"저온플라즈마"의 검색결과 입니다.

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cvd 식품 관련 발표 탄소나노튜브 중앙공급실 족보 안과 수술 스퍼터링 펌프 공대생

"저온플라즈마" 검색결과 481-500 / 1,024건

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원광대학교 인수공통감염과 야생동물

, 리노스포리듐증, 윤선, 스포로츠리쿰증, 콕시이오에데스증, 노카르디아증, 블라스토마이세스병, 히스토플라즈마병, 황선원충 및 기생충성 인수공통전염병- 원충 : 사르코시스트병 ... 에장 약하여 저온살균 시 사멸된다.④전염경로(1) 감염동물- 우 결핵균 : 소, 돼지, 개, 산양, 고양이, 말, 카나리아, 앵무새, 원숭이- 인 결핵균 : 원숭이, 돼지, 개 ... 으로 예방접종을 실시하고, 우유 유제품을 저온 살균한다. 고기와 내장등은 완전히 익혀 먹으면 안전한 것으로 알려져 있고 불완전하게 익혀먹거나 날것으로 먹을 때 희박하지만 브루셀라증

리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.09.09

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인공 다이아몬드

다이아 응용- 열적적 특성의 응용- 기계적 특성의 응용- 광학적 특성의 응용- 다이아 몬드가공과 전기적특성 응용Ⅱ-3 광학적 이용-코팅 방법- 물리적 코팅(PVD)- 플라즈마 코팅 ... 시키는 방법이다.1. 전자 빔 원2. 알곤3. 반응 가스4. 코팅할 부품5. 코팅 재료6. 도가니 (양극)7. 저 전압 아크 방출원8. 진공 펌프4.2 플라즈마 코팅- 소개?low ... -pressure glow discharge를 이용함으로써 화학반응을 촉진시키고, 열적 반응만 있을 때보다 더 낮은 온도에서 plasma-assisted 반응을 가능하게 하

리포트 | 44페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.12.07

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PVD와 CVD의 비교 및 분석

, 증기압, 장치구조, 전원출력 등의 물리적인 변수의 제어로 공정결과를 결정가능.5. 저온에서 가능하며, 정확한 합금성분 조절이 용이하다.6. Step Coverage, Grain ... 에서 금속 화합물로 만들어진 Target에 고전압을 공급하여 주면 Target 주위에 Plasma방전이 발생되고, 방전영역에 존재하고 있는 양이온들이 전기적인 힘에 의해 ... 는 100~1200도 범위로 광범위하게 사용된다.유입된 반응가스를 분해시키는데는 열, RF전력에 의한 Plasma 에너지, 레이져 또는 자외선의 광에너지가 이용되며, 기판의 가열

리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.05.15

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스퍼터링(sputtering deposition)의 이론 및 원리

의 플라즈마는 전기저항이 낮아지게 된다. 이러한 자기적 특성을 이용하면 전압을 상승시키지 않고 높은 밀도의 플라즈마를 생성시킬 수 있다.자기적 특성Plasma (용어)What is ... Contents1. Plasma 2. Basic aspects of sputtering 3. Sputtering techniques1. PlasmaPlasma (정의)What ... is plasma? - 전체적으로 중성을 유지하고 있으나, 부분적으로 하전 되어있는 가스집단NeutralsPositive ionsNegative electronsSame

리포트 | 24페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.24

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STX 조선해양 기업분석

석유계 천연가스를 액화한 것을 운반하는 선박으로, 주성분은 메탄(비등점 -162℃)이 90% 이상을 차지한다. LNG선 화물창은 고압과 극저온 상태에서는 일반 금속의 취성(깨어지 ... 는 성질)이 크게 증가하므로 이를 피하기 위해 특별한 강철로 구성되어야 하고, 저온유지를 위한 냉동장치와 보온설비가 필요하다.▶ STX조선해양은 고부가가치선의 대명사라고 할 수 있 ... 공장에서는 설계 정보대로 플라즈마 절단기를 이용하여 강재를 자르고 조립공장으로 인계한다.③ 평블록 공장평블록 공장은 가공공장에서 절단된 강재를 사용하여 평블록을 생산하는 공장이다

리포트 | 33페이지 | 2,500원 | 등록일 2012.04.26

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[소각처리][소각처리법][소각처리(소각처리법) 비용][폐타이어소각][다이옥신]소각처리(소각처리법)의 방법, 소각처리(소각처리법)의 비용, 소각처리(소각처리법)의 폐타이어소각, 소각처리(소각처리법)와 다이옥신

상태를 유도하여 폐기물을 처리하는 플라즈마(plasma) 처리기술이나 적외선 소각, 촉매소각(catalytic incineration) 등의 신기술이 개발되고 있다.현재 주로 이용 ... 저온영역에서는 온도가 증가함에 따라서 다이옥신의 배출수준은 급격히 감소되다가 최소값을 보인 후 다시 온도의 증가와 함께 다시 증가하는 경향을 나타내고 있다. 폐기물 소각로의 경우 ... 하게 혼합되지 않으면 부분적으로 저온구간이 생기고 이것으로 말미암아 불완전연소의 원인이 되어 다이옥신류의 파괴가 제대로 일어나지 않게 된다. 따라서 온도, 가스체류시간, 혼합 등의 연소

리포트 | 7페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.10.11

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CMOS 집적회로 제작공정

불가능 → 플라즈마 산화막 증착(저온공정, TEOS)?SOG를 웨이퍼 위에 떨어뜨리고 회전(고르게 분포, 2차 산화막) → 굴곡이 심함 메탈-2가 고르지 않아짐 CMP로 메탈-1 ... 수 있음?불화수소산에 의한 에칭은 등방향으로 진행, 마스크 아래까지 에칭이 됨. 실리콘 질화막은 뜨거운 인산사용?플라즈마 에칭 - 진공 시스템 내에서 고주파, 여기에서 생성된 가스 ... 플라즈마에 의해 수행, 가장 많이사용가스 플라즈마에는 실리콘 산화막을 에칭시키는 불소나 염소가 포함되어 있음?스퍼터에칭 - Ar+같은 고에너지의 불활성 가스 이온을 웨이퍼 표면

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.04.19

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Display 소자 재료 조사(FTF-LCD , PDP , ELD, FED)

고 있습니다.◈ PDP의 구동 원리플라즈마는 고정 화소 장치로써 개별의 픽셀이 허니콤에 근접한 유리구조에 형성되어 있습니다. 픽셀의 후면에는 R,G,B로 코팅되어 있으며, 내장 ... 에는 전압이 입력됩니다. 이 전압은 가스가 플라즈마 상태로 변하여서 자외선을 방출하도록 합니다. 아래의 표를 살펴봄으로써 PDP의 각 픽셀의 구동원리에 대해 쉽게 이해할 수 있 ... 습니다. PDP 각 픽셀의 동작 원리그리고 이 자외선은 형광체의 한색을 때려서 그 색상의 빛을 재분사하도록 합니다. 분사강도를 변화시키면서 R,G,B 삼원색을 조화시키면, 플라즈마 패널

리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.06.06

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구리필름 전기적 특성

하여 전류의 흐름이 생기고, 이러한 active 전자와 이온의 존재로 인하여 다른 물질을 여기 시키는 촉매 작용을 할 수 있다. 또한, Plasma에 자장을 인가 시 전자와 이온 ... 은 자장의 방향과 직각으로 원운동을 한다. 이 성질을 이용 시 Plasma density를 조절 할 수 있다.①SputteringSputtering은 chamber내에 공급되는 gas ... econdary)Ar이 excite되면서 전자를 방출하면, 에너지가 방출되며, 이때 glow discharge가 발생하여 이온과 전자가 공존하는 보라색의 plasma를 보인다

리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.11.14

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스퍼터링 실험실 설계

되게 하는 과정이다. 그러므로 피처리물과 마주보는 표적재료 표면(다이오드 상태)에서 무거운 불활성 가스인 아르곤 가스가 글로우 방전에 의해 플라즈마를 형성하고 음극인 표적재료 표면 ... 분포, Rate등에 영향을 끼친다. • Cathode (Target)에 RF나DC전력을 투입, Plasma를 발생시킨다. – RF는 절연물의 성막, DC는 주로 Metal의 성막 ... 에 사용된다. • Plasma에서 발생된 Ion이 Target으로 입사. – 충돌 에너지는 100eV이상 필요 • 튀어나간 Target원자가 기판에 부착되어 성막된다. – 부착

리포트 | 54페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.03.28

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탄소나노튜브

전기방전이 잘 일어남.◈ 일반적으로 MWNT가 많이 합성됨...PAGE:127. Carbon Nanotube의 제조방법(3)Plasma 화학 기상증착법◈ 열CVD에 비해 저온

리포트 | 17페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.02.19

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[물리화학] 반도체 나노 입자의 분광학적 성질

에 의한 화학적 합성법(High frequency plasma chemical process) 은 공정 중에 여러 종류의 화학물질과 기체가 저온 플라즈마에서 반응하여 나노 결정질 물질 ... 생산(응축과정중이나과정후에 적절한 반응 가스를 주입하여)과 금속합금생산(다중 전구체의 동시 응축으로)에도 적용될 수 있다.2)고주파 플라즈마에 의한 화학적 합성법고주파 클라즈마 ... 를 플라즈마와 결부시켜 플라즈마 화학 반응기를 디자인하였다.영국의 Tioxide Specialties Ltd.(Bi-llingham, Cleveland, U.K.)는 1200℃이상의 온도

리포트 | 12페이지 | 3,500원 | 등록일 2010.04.04 | 수정일 2017.07.02

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표면공학 - 화학증착법 발표

적으로 이루어지기 위해서는 다음과 같은 요구조건들을 충족시키는 반도체 제조공정용 설비개발이 병행되어야 한다 . 공정진행 온도의 저온화 ~Shallow 접합 , 소자의 신뢰성 향상 , 저유전 ... 되고 있다 . 이러한 상황에서 요구되고 있는 CVD 공정기술이 갖추어야 할 특징 은 다음과 같다 . 박막화 / 고품질화 -ALCVD, 플라즈마 반응원이용 , 매엽식공정 저결합 / 고수 ... 속도로 증가하고 있다 . 2. HDPCVD 최근 들어 일반적인 열 CVD 기술보다 저온에서 우수한 막질의 박막과 층덮힘 특성 등의 개선을 위하여 , 종래의 열만에 의한 것이 아닌 추가}

리포트 | 35페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.10.14

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박막재료의 표면처리 및 식각실험(예비)

plasma ashing) - 플라즈마 ashing 장치를 이용하여 산소 플라즈마를 발생시켜서 적절한 조건에서 마스크 패턴을 제거한다.(6) 마스크 패턴을 제거한 산화막의 표면 색깔 ... 높은 물리적 현상이 나타난다.② 이용분야● 대기압 플라즈마정의기체의 압력을 100 Torr 부터 대기압(760 Torr) 이상 까지 유지하면서 저온 플라즈마를 발생하는 기술 ... 용 광원 기술-플라즈마 판넬 디스플레이(PDP)나노기술-금속 나노 분말제조 공정 기술-탄소 나노 튜브 제조공정● 진공 플라즈마정의기체의 압력을 100 Torr 이하로 유지하여 저온

리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.07.28

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박막증착 개론

emiconductorglossary.com/default.asp?searchterm=ECR+plasmawww.engadgethd.com/category/plasma/2. 주변에서 볼 수 있는 플라즈마 ... 등의 제품손상을 막아준다.출처: www.dt.co.kr/contents.htm?article7) 음식물 쓰레기 처리기광촉매 +저온플라즈마로 구성되어 있으며 온도 및 에너지 제약 ... 에서 박의 큰 단점 중 하나는 증착속도가 느려서 생산성이 떨어진다는 것이다. sputtering 공정에서의 증착속도는 타겟의 sputtering 속도와 직결되며 이는 플라즈마의 밀도

리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.11.26

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반도체공학의 공정

을 활성화시키고 이용하는 경우는 이온 플레이팅(Ion plating)으로 분류되므로, 엄밀한 의미에서 증발은 플라즈마 PVD(Plasma assisted PVD, 이하 PAPVD ... , TiN등의 코팅은 대단히 딱딱하고, 절소공구, 금형의 코팅에 이용된다.CVD에 있어서 반응온도의 저온화는 기판의 결정입자의 조대화, 처리품의 변형저감, 반응용 기내의 치구수명의 연장 ... 때문에 할로 겐화물의 비등점 이상의 온도가 반응 조건이 된다. 따라서 반응온도의 저온화를 목적으로 하는 경우는 할로겐을 포함하지 않는 유기금속을 반응가스로 하는 M.T

리포트 | 22페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.07.09

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소독, 멸균, 봉합사

(Plasma gas sterilization)① 가스 플라즈마는 액체, 고체, 기체와 마찬가지로 물질의 상태중 하나이다. 가스플라즈마 는 전기를 띤 입자를 만들고, 가스분자를 흥분 ... 장 수준의 소독방법으로 호흡치료기구나 마취기구에 주로 사용된다.저온살균의 단점으로는 해당 물품의 살균 표준화가 되어 있지 않다는 것이다. 저온살균은 높은 수준의 소독을 위해서 세척 ... 멸균, EO 가스 멸균, 건열 멸균, 액체 화학제를 이용한 멸균, 저온살균법 등이 있다.1. 열을 이용한 멸균1) 고압 증기멸균(Steam sterilization)이 방법은 멸균법

리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.11.16

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반도체 공정

를 주입하고 열, 플라스마등의 에너지 주입에 따른 화학반응 장점 여러 종류 막성장 가능 저온성장 가능 Step Coverage 우수안정화가 높아 표면에 모임고농도저농도CVD ... Undercut이 발생 건식식각(Dry Etching) 반응가스를 Chamber에 넣어 Plasma를 형성시켜 막을 식각 식각 제어력이 높음 선택성 저하, 불순물에 의한 오염, X ... 하고자 하는 막을 물리적인 방법으로 웨이퍼 위에 증착 Sputtering법, Evaporation법 저온공정 Step Coverage 문제(Evaporation)진공상태에서 형성

리포트 | 50페이지 | 5,500원 | 등록일 2011.03.31

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박막증착 장비의 종류 및 원리, GaN LED

에 플라즈마나 빛에너지도 사용되며 이런 경우는 플라즈마 (Plasma) CVD 또는 광(Photo) CVD 라고 합니다. 이러한 CVD는 현재 상업적으로 이용되는 박막제조 기술 중 가장 ... 는 플라즈마를 이용함으서 그 만큼 열에너지를 줄일 수 있게 되어 저온에서 박막을 형성할 수 있습니다. 이러한 장점으로 SiO2, SiNx, amorphous silicon등을 낮 ... 는 화학적 기상도금 또는 화학증착이라고 하는 고순도 고품질의 박막을 형성하는 기술로 저온에서 기화한 휘발성의 금속염(Vapor)과 고온에서 가열된 도금할 고체와의 접촉으로 고온분해

리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.11.30

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CNT의 특성과 응용

Chemical Vapor Deposition)(5) 레이저 증착법(laser vaporization)(6) 플라즈마화학기상증착법(PlasmaEnhancedChemicalVapor ... 되고 있다. CVD법은 열 CVD법, DC 플라즈마 CVD법, RF 플라즈마 CVD법, 마이크로파 플라즈마 CVD법으로 구분할 수 있다. 이러한 CVD 방법은 기존의 전기방전법 ... 적 저온으로 유지되고 탄소나노튜브의 합성이 이루어지는 제 2온도 영역은 고온으로 유지된다. 제 1온도 영역은 탄화가스를 분해할 수 없지만 촉매금속을 기화시키기에 충분한 비교적 저온

리포트 | 19페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.06.04

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