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[산업재산권 출원과 활용] 산업재산권의 출원방법과 심사, 산업재산권 등록과 분쟁해결, 특허권과 특허명세서

[산업재산권 출원과 활용] 산업재산권의 출원방법과 심사, 산업재산권 등록과 분쟁해결, 특허권과 특허명세서
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최초등록일 2012.05.08 최종저작일 2012.05
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[산업재산권 출원과 활용] 산업재산권의 출원방법과 심사, 산업재산권 등록과 분쟁해결, 특허권과 특허명세서
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    소개

    [산업재산권 출원과 활용] 산업재산권의 출원방법과 심사, 산업재산권 등록과 분쟁해결, 특허권과 특허명세서

    목차

    산업재산권의 출원 및 활용

    Ⅰ. 산업재산권의 출원

    1. 출원인 적격(자연인 및 법인)
    2. 출원방법
    1) 온라인 출원
    2) FD출원
    3) 서면출원
    3. 출원심사관련 주요제도
    1) 출원공개제도
    2) 우선권주장
    3) 심사청구
    4) 심사처리
    5) 우선심사
    6) 출원보정
    7) 변경출원

    Ⅱ. 각 권리별 출원의 심사

    1. 특허 심사제도의 개요
    2. 특허 요건
    1) 주체적 요건
    2) 객체적 요건
    3) 절차적 요건
    3. 심사절차
    1) 특허의 심사
    2) 디자인 심사
    3) 상표의 심사

    Ⅲ. 산업재산권의 등록

    1. 특허, 실용신안, 디자인등록
    1) 최초등록료 납부
    2) 연차등록료 납부
    2. 상표등록

    Ⅳ. 특허권의 효력

    1. 특허권 등의 효력범위
    2. 특허권의 효력
    1) 특허권의 효력
    2) 실시
    3) 특허발명의 보호범위
    4) 침해죄
    3. 특허출원된 발명 및 특허권의 보호
    1) 특허출원인 보호: 보상금청구권
    2) 특허권자 및 전요실시권자 보호: 민, 형사상의 법적 조치
    4. 이용발명

    Ⅴ. 특허권과 명세서

    1. 명세서의 의의
    2. 특허명세서의 구성
    3. 특허명세서의 주요기능
    1) 기술문헌으로서의 기능
    2) 권리로서의 기능
    3) 특허성 입증자료로서의 기능
    4. 명세서 작성 요령

    Ⅵ. 특허청구범위의 해석

    1. 특허권의 보호범위
    2. 청구범위 해석의 기준
    1) 특허청구범위
    2) 발명의 상세한 설명
    3) 출원의 경과 참작
    3. 특허청구 범위 해석원칙
    1) 권리일체의 원칙
    2) 특허청구 범위 문언중심의 원칙
    3) 발명의 상세한 설명 참작의 원칙
    4) 공지기술 참작의 원칙
    5) 공지기술 제외의 원칙

    Ⅶ. 산업재산권 분쟁의 해결

    1. 특허분쟁의 해결단계
    2. 특허심판
    1) 심판의 의의
    2) 심판의 종류
    3. 산업재산권 분쟁조정제도
    1) 산업재산권 분쟁조정 제도란?
    2) 분쟁조정제도 이용의 장점
    3) 조정신청
    4) 조정결과

    Ⅷ. 산업재산권정보자료의 취득

    1. 산업재산권 정보자료란?
    2. 산업재산권정보자료의 활용
    3. 특허청의 산업재산권정보자료 제공처
    1) 특허도서관
    2) 서울사무소열람실
    3) 지방특허정보지원센터
    4. 특허청 산업재산권정보 이용방법
    1) CD-ROM 이용방법
    2) 종이자료 이용방법

    본문내용

    (2) 출원방법

    1) 온라인 출원

    특허청에서 지급 받은 전자문서 작성용 소프트웨어(CD)를 이용하여 작성된 출원서 및 중간서류 등을 온라인으로 전송한 후 접수번호(출원번호)를 확인하면 절차가 종료된다.

    2) FD출원 (flexible disk application; FD application)

    전자문서 작성용 소프트웨어(CD)를 이용하여 작성된 출원서 및 중간서류 등을 FD에 수록하여 특허청에 제출하면 접수증을 교부한다.

    3) 서면출원

    소정의 양식에 의해 출원서 등을 작성한 후 특허청에 직접 또는 우편으로 제출하면 접수증을 교부한다.

    (3) 출원심사관련 주요제도

    1) 출원공개제도

    출원된 발명(또는 구법적용된 고안)은 출원일(우선권주장을 수반한 경우에는 우선일)로부터 1년 6개월이 경과되면 그 내용을 특허공보에 게재하여 출원 공개한다. 단, 출원인의 요구에 의하여 조기공개 가능하다.
    그리고 신법 적용된 실용신안, 디자인, 상표는 원칙적으로 출원공개제도 없다. 단, 디자인은 출원인이 신청한 경우에 한하여 공개한다.

    2) 우선권주장

    산업재산권을 최초 출원한 날(선출원일)로부터 일정한 기간 내에 동일한 내용을 출원(후출원)하면서 선출원한 사실을 주장하면, 선출원일의 출원 시에 후출원이 출원된 것으로 보는 제도이다.
    우선권주장 기간은 특허, 실용신안은 우선일로부터 1년 이내, 디자인, 상표는 우선일로부터 6개월 이내이다.

    3) 심사청구

    심사청구는 출원일로부터 일정기간 내에 하여야 하며(출원인이 아닌 제 3자도 청구 가능), 그 기간 내에 심사청구하지 않을 때는 그 출원을 취하한 것으로 본다. 심사청구기간 아래의 표와 같다.

    <중 략>

    3) 절차적 요건

    발명이 특허를 받을 수 있기 위해서는 이상의 주체적, 객체적 요건이외의 특허법이 요구하는 다음의 출원 절차적 규정에도 적합하여야 한다. 즉 특허출원은 서면에 의하여 되어야 하며 국어를 사용하고 양식에 적합해야 하는 한편 수수료(출원료 등)를 납부해야 한다.

    (3) 심사절차

    1) 특허의 심사

    1> 방식심사 : 출원의 주체, 법령이 정한 방식상의 요건 등 절차의 흠결유무를 점검하는 것.
    방식심사의 결과 절차의 하자가 있을 때는 보정을 명하고 보정으로도 그 하자를 치유할 수 없는 경우는 무효처분을 한다.
    2> 공개 : 출원공개는 특허출원에 대하여 그 출원일(우선권을 주장시 우선일)로부터 1년 6개월이 경과한 때 또는 출원인의 신청이 있는 때에는 특허청은 기술내용을 공개공보에 게재하여 일반인에게 공개한다.

    참고자료

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