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"물리증착법" 검색결과 261-280 / 980건

  • 반도체 소자 및 반도체 집적 회로
    는 거의 없고, 따라서 기본적인 반도체 소자의 동작원리를 배우는 것이 매우 어렵다고 느끼게 된다. 사실 반도체는 매우 복잡한 학문분야이다. 양자역학을 기초로 한 고체 물리학의 지식과 전 ... 에피층은 약 0.5~20 ㎛ 정도의 얇은 층으로 제작되고 있다.그림 3.3.2 Czochralski성장법 그림 3.3.3 부융대 성장법에피택셜 공정 방법은 일반적으로 액상 ... 상태)로부터 실리콘 원자를 증착시킴으로써 에피층을 성장시킨다. 기상 에피택셜 공정을 화학적으로 표기하면 아래와 같이 나타낼 수 있다.SiH4 →Si + 2H2(3.3.1)SiH4
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    | 리포트 | 45페이지 | 8,000원 | 등록일 2017.12.31
  • 반도체 및 고분자 실험 반도체/ 실리콘 웨이퍼 실험과정과 멀티미터 측정 결과 A 받은 레포트
    procedure)1)실험 목적웨이퍼위에 증착된 물질의 면저항을 측정한다.2)실험 도구실리콘웨이퍼: 실리콘으로 만들어진 실리콘 웨이퍼는 넓은 energy band gap(1.2ev ... 이 형성되기 떄문에 빠르고 또한 은 함유량이 높아 상당히 낮은 저항치를 간단히 얻을 수 있다.멀티미터: 멀티미터는 전자계측기로서 기본적인 물리량 (전류, 전압, 저항 등)들을 손쉽 ... 게 측정할 수 있도록 고안된 장치이다. 물리량을 측정하는 방법에 따라 아날로그와 디지털 형으로 구분된다. 아날로그형 멀티미터는 가동코일형 지침을 이용하여 측정된 값을 연속적으로 표시
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    | 리포트 | 11페이지 | 4,500원 | 등록일 2019.02.28 | 수정일 2021.07.07
  • 판매자 표지 자료 표지
    Graphene그래핀, CNT조사 (성질, 합성, 제조, 응용분야, 대체 가능성)
    으로, 이이 기대된다.(2) 화학 증기 증착법그래핀 상용화의 걸림돌은 바로 큰 면적의 그래핀을 만들기가 힘들었다는 점이었다. 현재 가장 넓은 면적의 그래핀을 만드는데 성공한 것은 화학증착 ... 법에 의하여 구리 호일에 그래핀을 형성한 후 롤투롤(roll-to-roll)?공정에 의하여 구리 호일을 제거하고 원하는 표면에 그래핀을 증착시키는 방식이다.?이는 일반적인 ... 에서 메탄+수소가스를 투입하여 탄소가 촉매 층에 녹아들어가거나 격자사이를 비집고 들어가도록 한다. 이런 과정 후에 냉각하여 촉매 층을 제거하면 그래핀이 합성 된다.▲ 화기증착법에 의한
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 16페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.05.29 | 수정일 2017.01.09
  • 기계공학실험 보고서(5. 마이크로 표면측정)
    와 자기장을 생성하게 된다.6) 기타 표면개질(surface modification)을 물리적/화학적 방법으로 나누어 간략히 조사하시오.표면개질을 위한 방법에 기상증착법(Vapor ... 겠지만 실제 물질의 표면은 표면 거칠기 등의 상태로 인하여 히스테리시스를 지니게 된다. 표면 거칠기가 크거나 표면의 물리적, 화학적 비 균질성이 클수록 큰 히스테리시스를 보이게 된다 ... 오.플라즈마라는 말을 물리학 용어로 처음 사용한 사람은 미국의 물리학자 'Langmuir'(랑뮈어)로서, 전기적인 방전으로 인해 생기는 전하를 띤 양이온과 전자들의 집단을 플라즈마
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    | 리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.07.16
  • MOSFET/Capacitor/반도체 신소재실험보고서
    에서는 코팅화학적 촉매(열, 플라즈마, 빛(UV or LASER) 등)에 의해 서로 분해, 반응한 후 금속 물질은 silicon wafer 위에 얇은 막으로 남게 된다.PVD(물리기상증착법 ... )- PVD에 해당하는 증착법에는 Sputtering, 전자빔증착법(E-beam evaporation), 열증착법(Thermal evaporation) 등이 있다. 이 방법 ... 들이 공통적으로 PVD에 묶일 수 있는 이유는 증착시키려는 물질이 기판에 증착될 때, 기체상태가 고체상태로 바뀌는 과정이 물리적인 변화이기 때문이다. 쉽게 말해 주로 쓰이는 산화물 반도체
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    | 리포트 | 23페이지 | 2,500원 | 등록일 2013.12.03 | 수정일 2013.12.05
  • 멜트 스피닝 (melt spinning)
    목 차? 멜트 스피닝(melt spinning)? 실험 목적? 실험 방법 및 과정? 실험 결과 및 고찰? 비정질을 형성하는 실험방법 3가지- 스퍼터링- 진공증착- 이온플래이팅멜트 ... 格子) 위에 떨어뜨리고, 격자면상에서 용융하여 적하(滴下)한 것을 방사 노즐로부터 방출(放出)하는 용융 격자법(格子法)을 사용하였으나 최근에는 스크루 익스트루더(screw ... extruder)를 사용하는 방법을 많이 택한다. 어느 것이나 방사 후의 세척(洗滌)·건조 등의 공정을 필요로 하지 않는 생산성이 높은 방사법이다. 나일론, 폴리에스테르, 폴리올레핀, 염화
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    | 리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2016.01.12
  • [금속공학]건식증착
    상태로 바뀌는 과정이 물리적인 변화이기 때문이다.CVD에 해당하는 증착법에는 MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition), HVPE ... ), Cr의 크로마이징, 규소의 실리콘나이징, 아연의 징크나이징들이 있다.2. 물리증착 Chemical Vapor Deposition(CVD)(1) 스퍼터링법(Sputtering ... 건식 증착법담당교수담당조교학 번이 름제출일건식증착법 (Vapor Deposition)들은 두가지로 나눠볼수 있다.하나는 PVD (Physical Vapor Deposition
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    | 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.04.30
  • 이공계기술PT면접(2016하반기)-[304]신소재 그래핀
    제품도 개발한다. 역량집중을 위해 산학연 컨소시엄도 추진한다.한국은 구리 혹은 니켈 기판에서 고온으로 증착시켜 그래핀을 만드는 화학기상 증착법(CVD) 방식의 기술특허 건수가 세계 ... 차원 평면형태를 가지고 있으며, 두께는 0.2nm(1nm은 10억 분의 1m) 즉100억 분의 2m 정도로 엄청나게 얇으면서 물리적·화학적 안정성도 높다...PAGE:3(3) 특성 ... 이 소요된다.이번 연구성과는 미국 화학회가 발간하는 재료공학 분야 권위지인 ‘나노레터스’ 온라인판에 지난달 13일자로 게재됐다.(2) 현재의 제조법그래핀(graphene oxide
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    | 리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2016.03.11 | 수정일 2016.09.27
  • 나노공정 용어 정리
    (擴散係數) 등을 평균자유행로로 나타낼 수 있다.LP-CVD(Low Pressure-chemical vapor deposition)진공간 화학 증기 박막 증착 법.PE-CVD ... 을 일으켜 산화막과 금속막 등을 증착시키는 장비.Ion implantation이온주입법은 이 불순물반도체를 만드는 방법 중 하나이다. 목적하는 불순물을 이온으로 하고, 수십~수백 ... , 작은 경우를 음(-)흡착이라고 한다. 젖음은 액체의 고체면에 대한 흡착이다.Absorption(흡수)물질 또는 에너지 등의 물리량이 다른 물질에 포착되어 그 계 내에 도입
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    | 시험자료 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2016.04.11
  • [기계공학실험] 마이크로 표면 측정
    (evaporation) 증착법과 물질에 물리적인 충격을 주는 방법인 Sputtering 증착 법으로 나뉠 수 있다. 종류를 살펴보면 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔 증착 법 ... 적 방법 PVD(Physical Vapor Deposition)PVD 방법은 증착 대상물의 화학적 구조의 변화가 없이 물리적인 상태(phase)가 변하여 기판에 증착 되는 것을 말 ... (E-beam evaporation), 열 증착 법 (Thermal evaporation), 레이저 분자 빔 증착 법 (L-MBE, Laser Molecular Beam Epitax.
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    | 리포트 | 10페이지 | 2,500원 | 등록일 2013.09.06
  • CIGS 개론
    될 수있다. 현재까지 가장 좋은 효율을 얻을 수 있었던 것은 동시증발법으로서 출발물질로 4개의 금속원소-Cu, In, Ga, Se-를 사용한 것이다. 기존의 물리적 및 화학적 박막 ... vapor deposition, 이하 MOCVD)법 등이있고, 이들 중 상용화가 추진 중인 제작방법은 동시증착법과 스퍼터링법이다.동시증착법은 진공 쳄버 내에 설치된 작은 전기로의 내부 ... 하게 이용되고 있는 박박제조 법이고 비교적 경제적이고 양질의 박막을 제조할 수 있다. 스퍼터링법은 다음과 같은 장단점을 가진다.장점막 두께의 균일성,내화재료/절연막의 증착,큰 면적
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    | 리포트 | 18페이지 | 2,500원 | 등록일 2014.02.08 | 수정일 2015.08.24
  • 센서 Ι/Ⅱ(광/근접/로드셀 )실험
    에서 만든다. 진공 증착으로서 박막 소자를 IC기술 을 이용하여 제작한 것 등이 있다. 홀소자 이용법에는 다음과 3가지가 있다.1) 센서에 일정 전류를 흘려 놓고 자계와 자계로 변환 ... 된 다른 물리량을 검출하는 방법2) 센서에 흐르는 전류, 자계의 양자를 바꾸어 2가지 양의 승산 작용을 이용하는 방법3) 정 자계로써 입력 단자에 전류를 흘렸을 때의 센서 출력과 같
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    | 리포트 | 18페이지 | 3,000원 | 등록일 2019.03.23
  • 고려대학교 재료공학실험1 진공 증착기를 이용한 Ohmic Contact 형성용 Metal 박막 증착
    의 원리를 이해하고 박막의 제조와 분석을 통해서 진공과 박막의 기본개념을 이해한다.진공 증착 개요 및 원리박막을 제조하는 기술은 크게 물리적 방식을 이용하는 Physical Vapor ... .Chemical Vapor Deposition법CVD란 말 그대로 화학적 기상증착법을 의미한다. 이 방법은 접착력이 우수하고 복잡한 형태의 기판에 균일하게 증착시킬 수 있으며 고순도 물질 ... 의 증착이 용이하다. 그리고 특정한 형태의 기판에 원하는 부위를 선택하여 국부적인 증착도 가능하다는 점 때문에 현재 반도체 제조법에 있어 가장 유용한 방법 중 하나로 사용되고 있
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    | 리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.07.16
  • 로이유리의 제조공법 및 특징 분석
    Low-E 유리의 제조공법 열분해법 ( Pyrolysis ) Hard - coating 진공 증착 법 ( Magnetron Sputtering Vacuum Deposition ... 소프트 코팅 공법 열분해법 ( Pyroysis ) 진공 증착법 (MSVD) 장점 강한 내구성 - 절단 , 강화 등 가공 용이 단열 및 차폐 성능이 CVD 코팅유리보다 우수 여러 보조막 ... Vapor Deposition) 방식 높은 온도 (600~700℃) 에서 반응이 일어나기 때문에 반액체 상태의 유리와 코팅막이 단단하게 공유 결합하여 물리적으로 강한 내구성을 지니
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    | 리포트 | 22페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.01.08
  • Self-healing polymer & Super hydrophobic coating 자가치유고분자와 초발수 표면 최근 동향
    (photolithography)2) 전자빔(e-beam) 리소그래피2-4. 상향식(Bottom-Up) 방법1) 다층 침지법(layer-by-layer deposition)2) 졸-젤법 (sol-gel ... )3) 전기방사법(electrospinning)2-5. 새로운 적용 분야1) 반도체 분야2) 광학렌즈 분야3) 디스플레이 분야1. Self-repair and healing c ... 이 150° 이상이며 물방울이 흐르는 기울기각이 10° 미만인 물리적 특성을 가지는 표면을 말한다. 실제로 연꽃 잎은 물의 접촉각(contact angle)이 161° 그리고 기울
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    | 리포트 | 20페이지 | 10,000원 | 등록일 2014.12.30 | 수정일 2020.06.18
  • 그라핀의 합성법과 특징 및 응용
    를 이용한 방법의 경우는 전기적 특성이 좋지만 층간 저항이 발생한다.③ 화학증기 증착법 : 고온에서 니켈, 구리와 같이 탄소를 잘 흡착하는 촉매를 이용하여 탄소가 촉매에 흡착 ... Ⅰ. Graphene의 합성법① 기계적 박리법 : Graphene은pi 궤도함수의 전자가 표면에 넓게 퍼져 분포되어 있고 약한 Van der Waals 결합을 하고 있다. 따라서 ... 가 있다.② 화학적 박리법 : 흑연 결정에 화학적 처리를 하여 Graphene을 얻는 방법이다. 흑연 결정을 산화시켜 초음파로 분쇄하고 다시 환원제를 사용해 얻는 방법과 계면활성제
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    | 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.11.08
  • ASM-자기소개서-국문
    만 아니라 인턴실습도 반도체 분야에 집중하였습니다. 저는 2학년 1학기 물리 전자공학이란 과목을 통해 반도체의 동작원리 및 메커니즘에 대한 공부를 통해 반도체의 기초를 다지게 되었고 그 ... , 최근에 주목 받고 있는 OLED를 학교 내의 시설에서 직접 증착시켜보면서 반도체분야의 신기술을 배우고 또한 중요성을 깨닫게 되었습니다.이렇게 반도체 분야의 전문엔지니어가 되기 위해 ... 어 가장 합리적인 솔루션을 제공하였습니다. ‘초보자를 위한 입문용 기타’라는 주제로 진행한 졸업 프로젝트에서 스마트폰과 기타 간의 무선통신, 그리고 사용자의 운지법을 터치센서로 인식
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    | 자기소개서 | 2페이지 | 3,000원 | 등록일 2016.04.04 | 수정일 2018.05.16
  • LPE, VPE, MBE 장비
    과 불순물 가스인 화학적인 좋은 도핑된 에피층을 증착하기 위해 필요한 화학적이고 물리적인 반응을 하게 된다. 에피택셜 반응기의 일반적인 설계 장비는 가스 분배 시스템, 반응기 튜브 ... 의 현상에 대해서도 연구가 진행되어 분자선 에피택시라는 결정성장법이 개발되었다.한편 금속 혹은 반도체 시료를 진공 중에서 증발시켜 박막을 형성시키는 진공증착법은 오래전부터 있 ... toichiometric한 박막을 얻어낸 것은 1958년 K, G. Gunther 등의 3온도 증착법이 효시이다. 그러난 그 당시에는 진공도가 저진공이었기 때문에 증착 실내에 잔유가스가 많아 깨끗
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    | 리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.04.12
  • 재공실 실험2 예보 - RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해
    (physical vapor deposition, 물리증착법)드라이 플레이팅이라고도 한다. 진공 중에 금속을 기화시켜 기화된 금속 원자가 산화하지 않은 채, 방해물 없이 피도금물 ... 에 도금이 된다.진공 증착법, 스패터링법, 이온 플레이팅법으로 분류된다. PVD법은 알루미늄, 티탄이나 고융점 재료의 도금이 가능하고, 진공 중에 금속과 비금속 원자를 이온화하여 반응 ... 재료공학실험3 2013년 1학기예비보고서RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해1) PVD 증착방식인 Sputtering의 원리에 대한 이해▶PVD
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    | 리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29
  • 반도체 디스플레이 공학 - MOCVD 공정 표현
    되어 남은 Ga과 As의 전구체들이 표면 확산과 반응 을 통해 표면에 증착된다.그림 2 MOCVD의 공정 예2.1.3 MOCVD의 물리적 공정 순서전체적인 MOCVD 공정을 물리 ... 할 수 있는 장점이 있다.3. 결론3.1 실리콘 박막태양전지용 MOCVDMOCVD는 Metal Organic Chemical vapor deposition의 약자로 금속 유기물 증착법 ... , lattice site로 표면확산이 일어남2.1.2 MOCVD의 화학적 공정그림 2는 금속유기화합물(Ga(CH3)3, AsH3)들이 화학적으로 증착되는 과정을 보여준다.간략한 과정
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    | 리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.08.14
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