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PCR 장치를 위한 플라즈마 식각에 관한 연구

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최초등록일 2025.04.26 최종저작일 2003.09
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PCR 장치를 위한 플라즈마 식각에 관한 연구
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    서지정보

    · 발행기관 : 한국청정기술학회
    · 수록지 정보 : Clean Technology / 9권 / 3호 / 101 ~ 105페이지
    · 저자명 : 김진현, 류근걸, 이종권, 이윤배, 이미영

    초록

    MEMS(Micro Electro Mechanical System) 기술에서 실리콘 식각기술의 중요성으로 플라즈마 식각기술의개발이 꾸준히 진행되고 있다 본 연구에서는 ICP(Inductive Coupled Plasma)를 이용하여 플라즈마를 발생시켜, 이온에너지를 증가시키지 않고도 이온밀도를 높이고 이온입자들에 의한 식각의 방향성을 가할 수 있는 새로운 플라즈마 기술을 이용하였다. 이같이 플라즈마를 이용하여 실리콘웨이퍼를 식각하여 제조하는 MEMS 응용분야는 다양하나, 본 연구에서는 미생물배양에 응용할 수 있는 PCR(Polymerase Chain Reaction)장치 제작을 위한 식각에 이용하였다. Platen power, Coil power 및 Process pressure에 다양한 변화를 주어 각 변수에 따른 식각속도를 관찰하였다. 각 공정별 변수를 변화시킨 결과 Platen power 12W, Coil power 500W, 식각 / Passivation Cycle 6/7sec 일 경우 식각속도는 1.2㎛/min 이었고, sidewall profile은 90±0.7˚로 나타나 매우 우수한 결과를 보였다 본 연구에 SF6를 식각에 이용하였으며 공정의 최적화를 통하여 사용량을 최소화하여 환경영향이 최소가 될 수 있는 가능성이 있었다.

    참고자료

    · 없음
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