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"진공및박막" 검색결과 541-560 / 1,637건

  • 반도체 및 나노물리학 과제물
    결정 박막을 형성하는 기술실험조건- 초진공상태를 만들어 주기 위한 장치가 필요하다.- cell에서 나오는 분자선은 기판에 입사시켰을 때 온도 영역 및 분자선의 강도비에 따른 분자 ... 제거반응 생성물들은 반응공간에서 벗어나게 된다.예) 전자싸이클로트론공명플라즈마 화학기상증착법(ECR-PECVD)에 의한 Pt 및 RuO2 기판에서의 PZT 박막의 증착을 예로 들 ... 의 결정구조는 X선 회절분석기를 통해 분석한다.Pt 및 RuO2 기판 위에 증착된 PZT 박막의 두께와 표면형상은 α-step과 SEM으로 각각 조사한다.Pt dot는 상온
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    | 리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.10.10
  • 판매자 표지 자료 표지
    LCD와 관련된 용어 정리
    vapor deposition): 화학증기증착. 피복하는 기판상에 원료가스를 흘리고, 외부 에너지를 부여함으로써 원료가스를 분해하여 기상반응으로 박막을 형성하는 기술.7 ... 으로 제조10.전극(electrode): 전극은 전지, 콘덴서, 진공관 등에서 전기장을 만들거나 전류를 빼내거나 하는 막대 모양 또는 판 모양의 도체로, 화학 전지나 전기분해 등 ... 있다.11.캐릭터리제이션(characterization): 재료의 제조 및 사용, 또는 물성의 연구에서 필요한 조성·구조 등에 관한 식견을 밝히는 일. 특히 표면에 관해서는 이제
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    | 리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.06.20
  • 디스플레이 개론에 관하여 발표한 자료입니다.
    Ray Tube) 는 음극선관을 말하며 일명 브라운관이라고도 한다 . 전기신호를 전자빔의 작용에 의해 영상이나 도형 , 문자 등의 광학적인 영상으로 변환하여 표시하는 특수진공관이 ... 과 넓은 시야각을 가지며 제조 공정과 구동방식이 간단하여 가격이 저렴하다 . 그러나 전자빔 편향을 이용함에 따라 화상 왜곡 방지 및 포커스 향상을 위해 일정 두께가 필요하고 무거우 ... 되고 가속 및 형광막에 집속 시켜 형광면을 발광시켜 화상을 형성 • 전자총에서 만들어진 전자빔은 서로 직각으로 배열된 2 조의 편향판이나 편향코일 사이를 통과할 때 , 편향판
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    | 리포트 | 67페이지 | 4,000원 | 등록일 2014.02.11
  • TFT-LCD 모듈 분석(TFT array와 C/F array 기판분석)
    위에 진공증착 등의 방법으로 형성된 박막을 이용하여 만들어진 트랜지스터이다. 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor)라고도 하며 제작을 위해서는 반도체와 절연체 ... , 그리고 금속의 박막을 차례로 증착하여 만든다. TFT 어레이는 미세 스위치들로 이루어져 있는데 이 스위치들은 빛을 차단할 수 있는 액정(Liquid Crystal)의 형태를 결정 ... ] : TFT panel을 현미경으로 확대한 사진.부가 설명및 그림- PCB PAD와 ESD를 통해서 화소로 들어가게 된다.- Gate는 가로방향이며 Data는 세로방향이다.
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    | 리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.04.01
  • PVD 증착
    Evaporation 진공 중에서 박막 물질을 가열하여 증발시켜 그 증기를 기판 위에 성장 PVD ┃ Evaporation- 일정한 두께의 박막 을 얻기 위해서는 구 모양의 웨이퍼 홀더를 사용 ... 우수한 박막 PVD ┃Ion plating장점 : 기판과 박막표면의 청정화 , 밀착성이 뛰어난 박막 , 박막의 치밀화 , 결정화 , 화합물피막 , 낮은기판온도 단점 : 이온화 및 ... A W M S 전자 증착되는 물질 WK E E K D 전자빔에 의한 진공 증착기 PVD ┃ Evaporation전자빔 (Electron Beam) 의 개략도 PVD
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    | 리포트 | 46페이지 | 4,000원 | 등록일 2010.07.29
  • lcd 제조공정 및 현황 A+
    다. 이것은 고분자 박막의 형성에서부터 러빙(Rubbing)공정, 그리고 진공을 이용한 액정 주입 공정 등 광범위한 분야의 지식과 기술이 필요하다.1)엄금용, 디스플레이 공학, 기전 ... 및을 열고 닫는 역할을 잘 수행할 수 있도록 액정을 한쪽 방향으로 균일하게 배향시켜 주는 액정 구동의 중요한 재료이며, 액정 배향막의 액정 배향 특성 및 박막으로서의 전기적 특성 ... Ray Tube:음극선관)이 발명되면서 역사가 시작된다. 이후 1934년 영국의 쇤베르크가 CRT를 이용한 진공관 TV를 발명하면서 100년 이상 가정용 TV나 컴퓨터 등에서 꾸준히
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    | 리포트 | 42페이지 | 2,500원 | 등록일 2011.12.27
  • 구리필름 전기적 특성
    박막을 four point probe를 통해 면저항을 측정한 후 부피를 곱해줌에 따라 비저항을 확인한다.④ 입자크기(XRD) 및 texture(FESEM) 조사- 주사현미경을 통해 ... 박막의 표면을 확인한다.4. 실험 결과 및 고찰- 결과Cu deposition conditionBase pressure: 1*10-5 torrWorking pressure: 3.0 ... te전과 후 열처리 온도에 따른 저항의 크기 변화와 박막표면의 변화를 알아보는 실험이었다. 실험은 크게 시편제작 sputterring 증착, 열처리, 비저항 및 박막의 표면 측정
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    | 리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.11.14
  • 40나노_기술_응용(소자)
    을 배치한 것으로 CNT음극, 그리고 전극 및 형광면(양극)으로 되는 삼각진공관의 일종이다. 형광체를 교환 함으로서, R,G,B의 3원색 외에 , 오렌지, 백색의 발광도 얻을 수 ... 듬.Quantum dotsEpitaxi가 성잘할 수 있는 모드에서 기판과 박막의 격자가 불일치가 클때 생성됨*epitaxi- 규칙적이 배열이 이루어 올라가는 것 기판온도가 높 ... 와이어 생성 이미지CNT-FED (카본 나노 튜브 전계 방출형 디스플레이)*전계방출 – 고체표면에 강한 전계가 걸렸을 때에, 전자가 고체표면의 에너지 장별을 투과하여 진공 중에 직접
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    | 리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18
  • Thermal Evaporation법을 이용한 박막 제조 및 Hall Effect 전기적 특성 (결과레포트)
    해 보았다.2. 이론2.1. 진공증착법 1)진공증착은 스퍼터 증착법과 더불어 박막 작성의 기본 기술이다. 더욱이 최근에는 이온 어시스트 증착 등, 진공 증착과 이온 공학기술을 복합 ... ?퇴적시켜 박막을 형성하는 기술이다.진공증착은 증착원에서 방출된 증착 입자가 도중에 잔류 가스 등의 기체분자와 충돌하지 않고 수 10cm 떨어진 기판에 도달하는 압력이하로 한다. 예 ... 당 매초 3X1025개의 질소분자가 기판 또는 성장 중인 박막 표면에 충돌한다. 실제로는 산소나 수분을 함유한 대기를 감압하여 진공을 만드는 경우가 많고 10-3 Pa의 압력으로도 상당
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    | 리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.11.28
  • 1. 마이크로웨이브를 이용한 금속황화물 나노분말 제조 결과
    어진 생성물을 실온 건조 후, 진공 건조 하여 CdS NCs 를 얻는다.4. 결과 및 토론4.1 결과시약분자량CdCl2?2.5H2O228.36 g/molCH4N2S76.12 g ... 나노 분말을 합성해 보았다.목차1. 서론2. 이론3. 실험 방법4. 결과 및 토론5. 결론6. 참고 문헌 및 자료1. 서론Microwave 에너지를 이용하여 반도체산업 재료에 사용 ... 는 금속 황화물인 CdS(cadmium sulfide)는 박막화가 용이한 육방정계 구조의 n형 직접 천이형 Ⅱ-Ⅵ족 화합물 반도체이다. CdS 박막에 대한 연구는 두 방면으로 꾸준히
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    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.01.01
  • PLA의 고유점도와 표면개질 측정
    하다. 그 종류의 원소 및 화합물의 증착이 가능하며 공정조건의 제어범위가 매우 넓어서 다양한 특성의 박막을 쉽게 얻을 수 있을 뿐만 아니라 좋은 step coverage를 갖는 등의 특성 ... 로 부착하는 기술 세라믹이나 반도체 소재 등에 전자 회로를 만들기 위해 고진공 상태에서 고체를 증발시켜 박막 thin film 이나 후막 thick film 을 형성하는 경우에 사용 ... 도 측정1. 점성도 (viscosity)액체의 점성도라는 것은 유체의 흐름에 대한 저항성이다. 점성도는 분자 간 인력과 분자의 크기 및 모양에 관계된다. 그러므로 분자간의 인력
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    | 리포트 | 17페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.10.16
  • 각종증착장비에대하여...
    monolayer 이하로 나타나는 특성을 보인다.◎ALD의 특징 및 CVD와의 비교ALD 기술의 경우 표면 반응을 이용하여 원자 층 단위로 박막을 성장시키며 cycle 수에 따라 증착되는 박막 ... 다. 삼성분계 물질은 박막의 조성의 균일성 문제 및 반응 원료 선택의 어려움 등으로 인해 지금까지는 거의 연구가 이루어지지 않았다. 삼성분계의 경우 예를 들어와 같은 산화물을 증착 ... 를 포함하고 있는 기체상태의 화합물을 이 기체가 반응을 일으킬 수 있는 환경을 갖는 반응실로 유입하여 화학적 반응에 의해 기판 표면 위에서 박막이나 에피층을 형성하는 것이다. 반응
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    | 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.04.13
  • OLED 고분자, 저분자 재료
    ) 및 터비움(Tb)계 화합물  유로피움 및 터비움계 화합물 - 좁은 발광대역폭 - 낮은 안정성(진공증착의 어려움) - 낮은 효율2. 전기인광재료 이리듐계 유기금속화합물 - 높 ... 형성EML/ETL증착Cathode 형성Encapsulation정공주입 및 전달 재료 전자전달재료 또는 정공속박재료 발광재료1-1. 전기발광소자용 유기재료의 요구특성♦ 전기발광소자 ... 용유기재료의 요구특성 ▶ 고순도 (수명, 휘도와 관련) ▶ 진공증착 (가능) ▶ 무정형 (소자 작동시 발생하는 Joule 열로 야기되는 결정화에 의한 소자의 파괴를 방지) ▶ 높
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    | 리포트 | 43페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.06.11
  • ICP ( 고주파유도결합플라즈마)
    . SputteringSputtering은 고진공진공챔버내에 불활성 가스인 아르곤가스를 일정한 분위기의 압력이 되도록 채운 다음에 DC 및 RF Power를 타겟이 음극이 되도록 인가 ... 을 방출한다.방출하는 발광선 및 발광강도를 측정하여 원소의 정성 및 정량분석에 이용하는 방법을 ICP라 한다.2 ) 본론1. 플라즈마플라즈마란 초고온에서 음전하를 가진 전자와 양전하 ... 플라스마 안에서 주로 관찰되는 바탕선 들은 Ar+, O+, ArH+ 및 H2O+.이다.3. 장치?ICP 발광광도 분석장치는 시료도입부,고주파전원부,광원부,분광구,연산처리부 및
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    | 리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.05.30
  • REPORT-마이크로나노(MEMS 및 ICS)
    REPORT1.MEMS 및 ICS에 사용되는 식각공정을 분류하고 이에 대하여 장단점과 특성을 아는바 대로 기술하시오MEMS 식각공정은 건식식각공정이 대표적이다.건식식각기술은 용액 ... 여 장착 시키는 진공 Port를 가지고 있다. 반응생성물과 사용되지 않은 기체들은 진공 Pump로 반응로 바깥으로 배출(배기)된다.수직으로 놓인 Wafer의 간격은 잘 조정 ... 다PECVD에서의 주요 형성 박막(1) SiO : 층간 절연막 (IMD, ILD) intermetal Dielectric, Inter Layer Dielectric
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    | 리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.07.08 | 수정일 2022.12.17
  • 구리필름의 전기적 특성 분석 실험
    μΩ-㎝ 로 매우 낮으며 이러한 특성으로 인해 RC delay에 따른 신호지연 및 응답속도 차이를 극복하는데 이용할 수 있는 좋은 재료이다.본 실험에서는 이러한 Cu 박막의 전기 ... 로)③ 구리 박막의 비저항 변화(four-point probe)④ 입자크기(XRD) 및texture(FESEM) 조사4. 실험 결과 및 고찰1) 열처리 온도에 따른 ... 적 특성에 영향을 미치는 인자들에 대한 실험을 진행하고자 한다.2. 이론적 배경1) Sputtering의 원리* sputter의 원리sputtering은 진공도가 일정수준에 이르
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    | 리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.07.04
  • ZnO의 성장 및 열처리 조건이 물질 특성에 미치는 영향
    보고서 제출일자 : 2010. 12. 7제출자 :공동연구원 :지도조교 :지도교수 :- 목차-I. 서론II. 이론 및 선행 조사1. ZnO의 기본 물성과 응용2. ZnO 박막 성장 ... ) SEM의 분석 방법 및 원리5. 열처리의 목적III. 실험결과 및 분석1. ZnO 박막의 성장 과정2. 성장된 ZnO 박막의 기초물성 조사 및 분석(1) Hall effect 측정 ... 는다. 그 후에 Rotary Pump와 Turbo Pump를 이용하여 Chamber 안을 진공을 만들어 준다. 진공을 만들지 않고 반응시킬 경우에는 다른 기체들로 인해 박막이 제대로 성장
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    | 리포트 | 48페이지 | 2,500원 | 등록일 2010.12.18
  • 화학기반 인쇄전자
    인 쇄전자 소개 적 용사례 및 미래 향 후 전망 Contents인 쇄전자 소개인쇄 전자란 무엇인가 ? 인쇄전자 는 기존 반도체 노광공정을 대신하는 기술 산업용 인쇄기술을 이용 ... 제작  산화공정  감광액 도포  노광  현상  식각  이온주입  화학 기상 증착  금속배선  웨이퍼 뒷면 연마  웨이퍼 절단  칩 자동 선별  금선연결 및 성형 ... Printed Electronics Source: MAN, Infineon, PolyIC장 점 공정수 감소 + 비진공 공정 + 클린룸 불필요 → 설비 투자비 대폭 절감 기존 식각공정
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    | 리포트 | 32페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.05.25
  • EWOD 결과레포트
    )EEE#사용하는 장비 및 방법Sputter(스퍼터)진공상태에서 아르곤 가스를 소량 주입해 재료기판과 타깃 기판 사이에 전압을 인가해 이온화하여 타깃에 부딪히게 해 타깃의 재료가 튀 ... 1-1. 반도체 공정순서 및 관련 내용 기재Electrode(Sputter)Glass(cleaning)PR(Spinner)Electrode(Sputter)Glass(c ... 어 나와 반대쪽 기판에 붙는 방법을 이용해 박막을 제조하는 장치.Spinner(스피너)실리콘이나 유리판과 같은 평평한 판 위에 원심력을 이용해 미세공정에 필요한 감광액을 균일한 두께
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2014.06.06
  • 이온 플레이팅에 관한 리포트
    증발된 이온들에 여러 종류의 gas들을 반응시켜 박막으로 만들어지므로 PVD(Physical Vapor Deposition 물리적 증착)라 불리어진다.2. 원리 및 특징 - 탁월 ... 1. Ion plating이란? Ion Plating은 500℃이하의 온도에서 강한 박막을 형성할 수 있는 표면처리 기술로써 물리적 방법으로 coating 물질을 증발시킨 후 ... 한 밀착성 & 고밀도 피막형성 일반적으로 Ion Plating에 의해 형성된 막은 표1과 같이 밀착성이 종래 진공증착에 비해 50~100배 정도 뛰어나다. 이것은 방전 중
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    | 리포트 | 20페이지 | 2,500원 | 등록일 2010.06.11
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2025년 11월 01일 토요일
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