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MOCVD 더스트로부터 Ga과 In의 침출 거동

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최초등록일 2016.04.02 최종저작일 2014.06
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MOCVD 더스트로부터 Ga과 In의 침출 거동
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    서지정보

    · 발행기관 : 한국분말야금학회
    · 수록지 정보 : 한국분말야금학회지 / 21권 / 3호
    · 저자명 : 박경수, Basudev Swain, 강이승, 이찬기, 홍현선, 심종길, 박정진

    영어초록

    Leaching of MOCVD dust in the LED industry is an essential stage for hydro-metallurgical recovery of pure Ga and In. To recover Ga and In, the leaching behavior of MOCVD scrap of an LED, which contains significant amounts of Ga, In, Al and Fe in various phases, has been investigated. The leaching process must be performed effectively to maximize recovery of Ga and In metals using the most efficient lixiviant. Crystalline structure and metallic composition of the raw MOCVD dust were analyzed prior to digestion. Subsequently, various mineral acids were tested to comprehensively study and optimize the leaching parameters such as acidity, pulp density, temperature and time. The most effective leaching of Ga and In was observed for a boiling 4 M HCl solution vigorously stirred at 400 rpm. Phase transformation of GaN into gallium oxide by heat treatment also improved the leaching efficiency of Ga. Subsequently high purity Ga and In can be recovered by series of hydro processes.

    참고자료

    · 없음
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