
총 27개
-
리소그라피 장비 종류 및 구동 방법2025.01.061. 리소그라피 리소그라피는 반도체 또는 TFT 제작 공정에서 감광제(PR)을 이용하여 증착된 막에 일정한 Pattern을 형성하는 공정으로, 증착과 세정 이후의 PR도포, 노광(Exposure), 현상(Develop)까지의 공정을 포함한다. 추가로 식각(Etching)과 PR 박리까지 포함하는 경우도 있다. 일반적으로 a-Si의 경우 5 mask 공정이므로, 5번의 Photo 공정을 수행하게 된다. 2. 리소그라피 장비 종류 리소그라피 장비에는 접촉형(Contact type), 근접형(Proximity type), 프로젝션형(Pr...2025.01.06
-
숭실대 신소재공학실험1) 14주차 고분자 디바이스 예비보고서2025.01.141. 4-point probe 측정 원리 4-point probe 방법은 동일선상에 놓은 4개의 핀을 시료의 표면에 접촉시켜 저항을 측정하고, 기하학적 보정계수를 적용하여 면저항을 측정하는 방식이다. Single configuration의 측정 원리는 핀 A, D에 전류(I_{AD})를 흘리고 핀 B, C에서 전압(V_{BC})을 측정하여 저항 R_a = V_{BC}/I_{AD}를 구하고, 면저항(R_S = k_a * R_a)을 구하는 방법이다. 여기서 k_a는 핀 간격에 대한 시료 크기 보정 인자, 핀 간격에 대한 시료의 두께 보...2025.01.14
-
반도체 하드마스크 SOH 레포트2025.05.021. SOH (Spin-on Hardmasks) SOH는 패터닝 공정에서 반도체 미세 패턴 구현을 위한 보조재료입니다. gap을 채우고 평탄화를 강화하여 내에칭성을 강화해야하는 특성을 요구합니다. SOH는 반도체 회로 패턴 형성 시 기존의 CVD 방식이 아닌 spin coating 방식으로 막을 형성하는 미세 패턴 형성 재료로, 미세 선폭의 패턴 정확도를 구현합니다. 2. PR MASK와 HARD MASK 비교 미세패턴을 구현하려면 PR MASK의 폭이 점점 줄어들어야 합니다. PR MASK의 가로에 대한 세로의 비율이 특정 값보다...2025.05.02
-
숭실대 신소재공학실험1) 14주차 고분자 디바이스 결과보고서2025.01.141. 고분자 디바이스 이 보고서는 숭실대학교 신소재공학실험 수업의 14주차 실험 내용을 다루고 있습니다. 실험의 목적은 O2 Plasma, Spin coater 등의 사용법을 이해하고, UV-vis, 4-point probe 등 장비의 원리를 이해하며, GO와 rGO의 구조를 이해하는 것입니다. 실험 방법으로는 PET film을 O2 Plasma 처리, GO 용액을 스핀 코팅, GO를 질소와 하이드라진 환경에서 환원시켜 rGO 제작, 4-Point probe를 통한 면저항 측정, UV-vis를 통한 흡광도 측정 등이 포함됩니다. 실...2025.01.14
-
전자 스핀 공명 실험 결과보고서 (A+)2025.04.251. 전자 스핀 공명 이번 실험은 전자 스핀 공명(Electron Spin Resonance - ESR)을 사용하여 전자의 유명한 g 인자를 찾아내는 실험이었다. 자기장에 노출된 자유 전자의 스핀-플립 전이를 관찰함으로써 실험 목적을 달성하고자 했다. 전자 스핀 공명은 전자, 원자핵 등이 지닌 자기 모멘트에 자기장을 가해 에너지를 분리하고, 에너지 차이의 전자기파를 입사시켜 공명 흡수를 발생시키는 현상이다. 이번 실험에서는 DPPH 물질에 시간에 따라 변하지 않는 자기장을 가해 비정상 Zeeman 효과를 관찰하고, 전자 스핀 공명 ...2025.04.25
-
[실험설계] PL Spectrum을 이용한 PLQY 분석 반데르발스 힘의 원리 및 정의2025.01.241. Van der Waals force 원리 반데르발스 힘은 분자와 분자 사이에 상호작용하는 인력으로, 쌍극자 - 쌍극자, 쌍극자 - 유도 쌍극자, 유도 쌍극자 - 유도 쌍극자 간의 인력 이렇게 세 종류의 힘으로 분류된다. 이 중 인력의 세기가 가장 약한 유도 쌍극자 - 유도 쌍극자 간의 인력을 Iondon 또는 dispersion force (분산력)이라고 부른다. 분산력은 두 분자 의 극정이 무극정이라 할지라도 분자 내 전자운동에 의한 전자밀도 변화로 순간적인 쌍극자가 형성되고 이로 인해 주변의 다른 분자들도 영향을 받아 유도...2025.01.24
-
단국대 고분자공학실험및설계2 <Quantum Dot 물질을 이용한 Color Conversion> 레포트2025.01.221. Quantum Dot 물질을 이용한 Color Conversion 실험 목적은 Quantum Dot 재료를 사용하여 Color Conversion이 이루어지는 quartz cell, 필름을 제작하고 Blue 광원을 이용하여 QD 필름을 통해 Color Conversion이 이루어지는 모습을 확인하는 것입니다. 실험 원리는 QD film의 Color Conversion 광발광이 외부의 에너지에 의해 여기된 photon이 안정화되며 band gap 만큼의 에너지를 방출하는 것을 의미하며, 이때 photon을 여기시키기 위해 입사되...2025.01.22
-
단국대 고분자공학 실험 및 설계1 ps-p2vp Orientation 및 Reconstruction & etching 레포트 [A+]2025.01.231. BCP Phase diagram BCP는 화학적으로 서로 다른 두 개 이상의 고분자 사슬이 공유 결합으로 연결된 구조로 이루어져 있다. 이는 sphere, cylinder, gyroid, and lamellae 등 다양한 형태 및 크기로 자기조립이 가능하며, 각 block의 부피 비율(f), 분자량(N), 플로리-허긴스 상호작용 파라미터(χ) 등의 조건에 영향을 받는다. 2. Solvent-Vapor Annealing Solvent-Vapor Annealing은 BCP 필름의 나노 구조 및 배향을 부여하기 위한 간단하고 효과적...2025.01.23
-
나노 임프린트 리소 그래피 실험 결과 보고서2025.01.211. 나노 임프린트 리소그래피 나노 임프린트 리소그래피 공정은 나노 크기의 패턴을 만들어 내는데 대량 생산이 가능한 방법이다. 나노 크기의 패턴의 mold만 제작 한다면 간단한 공정으로 패턴을 프린트 할 수 있다. 그렇기 때문에 공정의 간소화로 공정 시간 및 비용이 감소한다. NIL은 크게 2가지 공정 방법으로 나뉘는데 PR이 열에 반응하는 Thermal NIL방법과 UV에 반응하는 UV NIL 방법이 있다. Thermal와 UV의 대표적 차이점은 공정 방법, 사용 가능한 재료, mold 재질 등이 다르다. 2. Ni mold 처리...2025.01.21
-
유기화학실험_Benzophenone과 Benzhydrol을 NMR로 측정 결과보고서2025.05.061. NMR Spectroscopy NMR Spectroscopy (Nuclear magnetic resonance spectroscopy)는 구조 결정에 사용되는 많은 분광학적인 기술 중에서 가장 가치 있는 분광학적 기술이다. 1H 그리고 13C와 같은 자기성 핵이 강한 자기장에 놓였을 때, 이들의 스핀은 외부 자기장에 대해 같은 방향 또는 반대 방향으로 배열한다. 라디오파의 조사에 의해서 에너지가 흡수되고 핵은 낮은 에너지 상태에서 높은 에너지 상태로 스핀 젖혀짐을 일으킨다. 이 라디오 주파수 에너지의 흡수를 검출하고 증폭시켜 ...2025.05.06