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반도체 공정 금오공대 반도체 중앙공급실업무 플라즈마 ITO Scribing 포스텍 대학원 PEALD pled 진공 증착
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"저온산소플라즈마" 검색결과 281-300 / 324건

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    [생물학]혈액
    의 분류ⅰ. 혈장(血漿, plasma)투명한 담황색인 중성의 액체이다. 혈액에 응고방지제를 넣어 원심침강시키거나 저온(약 0℃)에 방치해 두면 위쪽에는 혈장이, 아래쪽에는 유형성분 ... 가 부유하고 있어 균일하지 않음을 알 수 있다. 혈액의 주된 역할은 각종 물질의 운반이며, 폐에서 섭취한 산소나 소화관에서 흡수한 영양소 등을 전신의 모든 세포로 보내고 반대로 세포 ... 이용된다. 또한 혈액에 의해 운반되는 물질로는 영양소(포도당, 지방산, 비타민)와 대사노폐물, 호흡기체(산소, 이산화탄소) 그리고 호르몬이 있다.ⅱ. 혈액세포? 적혈구(赤血球
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    | 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.12.15
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    [간호학] 소독물품, 소독제, 멸균법의 종류와 관리
    가 많이 든다-GAS 노출시 부작용-내시경의 fiber가 손상될 수 있음(3) H₂O₂(SRERRAD 200)멸균- 저온멸균 플라즈마 멸균기① 저온멸균-소독원:H₂O₂58%-온도: 45 ... : 원액을 물에 희석, 발생되는 발생기 산소에 의한 살균, 표백 작용살균력은 용액의 농도보다 pH에 의해 좌우된다.(pH가 낮을수록 살균력 강함)원액을 200~300배 희석시 ... 적 소독방법(2) Gas 멸균① 저온멸균 : 38도~54도② 멸균물품 : 섬세하고 예리한 외과기구, 안.이비인과기구, 성형외과 기구, 현미경 미세수술기구, 장비의 부품속,PVC제품
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.05.05
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    포토리소그라피(photolithograpy)공정의 기본과 금속배선공정인 무전해, 전해도금의 기초 및 원리
    된다. 화학적 에칭이나 플라즈마 에칭은 그 때 감광제로부터 웨이퍼 표면의 장벽 물질에 패턴을 전사할 때 사용한다. 각 마스크 공정은 수많은 과정마다 정교하게 해야 한다. 그리고 직접회로 ... .princolevelcontrols.com)2.4 저온 건조(Soft Baking)- 감광제의 용제를 제거하고, 접합을 향상시켜 노광이나 현상 시 정확한 상의 전사 가 되도록 하는 공정2 ... 하여 백금-로듐의 도금 층을 형성 시킴으로써 염소과 전압이 낮고 산소과 전압이 높기 때문에 염소의 순도가 좋고 소 비전력이 적으며 염소가스가 발생하는 가혹한 조건에서 사용하는데도 수명
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    | 리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.17
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    수술실실습기록지 - 기구물품소독
    는 스포아(SPORE)균을 멸균 시키는데 충분하다.(4)Formaline 멸균의 장점과 단점①장점 : 저온 멸균 중 멸균시간이 짧다. 운용비용이 저렴하다. 가스 누출 위험이 적 ... 라 멸를 사용하기 때문에 멸균후 생성물이 O2(산소)와 극소량의 수증기(H2O)를 만들기 때문에 특별한 배수나 환기 장치가 필요없다.④이 기술은 열과 습도에 약한 fiber optic ... (Diffusion -phase) -> 프라즈마 과정 (Plasma phase) -> 환기 과정 (Vent phase)(4)STERRAD의 장점과 단점①장점 : 멸균시간이 짧
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    | 리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.02.27
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    [기계공학실험](기계공학)연소공학실험(저 Nox 공정)
    선 차폐 필요저온플라즈마 공정1. 방전에 의해 자유전자 발생2. 주위 중성기체와 충돌, 라디칼 반응또는 암모니아 사용시 중화반응1. 전기집진기 개조사용2. 타 공정에 비해상대 ... 으로 줄이면 화염영역의 산소농도가 감소되어 Thermal NOx 와 Fuel NOx를 억제함과잉산소농도 1% 감소시 NOx 25ppm 감소보일러 부하에 따른과잉공기량 조절 필요열부하 변경 ... 분해법촉매 사용으로 NOx를 N2, 02 로직접 분해하는 방법NOx 제거 공정중 가장 바람직한 방법40 ~ 70% 제거율1. 저온에서 사용 가능2. 분해반응 느림으로공정시간 계산
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    | 리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.07.10
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    [자연과학]혈액의 관찰과 혈핵형의 판정
    형)(AB형) (O형)5. 이론◎ 혈액의 구성? 혈장(blood plasma)혈액 속의 유형성분(적혈구 ·백혈구 ·혈소판)을 제외한 액체성분. 투명한 담황색인 중성의 액체이다. 혈액 ... 에 응고방지제를 넣어 원심침강시키거나 저온(약 0℃)에 방치해 두면 위쪽에는 혈장이, 아래쪽에는 유형성분으로 나누어진다. 이 경우 혈장이 차지하는 비율은 남녀에 따라 약간의 차이 ... 고 있어 산소를 운반하는 일을 한다. 골수에서 만들어지며, 혈액 속에서 약 100일간 작용한 후 파괴되지만, 혈액 속의 적혈구 수는 항상 일정하게 유지되고 있다. 혈액 1mm3 속
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    | 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.10
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    [반도체 공정, 반도체 기본, 반도체, CVD, P] 반도체 예비레포트
    를 떼어낸 뒤 양극에 위치한 실리콘 웨이퍼에 증착시킨다. 표적재료가 고순도 실리콘인 경우는 산소부분압 속에서 증착한다.② 250℃～600℃공정?저온 화학 기상증착 : 사일테론 ... 하거나 산소 플라즈마로 태워 제거하면 창을 가진 장애물층이 노출된다.3.1.4 광식각에 필요한 주요요소① 마스크마스크는 크롬이나 산화철 같은 물질이 박막으로 씌워진 얇은 유리판 ... 의 형성공정① 200℃이하 공정?양극산화 : 액체 전해액을 이용하여 실리콘 시료가 전해액속의 양극에서 산화됨. 전해액 : 에틸렌글리콜 + KNO3?진공증착 : 증착은 산소 부분압 속
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    | 리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.10.04
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    [박막공학] CVD의 모든것
    을 일으키기 위한 이온의 공급이외의 역할은 없었다 그러나, 플라즈마는 예를 들어 저온 플라즈마라도 물질 제 4의 상이라 부리울 정도로 고온상태로 추측되기 때문에. 화학적으로 매우 활성 ... 는 열, RF전력에 의한 Plasma 에너지, 레이저 또는 자외선의 광에너지가 이용되며 기판의 가열에 의하여 분해된 원자나 분자의 반응을 촉진하거나 형성된 박막의 물리적 성질을 조절 ... 을 형성하기 위해 사용되는 두 개의 중요한 반응이다. 산소원자의 일반적인 공급원은 산소원자 그 자체이거나 CO2이다. 최근에는 오존(O3)이 SiO2를 형성하기 위해 사용되고있
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    | 리포트 | 12페이지 | 4,000원 | 등록일 2002.07.20
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    질화규소
    3N4는 소량의 산소를 고용하기 쉬운 물질로 되어있다. 즉, α-형은 저온, 저산소분압에서 안정하며 β-형은 고온, 저산소분압에서 안정하다.질화규소 결정구조의 기본은 Si3N4 ... 는 육방정계에 속하는 저온형인 α-Si3N4와 고온형인 β-Si3N4 결정 및 비정질 Si3N4가 있다.α-형을 1400~1600℃로 가열하면 β-형으로 전이하지만 β-형에서 α-형 ... 으로의 전이는 일어나지 않는다. α-Si3N4는 결정구조중에 소량의 산소를 함유하는 산질화물(酸窒化物)이라는 주장도 있었으나 그 후 산소 함유량이 거의 없는 α-Si3N4의 합성이 보
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    | 리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.05.19
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    [간호학] 중앙공급실실습내용
    다.·멸균시간이 14시간 이상이다.④소요시간 : 55 (멸균 2시간 기계적 정화 12시간) , 37 (멸균 5시간)(3)Plasma 소독기(Sterrad)①과산화수소가스 플라즈마 ... 소독기는 전자파와 과산화수소가 결합하여 가스 플라즈마를 만들어 서로 작용하여 미생물을 파괴한다.②증기와 산소를 만들므로 특수한 배수나 환기장치가 불필요하다.·H2O2를 소독원 ... 으로 이용한 저온 멸균기·소독시간 : 75 분- 105분·과산화수소 농도: 6mg/L③과정㈀Vacuum phage(진공상태)챔버 속의 공기를 제거하기 위해 깊은 진공을 이끌어낸다.(8
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    | 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.02.07
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    대체 에너지(수소)
    이 사용상 문제점으로 제시되는데, 이는 폭발범위가 크고, 착화가 용이하고, 수소의 화염은 무색으로 식별이 어려운 반면 확산 및 화염속도가 크기 때문이다.거의 모든 수소는 산소와 결합 ... 분해 수소제조, 저온 열화학 싸이클에 의한 수소제조 등으로 나누기로 한다.① 기존 화석연료의 개질에 의한 수소제조화석연료 가운데 천연가스는 물보다 수소함유량이 높고 대량 생산에 유리 ... 을 활용할 수 있어 많은 주목을 받고 있다.천연가스 직접 분해기술은 열분해법과 플라즈마 이용법으로 크게 나눌 수 있는데, 먼저 천연가스의 열분해 기술은 아래의 반응식에 의해 이산화
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    | 리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.03
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    [박막공학] Sputtering
    으로 공정 조건이 대기압에서 이루어 지면 APCVD라 하고, b) 낮은 압력에서 이루어 지면 LPCVD라 한다. c) 또, 플라즈마가 개입되는 경우 PECVD라 하여, 낮은 압력 ... 의 한 예다. 시료의 반입-반출실을 설치한 에어록 기구는 대기중의 산소나 물, 기타 각종 탄화수소가 성장실로 침입하는 것을 막은 필수 불가결한 기구이다.③ 이온 플레이팅진공 증착 ... 에서는 진공 증착과 마찬가지로 증착원의 교환이 필요하게 된다. 생성된 증착 입자의 이온화는 증착원과 기판 사이에 들든 비활성 가스, 반응성 가스 플라즈마 또는 전자빔을 이용한다.이온
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    | 리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.12.22
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    유기 EL의 원리와 향 후 전망
    평판형 방전을 이용한 ITO 표면산화법 ② 진공상태에서 UV 자외선을 이용하여 생성된 오존을 통해 ITO표면을 산화하는 방법 ③ 플라즈마에 의해 생성된 산소 라디칼을 이용하여 ITO ... 을 이용하여 유기 EL전용 ITO 박막을 제작하는 것이 필요하다. 일반적인 용도로 제작된 ITO 기판을 플라즈마와 같은 적절한 표면처리를 통해 저항특성을 개선하여 풀칼라 ... 표면을 산화하는 방법 등 대략 3종류가 있다. 기판의 상태에 따라 위의 3가지 방법 중 한가지를 선택하게 되는데 어떤 방식을 이용하든지 공통적으로 ITO 표면의 산소이탈을 방지
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    | 리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.07
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    수혈
    의 경우처럼 조직으로의 산소 보급이 필요할 때 ③ 응고인자의 결핍 또는 혈소판 감소에 의해 출혈경향이 있어 혈액응고인자의 보급이 필요할 때 ④ 급성의 혈장상실에 따른 말초순환부전 ... ;platelet rich plasma)으로 분리한다. PRP는 다시 원심분리하여 혈소판농축액과 혈소판결핍 혈장(PPP;platelet poor plasma)으로 분리하며, PPP인 혈소판 등 ... 적혈구, 초저온에서 동결시킨 냉동혈액(해동적혈구)을 조제한다. 이와 같이 분리조제된 혈액을 혈액제제라한다. 즉 적혈구수혈은 만성빈혈, 외과수술 전후의 수혈, 임신말기의 빈혈, 외과
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    | 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.06.14
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    [촉매공학] 촉매이용사례
    에 대한 저감기술이 아직 미흡공정상에서 직접 질소산화물을 저감장점설치 및 운영비용이 저렴단점NOx의 근본적인 제거 곤란, 적용대상이 한정적연소방법의 개선 : 저온 다단연소법저농도 ... (900-1000˚C)적정량의 NH3 주입최근 연구개발 되고 있는 기술전기방전, 전자빔, X-ray, 플라즈마 등..PAGE:5화력 발전소 및 화학 공장 등의 고정원 배출 가스 제거 ... 제거V2O5-Al2O3 촉매산화반응의 효율이 높다350℃ 이상에서는 NH3가 NO로 전환..PAGE:9Pt 촉매산소 함유 하 200℃의 온도에서도 NOx 90% 제거무산소시
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    | 리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.10.03
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    [직접회로] 생기교육자료 ETCH
    & POST CHAMBERCLUSTER화* HIGH DENSITY PLASMA* 저온화/저압화* RF BIAS'95 이전(NON-BIAS TYPE)● PLANAR / SPRP● RIE ... ..PAGE:1ECDEETCH1. ETCH 장치 ROADMAP2. ETCH 장치 개요2-1 ETCH 장치 MAKER 기술동향2-2 ETCH 장치의 구성요소2-3 PLASMA ... SOURCE3. ETCH 공정 ROADMAP4. ETCH 공정 개요4-1 DRY ETCH / WET ETCH 개요4-2 PLASMA 원리4-3 ETCHING MECHANISM4-4
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    | 리포트 | 62페이지 | 1,500원 | 등록일 2002.12.22
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    [재료공학과] 유도결합형 플라즈마를 이용한 사파이어 식각
    plasma) 식각 장비3.2 공정 변수에 따른 사파이어의 식각3.3 유도결합형 플라즈마의 특성 분석과 식각 후 표면분석3.4 소자분리를 위한 사파이어 식각4. 실험 결과 및 ... 전압에 의존하게 된다.Fig 2-1. Ilustration of plasma etching integrating chemical and physical etching2.3 플라즈마 ... 《목 차》1. 서 론2. 연 구 배 경2.1 유도결합형 플라즈마(ICP)의 방전 원리2.2 건식 식각의 기본 원리2.3 플라즈마를 이용한 식각의 반응 기구2.4. OES를 통한
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    | 리포트 | 49페이지 | 3,000원 | 등록일 2002.12.07
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    [간호학] 중앙공급실 레포트
    플라즈마 소독기는 전자파와 과산화수소가 결합하여 가스 플라즈 마를 만들어 서로 작용하여 미생물을 파괴한다.·증기와 산소를 만들므로 특수한 배수나 환기장치가 불필요하다.H2O2를 소독원 ... 으로 이용한 저온 멸균기·소독시간 : 75∼105분과산화수소농도 : 6mg/L온도 : 40∼50℃·원리① Vacuum phage (진공상태)챔버 속의 공기를 제거하기 위해 깊은 진공 ... 안으로 넣고 증기화 시킨다.③ Diffusion phage (확산상태)과산화수소 증기는 챔버 안에서 확산되어 포장지와 소독물로 확산된다.④ 플라즈마 상태추가적인 진공상태 만들어지
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    | 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.03.25
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    [재료공학] 침탄
    Nitriding)- 높은 표면경도가 얻어진다.(HV1,000~1,200)- 내마모성이 커짐.- 피로한도가 향상됨.- 내식성이 우수함- 저온에서 처리하기 때문에 변형이 적다.- 내열성이 좋 ... 이 채용되고 있다. 각용사법에는 각각 특징이 있다.3. 플라즈마 용사법의 기본플라즈마는 고체, 액체, 기체에 이은 제4물질 상태라고 불린다. 이것은 극히 고온체에서 자유전 다, 양 ... 이온 등으로 이루어져 있는 방전전리기체로, 특필할 만한 장점은 전자와 이온을 거의 같은 정도의 밀도로 하고, 전기적 중성이며, 전기전도성을 갖고 있는 것이다. 플라즈마 용사법은 이
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    | 리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.03.24
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    표면처리 종류
    용, 방식용, 내마모용, 방산제품 플라스틱 라미네이트하지와 금속용사의 전처리로 그 활용이 다양하다.M:플라즈마 CVD(plasma CVD)저온에서 박막을 형성시키기 위해 플라즈마를 이용 ... 하는 저온 감압기상반응 방식인데 플라즈마를 이용하여 반응가스를 활성화시켜 통상 가열된 기판상에 박막을 형성시키는 방법이다. 열 CVD에서는 고온으로 인해 변형 및 적용 소재의 제한 ... 등의 문제를 가지고 있고, PVD는 밀착력 및 소재 형상에 제약이 있다. 플라즈마 CVD 이 두 가지의 장단점을 절충 및 조화시켜 비교적 저온에서 밀착성이 좋은 박막을 얻고자 최근
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    | 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2001.09.20
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2025년 11월 09일 일요일
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