"Reticle(레티클)"의 검색결과 입니다.

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노광공정 CMOS Layout photolithography 어원 포토마스크

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"Reticle(레티클)" 검색결과 1-11 / 11건

스핀스캔 레티클 탐색기의 DIRCM 재밍효과 분석 (DIRCM Jamming Effect Analysis of Spin-Scan Reticle Seeker)

한국군사과학기술학회 안상호, 김영춘, 이광세, 김기홍, 김성수

논문 | 9페이지 | 무료 | 등록일 2025.07.13 | 수정일 2025.07.20

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광폭면 분무를 위한 2유체 노즐의 분무 특성에 관한 연구 (An Experimental Study on the Spray Characteristics by Twin-Fluid Atomizer for Wide Band Spray)

한국분무공학회 이중순

논문 | 8페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.29 | 수정일 2025.05.15

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Photolithography

-line(436nm) h-line(405nm) i-line(365nm) 자외광원 사용 KrF (248nm) ArF (193nm) 엑시머 레이저  마스크 ? 레티클 ... ? photoresist oxide photoresist oxide Mask Reticle  펠리클 Pelicle film Chrome Pattern Frame Reticle  광원의 종류 ...  Step and repeat 노광 방식 Reticle 축소 투영 렌즈 포토레지스 트  Step and repeat 노광 방식 Serpenting Stepping pattern

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 75페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17

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포토마스크 제조공정 및 재료와 제조설비

클마스크(Mask)와 레티클(Reticle)표면을 대기중 분자나 다른 형태의 오염으로부터 보호 해 주는 박막이다 .막은 양극 산화된 알루미늄 프레임에 부착된 후 다시 레티클 위 ... 에 단단히 부착되어진 다. 일반적으로 펠리클은 반도체노광장비, 프로젝션 얼라이너(Projection Aligner)에서 는 레티클의 한쪽 크롬(Cr)면에, 스텝퍼(Stepper ... )에서는 레티클의 크롬면과 유리면 양 쪽에 부착되어 웨이퍼 이미지에 영향을 주지 않도록 한다.①사용목적? 포토마스크의 오염으로부터 보호? 포토마스크의 사용 수명 연장? 포토마스크 세정

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.10.05

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반도체 제조 공정

( 레티클 ) 제작 설계된 회로패턴을 Electron Beam 설비로 Reticle 위에 그려 넣으면 마스크가 완성됩니다 . 레티클 : 회로 패턴을 정착시킬 때 쓰는 원판 즉

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 36페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.06.09

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초정밀 단축스테이지와 라인스캔카메라를 이용한 영상처리 시스템 개발

를 설치하여 그대로 사용한다.그림 3. 구현 시스템의 외형2. 구현 시스템의 검증검사 대상체를 30회 이상 영상 획득과 정밀 레티클(Reticle)을 이용한 길이 측정 후 측정값 ... 논문은 초정밀 단축 스테이지와 라인 스캔 카메라를 이용하여 고해상도 영상을 획득하고 목적에 따라 영상 처리를 수행하는 시스템 개발을 제안한다. 구현한 시스템은 정밀 레티클을 이용 ... 에 고려해야 할 사항이다.구현된 시스템은 정밀 레티클을 사용해 길이 측정 실험을 반복하여 시스템의 성능을 알아본다. 그리고 시스템의 기능과 조작법을 보여주기 위한 데모 프로그램

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.11.16

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포토마스크 제조공정 및 재료와 제조설비

재료 펠리클 마스크 (Mask) 와 레티클 ( Reticle ) 표면을 대기중 분자나 다른 형태의 오염으로부터 보호해 주는 박막 포토마스크의 오염으로부터 보호하고 포토마스크의 사용

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 16페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.10.05

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리소그래피

LithographyPattern Preparation 1) 레티클(reticle) 제작 컴퓨터에 의해 설계된 레이아웃(layout) 데이터를 패턴 형성기에 입력하고, 전자선을 감광막이 입혀진 ... 크롬 유리판에 주사하여 패턴을 형성 reticle의 크기 : 실제 크기의 1~10 배 패턴 형성기 : E-beam, Laser 2) 작업 마스크(working mask) 제작 레티

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 19페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.05.30

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SiO2 박막의 식각 및 PR 제거

시키기 위해서 진공상태에서 집광렌즈를 통해 모여지면 빔으로 형성된다. 빔을 통해서 패턴이 스캔 되는 반사형 레티클에서 반사가 되며 렌즈가 아닌 거울과 같은 모든 반사성 4배 투사 ... 랜즈는 레지스트가 코팅된 웨이퍼에 UV광선이 비추게 되며 웨이퍼는 1/4 의 레티클 스피드로 반대편에 투영된다.② SCALPEL (SCattering with Angular ... 된 회로패턴을 E-beam설비로 유리판 위에 그려 MASK(RETICLE)를 만듬.6단계. 산화(Oxidation)공정고온(800~1200℃)에서 산소나 수증기를 실리콘 웨이퍼표면

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.09.19

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[디스플레이 공학] TFT-LCD 전극과 공정

을ithography 기술은 reticle{) 레티클(주로 LSI 등의 회로 패턴을 정착시킬 때 쓰는 원판(原版)(또는 mask)에 설계된 pattern을 박막이 증착된유리기판위 ... 며,■■■■ reticle-align 단계 : pattern이 그려진 reticle을 정확한 위치에 배치■■ 시키는 공정■■■■ glass-align 단계 : aligner와 reticle의 정렬 ... key를 이용하여 glass 기판과■■ reticle간의 위치를 조정하는 공정■■■■ exposure(노광) 단계 : align이 완료된 상태에서 일정시간 UV(자외선)을조사

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 38페이지 | 2,000원 | 등록일 2004.12.27

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[반도체] VLSI 대규모 집적 회로 생산

그래픽 유리판에 집적회로의 이미지 패턴을 5 배 크기로 형성한 것.특징 : 레티클을 이용하여 Mask 를 제작함.1. Mask뜻 : 반도체 회로 패턴 모양을 광리소그래피 기술 ... 이용됨.*Electron Beam Lithography :전자의 파장을 이용하여 패턴을 웨이퍼의 표면에 형성.높은 해상도가 가능하나, 시간이 많이 걸리고 비쌈.Reticle뜻 : 광

Non-Ai HUMAN
| 리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.06.24

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