반도체 이온주입에 관한내용입니다.

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최초 등록일
2012.02.27
최종 저작일
2011.04
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소개글

반도체 이온주입에 관한 ppt 입니다.

목차

1. 이온주입의 정의
2. 이온화 과정
3. 이온 분포
4. 이온정지 메카니즘
5. 채널링
6. 격자결함과 어닐링

본문내용

반도체 내부로 불순물 원자들을 주입하는데 사용하는 공정기술로서 반도체 기판의 전기적 성질을 변화시키는데 사용 된다.
과거 불순물 주입은 고온에서 확산과정에 의해 이루어져 왔으나 확산에 의한 불순물 주입은 수직방향 뿐만 아니라 수평반향으로도 불순물이 분포하여 디바이스 집적도 향상에 커다란 장애가 되어, 현재는 이온주입법이 사용된다.

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