 것이다.』이러한 인식에서, 경기화에서 보다 나은 성과를 얻은 경과를 살펴보면, 합 ... 여 점점 더 목적 지향성이 명확히 되고 있다. 소련이 이 대회에 처음 참가한 이래, 동 서양 진영의 트레이닝 방법의 개발 경쟁은 더욱 치열해져, 도핑 문제로까지도 파생되어 현대

리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2002.09.15

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[반도체공학] Transparent conducting oxide

2O3, MgO 등의 material보다 TCO로의 응용가능성이 높기 때문이다. 일례로 Figure 3를 보면, 지난 수십년간 증착장비와 기술의 발달 및 doping ... 한 TCO개발이 현재 중요한 이슈가 되고 있다.SnO2의 경우 가장 먼저 상용화 가능성이 점쳐졌던 물질이다. 주로 주석산화물은 Sb이나 F을 도핑하여 높은 전도도를 갖도록 하는 연구

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.14

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[전자 및 광학] LED DISPLAY & DRIVING

이 ACTIVE LAYER에서 결합되면서 그 영역에 도핑된 화합물에 따라 각기 다른 파장의 빛을 발산하게 된다.LED는 위에서 말한 그 칩을 사용하여 발광소자로 사용할 경우 아주 낮은 휘도 ... 에도 많은 PACKING기술들이 개발되므로써 전광판의 종류도 늘어나고 있다. 현재 SMD과 LAMP의 중간형태의 제품과 COB와 LAMP의 중간형태(GOB)의 제품도 출시되고 있다.4

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.06.30

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반도체 제조공정

증착으로 부르기도 한다.◆ CVD기술의 장점1. 다양한 두께와 저항을 가지는 에피를 기를 수 있다.2. 다결정 실리콘막, 실리콘 질화막, 실리콘 산화막을 만들 때 낮은 비용 ... 으로도 박막을 얻을 수 있다.3. 실리콘 소자를 보호하기 위한 층으로 이용되는 실리콘 산화막이나 실리콘 질화막을 낮은 온도에서 만들 수 있다.◆ CVD 기술의 종류1. 대기압 고온 화학기상 ... 다.◆ LPCVD의 장점1. 동일 웨이퍼나 웨이퍼간의 두께 및 저항의 균일성이 우수하다.2. 저온 저압 공정으로 반응로와 웨이퍼부터의 자동 도핑의 감소가 가능하다. 에피 성장 의 경우도 동일

리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.10.12

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[전자전기정보공학] 플라즈마

상 반도체 소자나 청색 발광 다이아몬드 등과 같은 획기적인 이용분야가 전개될 전망이다.이 외에도 제조된 반도체 소재에 플라즈마 형태로 도핑을 해서 전기전도도를 조절한다.② 고분자 ... 에서와 같이 증착시 기판의 고온 가열이 필요하여 이에 수반되는 모재의 변형, 변성을 줄일 수 있는 등의 장점이 있기 때문에 플라즈마를 이용한 초경피막 기술 등이 산업체에서 쓰이기 시작 ... 하고 있다.④ 환경 정화 - 전자빔이나 글로 방전 플라즈마를 이용하여 공장의 배기가스 중 NOx, SOx를 제거하는 건식 처리기술은 환경 분야에서도 플라즈마가 중요히 쓰임을 보여준다

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.06.10

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PVD, CVD 그리고 Nucleation

들의 공통적인 요소들은 다음과 같다.APCVD 장비 설비 구성의 Block-Diagram2.2. PECVD2.2.1. PECVD 장비의 설비 구성반도체 산업에서 저온기술에서 증착 ... 된 실리콘 질화 막은 금속 공정후의 마무리보호막 층으로 주목 받고있다. 이러한 경향은 많이 사용되고 있는 인(P)으로 도핑 된SiO2(PSG) 보호막 보다도 습기나 유동이온의 침투 ... 증착하고자하는 박막에 따라 반응 용기 안에 원하는 종류의 재료를 설치하게 되는 Target 등으로이루어 진다.1.1. PVD 기술에 의한 박막 형성법가) 진공 증착법저압하에서 열선

리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.05.23

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[반도체] si 반도체

기술을 써서 패턴을 형성하게 했다. 실리콘은 게르마늄보다 융점이 높아 고온 공정이 가능해서 확산 시간이 얼마 들지 않는다. 또한 산화 규소는 실리콘 표면의 오염을 막아주고 고온 ... 에 실리콘 표면에 정확한 선택적 도핑을 시킬 수 있다. 반도체 재료간의 물리적, 화학적 성질의 비교GeSiGeAsSiO2원자량72.628.09144.6360.08(원자, 분자) /cm24

리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.05.31

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반도체

이 연속적으로 도입되었으나, 그 당시에는 아직 반도체 공정 및 처리 기술의 수준이 초보적인 단계여서 재현성 있는 소자의 동작을 얻기에는 미흡한 상태였다. 더구나 MOS 트랜지스터의 경우 ... 의 대안적 성격을 띤 구조인 복잡한 바이폴라 트랜지스터가 반도체소자의 주종을 이루어다. 재현성 있는 MOS 기술의 개발은 결국 1960년대에 들어서야 Bell 연구소의 한국인 강대원 ... 는 진성캐리어 농도가 된다.2 불순물반도체Si에 어떤 다른 원소가 미량 도핑{) 극히 적은 양의 인을 첨가하는 경우될 경우 이 혼입된 불순물을 도펀트라 부르며 이러한 반도체를 불순물

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2001.10.09

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[전자회로실험] 증가형 MOSFET의 단자 특성과 바이어싱

다. [기판은 몸체(body)라고 불리기도 한다.] 그림에 {n ^＋소스(source)와 {n ^＋드레인(drain) 영역으로 표시되어 있듯이, 고농도로 도핑된 두 개의 {n영역 ... 되며, 전하 캐리어는 정공이다.NMOS와 PMOS 트랜지스터를 동시에 제조하는 반도체 공정 기술이 있는데, 우리는 이 기술을 상보형 MOS(complementary MOS) 또는 ... CMOS 기술이라고 부른다. 그림 13.2에, PMOS와 NMOS 트랜지스터가 어떻게 제조되는지를 설명하는 CMOS 칩의 단면도를 나타냈다. PMOS 트랜지스터는 {n형 기판에 직접

리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.05.28

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[광통신] 광섬유 제작과 조건과 그 공정(MCVD)

Ⅰ Introduction1970년 저손실 광섬유가 개발된 이후 광통신 시스템이 매우 빨리 발전되었다. 현재 많은 기술 개발과 제작 방법의 발전으로 더 향상된 시스템 개발이 기대 ... ub 2- {B sub 2 O sub 3is based (short wave length) → 초창기에 사용되었다.long wave length를 필요로 할 때는 boron은 도핑 ... 속도도 조절이 가능하다Ⅷ Collapsedopant 도핑이 끝나고 Consolidation까지 끝난 preform은 구멍이 있는데 이 구멍을 막아주는 과정이 Collapse 과정이

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.05.04

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[전자기학] 트랜즈시터 c-e회로와 플레밍의 법칙

은 바로 매우 얇고 도핑 농도가 낮은 베이스 층에 기인한다. 에미터-베이스간에 순방향전압을 걸었을 때 에미터로부터 방출되는 다수캐리어인 전자는 베이스층이 정공농도가 낮고 두께가 왔 ... 다. 이 힘을 이라고 한다. 플레밍의 법칙은 로렌츠힘에서 자기장과 속도가 이루는 각이 특별히 직각인 경우이다. 이 법칙은 로렌츠힘의 관계를 현장의 전기기술자도 이해하기 쉽도록 고쳐 표현

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.05.13

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[전자공학] FED의 정의와 이해

)에 대하여 살펴보도록 하자.제 2장. 본 론1. 개요FED는 PDP보다 나중에 등장했지만 현재 상용화 초기 단계까지 발전한 디스플레이 방식이다. 반도체 기술을 이용하여 제작 ... 는 경우에만 전압 세기에 따라 발광하며, 픽셀 단위를 빠른 속도로 스캐닝하여 디스플레이 전체의 형광 물질을 발광시켜 역상을 표현한다.FED는 발광체 제작 공정에 높은 반도체 제작 기술 ... 을 요구하며, 고진공 기술이 함께 사용되므로 제작이 쉽지 않다. CRT와 같이 고전압이 필요하고, 전압의 변화에 따른 발광 세기 변화가 선형으로 제어되지 않으며, 정밀도가 떨어지

리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.03.31

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[광공학] squid

것으로 예측된다.● 비파괴 평가 장치항공기나 대형 구조물 등의 결함 탐지나 제조업, 재료 공정 산업 및 반도체 생산라인 등의 품질관리에서도 SQUID는 기존의 기술로는 측정 ... 장치저온초전도 SQUID를 이용한 자력계는 이?널리 보급되어 재료의 자 기적 특성 측정에 사용되고 있으며, SQUID 현미경, 고감도 DNA및 항체 검사 등의 새로운 응용기술 ... 의 논문 / 기사다가오는 꿈의 미래 기술 - 초전도 전자공학박용기한국표준과학연구원 책임연구원지구자기장의 100억 분의 1정도로 작은 생체자기신호를 감지하는 초전도양자간섭장치

리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.12.12

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[보건학]운동상해와 응급처치

또는 기술부족 주의집중 부족 또는 지나친 긴장 준비운동 부족 과도한 훈련 및 피로 불완전한 회복 훈련으로 인한 재부상 불완전한 운동기능학적 자세 *외적요인 – 기구, 장비 및 설비 ... 무리한 기술, 셋째 근력의 불균형 (넓적다리 앞쪽인 대퇴사두근과 뒤쪽인 햄스트링의 근력 비율이 1:0.6으로 형성되는 게 이상적인데 햄스트링 근력이 약하면 스트레인의 덫에 걸릴 ... 과도 무관하지 않다 고 말했다. 특히 황선홍을 비롯한 대부분의 대표선수들이 경기 출전에 앞서 국제축구연맹(FIFA)의 도핑테스트가 허용하는 범위안에서 진통제 주사를 맞아왔다고 이

리포트 | 20페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.06.07

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