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특허 및 논문 분석을 통한 축전식 탈염(CDI) 기술 연구 (The Study of Capacitive Deionization Technology by the Analysis of Patents and Papers)

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최초등록일 2025.05.31 최종저작일 2011.12
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특허 및 논문 분석을 통한 축전식 탈염(CDI) 기술 연구
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    서지정보

    · 발행기관 : 한국화학공학회
    · 수록지 정보 : Korean Chemical Engineering Research(HWAHAK KONGHAK) / 49권 / 6호 / 697 ~ 703페이지
    · 저자명 : 손원근, 강경석, 김태일, 한혜정

    초록

    축전식 탈염(CDI)은 높은 비표면적을 갖는 전극에 전기화학적 원리로 이온을 흡착하여 제거하는 기술이다. CDI 기술은 낮은 전위에서 작동하기 때문에 에너지 소비가 작고, 전극을 재생할 때 산, 염기 혹은 염을 사용하지 않기 때문에 환경친화적인 기술이다. 본 연구에서 우리는 CDI 기술의 동향을 알아보기 위해 특허와 논문을 조사했다. 데이터베이스는 WIPS와 Scopus를 사용하여 얻었으며 전극기술, 모듈기술 및 응용기술에 따라 조사되었다. CDI의 기술 동향은연도별, 국가별, 출원인별, 기술별로 조사되었다.

    영어초록

    Capacitive deionization(CDI) is an ion removal technology that employs the basic electrochemical principle of absorbing ions in high surface area electrode. CDI technology reduce power consumption because it operates at lower electrode potential(about 1~2 V). Also, it is an environmentally friendly technology because no acid, base, or salts are required to generate the surface. In this study, we searched the patents and papers to investigate the trend of CDI technologies. Database was collected from WIPS and Scopus site and was investigated according to electrode, module and application technology of CDI. The technology trend of CDI was analyzed based on patent application year, countries,main applications and technologies.

    참고자료

    · 없음
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