저가 다결정 EFG 리본 웨이퍼의 표면 반사도 특성 최적화 (Optimizing Surface Reflectance Properties of Low Cost Multicrystalline EFG Ribbon-silicon)

서지정보

· 발행기관 : 한국전기전자재료학회
· 수록지 정보 : 전기전자재료학회논문지 / 24권 / 2호 / 121 ~ 125페이지
· 저자명 : 김병국, 이용구, 저호, 이진석, 장보윤, 안영수, 오병진, 박재환, 임동건

초록

리본 실리콘 태양전지는 낮은 재료비용으로 생산할 수 있어 연구하였다. 하지만 기존의 산성 용액으로는 좋은 텍스쳐링 특성을 얻기가 어렵다. 고효율을 달성하기 위해서는 반사도 특성을 최소화 해야만 한다. 이 논문에서는 산 증기 텍스쳐링과 SiNx 반사방지막을 EFG 리본 실리콘 웨이퍼에 적용하였다. P-type 리본 실리콘 웨이퍼는 200 um의 두께, 3 Ω-㎝의 비저항 특성을 가지고 있다. 리본 실리콘 웨이퍼를 산성 증기에 노출시켰다. 산성 증기 텍스쳐링은 HF : HNO3.의 혼합 용액과 실리콘을 반응에 의해 진행되었다. 산성 증기 텍스쳐링 공정 후에 1 μm 미만의 크기로 나노구조로 형성 되었고 표면 반사도가 6.44%가 나타났다. 반사도는 SiNx 반사방지막을 증착 했을 때 2.37%로 낮아졌다.

영어초록

Ribbon silicon solar cells have been investigated because they can be produced with a lower material cost. However, it is very difficult to get good texturing with a conventional acid solution. To achieve high efficiency should be minimized for the reflectance properties. In this paper, acid vapor texturing and anti-reflection coating of SiNx was applied for EFG Ribbon Si Wafer. P-type ribbon silicon wafer had a thickness of 200 μm and a resistivity of 3 Ω-㎝. Ribbon silicon wafers were exposed in an acid vapor. Acid vapor texturing was made by reaction between the silicon and the mixed solution of HF : HNO3.. After acid vapor texturing process, nanostructure of less than size of 1 μm was formed and surface reflectance of 6.44% was achieved. Reflectance was decreased to 2.37% with anti-reflection coating of SiN_x.

참고자료

· 없음