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나노 임프린트 리소 그래피 실험 결과 보고서2025.01.211. 나노 임프린트 리소그래피 나노 임프린트 리소그래피 공정은 나노 크기의 패턴을 만들어 내는데 대량 생산이 가능한 방법이다. 나노 크기의 패턴의 mold만 제작 한다면 간단한 공정으로 패턴을 프린트 할 수 있다. 그렇기 때문에 공정의 간소화로 공정 시간 및 비용이 감소한다. NIL은 크게 2가지 공정 방법으로 나뉘는데 PR이 열에 반응하는 Thermal NIL방법과 UV에 반응하는 UV NIL 방법이 있다. Thermal와 UV의 대표적 차이점은 공정 방법, 사용 가능한 재료, mold 재질 등이 다르다. 2. Ni mold 처리...2025.01.21
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[A+] 단국대 고분자공학실험및설계2 <포토리소그래피> 레포트2025.01.221. 포토리소그래피 포토리소그래피(Photolithography)는 원하는 회로설계를 유리판 위에 금속패턴으로 만들어 놓은 포토마스크라는 원판에 빛을 조사하여 생기는 패턴을 웨이퍼 상에 전사시켜 복사하는 기술이며, 반도체 및 디스플레이의 제조 공정에서 설계된 패턴을 웨이퍼 상에 형성하는 가장 중요한 공정이다. 포토리소그래피 공정은 측정을 포함하여 기본 8단계로 이루어진다. 2. 포토레지스트 포토레지스트(PR)는 빛에 반응해 특성이 변하는 화학물질로, 디스플레이에서는 TFT에 미세한 회로를 형성하는 포토리소그래피 공정에 사용된다. 포...2025.01.22
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Film growth (반도체)2025.05.081. Epitaxy Epitaxy는 epi(위에) + taxis(배열)의 합성어로, 결정성 기판 위에 단결정 박막을 성장시키는 기술을 의미한다. 호모에피택시는 동일한 물질로 이루어진 기판과 박막을 사용하며, 헤테로에피택시는 서로 다른 물질로 이루어진 기판과 박막을 사용한다. 에피택시 성장에서는 격자 불일치로 인한 응력 완화와 임계 두께 등의 개념이 중요하다. 2. Molecular Beam Epitaxy (MBE) MBE는 초고진공 환경에서 분자 빔을 이용하여 반도체 박막을 에피택시 성장시키는 기술이다. MBE는 낮은 성장 속도, ...2025.05.08
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[일반화학실험] PDMS를 이용한 미세접촉 인쇄 예비 레포트2025.05.021. 미세접촉 인쇄 미세접촉 인쇄는 릴리프 무늬를 가진 탄성 중합체의 도장에서 도장이 접촉된 부분의 기질로 물질이 이동하는 과정을 나타낸다. 이 과정에서 알케인싸이올이 찍힌 부위에 피브로넥틴이 선택적으로 흡착되고, 이는 도장이 찍힌 부위에 세포들이 선택적으로 부착할 수 있게끔 한다. 2. 자기조립 자기조립은 무질서하게 존재하는 물질들이 일정한 규칙으로 인해 제어된 구조체를 형성하거나 물질들이 일정한 양식으로 배치되는 현상을 나타낸다. 자기조립에는 반데르발스 힘과 수소 결합 등 느슨한 상호작용이 주로 개입하며, 이를 통해 형성된 유기...2025.05.02
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금오공대 신소재 박막공학 기말고사 범위 정리2025.01.271. 진공 기초 및 진공 시스템 진공은 기체 분자의 밀도가 대기압보다 낮은 상태를 의미한다. 진공 펌프는 러핑 펌프와 고진공 펌프로 구분되며, 러핑 펌프는 건식 메커니컬 펌프와 송풍기/부스터 펌프로 나뉜다. 고진공 펌프에는 터보분자펌프와 크라이오펌프가 있다. 터보펌프는 기계적 압축 원리로 작동하며, 크라이오펌프는 고진공과 최고진공 범위에서 펌핑 작용을 할 수 있다. 2. 화학 기상 증착법(CVD) 화학 기상 증착법은 가스 혼합물의 화학적 반응을 통해 기판 위에 고체 박막을 증착하는 공정이다. 균질 반응과 비균질 반응으로 구분되며, ...2025.01.27
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고분자 재료 설계 기말 레포트2025.01.281. 블록 공중합체 블록 공중합체는 두 가지 이상의 상이한 단량체로 이루어져 있는 고분자 블록으로 구성된 고분자이다. 직선형, 가지형, 원형 등의 분자모양을 설계할 수 있으며, 구성 블록간의 미세상 분리를 통하여 다양한 형태를 보인다. 용액에 녹일 경우에 다양한 마이셀 구조도 구현할 수 있으며, 무질서 구조, 액정구조, 또는 결정상을 가지는 분자구조도 유도 할 수 있다. 또한 구성 블록 중에 특정 블록을 친수성 블록으로 치환할 경우에 양친성 블록공중합체를 제조할 수 있기 때문에 생리학적인 용도 등 다양한 용도에 응용이 가능하다. 2...2025.01.28
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Nanofabrication by Polymer Self-Assembly2025.05.101. AuNPs 합성 이 실험에서는 citrate를 환원제 그리고 계면활성제로서 이용해 AuNPs를 합성하였고, UV spectrum을 측정해 AuNPs는 LSPR에 의해 bulk의 금 입자와는 다른 특징을 가진 것을 확인할 수 있었다. 측정한 UV spectrum 상에서 합성한 AuNPs는 518nm에서 최대흡광도를 가져, 이론상에서 500-600nm에서 최대흡광도를 가지는 것을 입증할 수 있었다. 2. PS-b-PVP inverse micelle 제작 그 후 polymer self-assembly를 통해 PS-b-PVP inve...2025.05.10
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금오공대 신소재 반도체공정 시험 정리2025.01.271. 반도체 재료 Ge / Si Ge은 최초로 반도체에 사용한 물질로 Si보다 캐리어의 mobility가 높아 성질이 우수하지만, 성능이 금방 저하된다. Ge의 산화는 Si보다 빨라 산화로 인해 물질과 성질의 변형으로 오랜 사용이 불가능하므로 외부 요인에 의한 영향이 큰 Ge보다 Si을 사용하기 시작한 것이다. Si은 Ge보다 안정성이 좋아 표면에서 산소와 결합하여 SiO2층을 형성하여 성능이 꾸준히 유지 된다는 점과 흔하다는 장점이 있다. 또한, 전하 운반자 제어가 쉬워 도핑하기가 쉬우며 산소와 질소에 안정적이므로 기판 물질로 잘...2025.01.27
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[고분자 재료설계] 블록 공중합체의 미세상 분리 현상에 대한 고찰2025.01.141. 블록 공중합체의 미세상 분리 현상 블록 공중합체는 두 가지 이상의 상이한 단량체로 이루어져 있는 고분자 블록으로 구성된 고분자이다. 직선형, 가지형, 원형 등의 분자모양을 설계할 수 있으며, 구성 블록간의 미세 상 분리를 통하여 다양한 모폴로지를 보인다. 블록 공중합체는 자기조립성질 때문에 미세상으로 분리되며, 분리된 미세상의 크기는 약 10~ 100나노미터 규모로 이것을 이용하여 나노 구조물을 제조하는데 널리 이용되고 있다. 2. 선형 블록 공중합체 (AB Diblock copolymers) 선형 블록 공중합체의 구조 및 상...2025.01.14
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반도체공정개론 (반도체공학 이론 전량 필기본)2025.05.111. 반도체 제조 공정 반도체 제조 공정에 대한 전반적인 내용을 다루고 있습니다. IC 제작 공정, 클린룸 기본, 웨이퍼 처리 공정, 박막 증착, 포토리소그래피, 식각, 이온주입, 열처리 등 반도체 제조에 필요한 다양한 공정 단계를 설명하고 있습니다. 2. 반도체 소자 구조 및 특성 반도체 소자의 구조와 특성에 대해 다루고 있습니다. MOSFET, BJT, DRAM 등 주요 반도체 소자의 구조와 동작 원리, 특성 등을 설명하고 있습니다. 또한 SOI, 스트레인 실리콘 등 최신 반도체 기술도 소개하고 있습니다. 3. 열처리 공정 반도...2025.05.11
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