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photolithography 반도체8대공정 전해질불균형 수분전해질불균형 리소그래피 공정모사 예비 노광공정 ICU 케이스 뇌경색 간호사 국가고시
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"PR용액" 검색결과 1-20 / 1,309건

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    염산용액에서 Cyanex 572에 의한 희토류 원소(La, Ce, Pr, Nd, Sm)의 용매추출 (Solvent Extraction of Rare Earth Elements (La, Ce, Pr, Nd, Sm) from Hydrochloric Acid Solutions using Cyanex 572)
    한국자원리싸이클링학회 조연철, 강명식, 안재우, 이진영
    논문 | 8페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.24 | 수정일 2025.05.14
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  • 자료 표지
    폐 영구자석으로부터 회수한 염화희토류용액에서PC88A를 이용한 경희토류(Pr, Nd)/중희토류(Tb, Dy) 용매추출 (Solvent Extraction of Light (Pr, Nd) and Medium (Tb, Dy) Rare Earth Elements with PC88A of Rare Earth Chloride Solution from Waste Permanent Magnet)
    한국자원리싸이클링학회 전수병, 손인준, 임병철, 김정모, 김연진, 윤호성, 김철주, 정경우
    논문 | 8페이지 | 무료 | 등록일 2025.04.23 | 수정일 2025.05.14
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    서울과학기술대_반도체제조공정_클린룸 견학 보고서 A+
    한다.PR은 Solvent와 Resin, PAC(Photo Active Compound)를 혼합하여 만든 용액으로 positive PR과 negative PR로 나뉘게 되 ... 게 된다. 이때 BOE 용액은 인체에 해로우므로 조심하도록 한다.2. PR 제거BOE 공정을 통해 원하는 부위의 산화막을 제거하였으므로 Etching을 하면 된다. 이때 Etching ... 에 사용되는 용액은 수산화칼륨(KOH)이며 이 용액에 wafer를 담가 Etching을 하게 된다. 하지만 이 과정에서 development 되지 않은 PR 들이 수산화칼륨을 오염
    리포트 | 8페이지 | 2,500원 | 등록일 2024.04.01
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    Photolithography 결과보고서
    한 개를 세척해준다.) 2. 옐로룸으로 이동하여 스핀코터 위에 유리기판을 올리고 PR(Positive PR)용액을 떨어뜨린다. 그 후 아래와 같은 조건으로 설정한 뒤 스핀코터 ... 를 작동시켜 유리기판 위에 PR용액을 코팅 시켜준다. Rpm RamP(s) Time(s) 1000 10 10 2000 10 10 3000 10 10 4000 10 10 {표 1 – 스핀 ... 코터의 설정변수} 이 과정에서 PR용액이 빛에 매우 민감하기 때문에 옐로룸의 문을 열지 않았으며 큰 유리기판을 스핀코어가 잡아주지 못하여 4000Rpm은 실험에서 제외시켰다. 3
    리포트 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2023.04.05 | 수정일 2024.07.18
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    반도체 8대 공정 정리
    한 실리콘은 반도체 원료로 쓰이기 위해 정제과정이 필요 다결정 실리콘을 녹여 고순도의 실리콘 용액을 만 듬 단결정 실리콘 기둥 , 즉 잉곳 (Ingot) 으로 성장시킴 실리콘결정 성장 ... 사이에 웨이퍼와 연마재를 넣고 압력을 가하며 회전 시킴Ⅰ. 웨이퍼 제조 – ETCHING 기계적 가공에 의해 손상된 웨이퍼 표면을 화학 용액으로 녹여서 제거하는 공정Ⅰ. 웨이퍼 제조 ... 률이 40% 이상 향상되는 것으로 추정된다 .Ⅲ. 포토 공정 ⑤ 노광 후 베이크 (Post-exposure bake, PEB) 공정 PR 원재료 중 하나인 PAC(Photoactive c
    리포트 | 56페이지 | 2,500원 | 등록일 2024.06.09
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    Microscale Patterning with Photolithography and Etching Processes_예비레포트
    인쇄를 통해 회로 패턴을 제조하는 방법으로, 기판 위에 패턴을 새기는 과정이다. 빛에 반응하며 특성이 바뀌는 감광성 화학물질인 PR(Photo Resist)을 웨이퍼 위에 얇 ... 를 통한 세정과 건조 단계를 거쳐 표면을 깨끗하게 만든다. 그 후 웨이퍼 표면은 친수성이기 때문에 소수성인 PR과 접착이 잘 안되므로 이를 해결하기 위해 HMDS를 도포하여 웨이퍼 ... 를 소수성으로 바꿔준다. 이 과정은 PR과 웨이퍼의 접착력을 높인다.PR Coating웨이퍼 위에 PR을 도포하는 과정. Polymer나 레진, 용매, PAC(photo active
    리포트 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.12.12
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  • 판매자 표지 자료 표지
    정보디스플레이학과 광전자공학 4차 결과 보고서 Fabrication of CNT emitters as the an electron beam source, Fabrication of a phosphor, CNT 특성 관찰
    한 Exposure를 해주기 위해서 필요한 장비이다. 코팅한 PR이 UV와 국부적으로 반응하게끔 마스크를 이용해서 선택적으로 제거해 패턴을 새기는, Photolithography 에서 매우 ... 중요한 장비이다.Spin coater박막을 형성하기 위해 진공으로 Substrate를 고정시킨 뒤, 용액을 떨어트려 회전시켜 박막을 형성하는 기구이다. 실험에서는 실리콘 웨이퍼 ... 에 PR을 코팅할 때 쓴다.AZ 300 MIF Developer현상액이라고도 하며, 노광된 영역과 그렇지 되지 않은 영역의 PR을 선택적으로 제거하여 부분적으로 에칭을 가능하게 해주
    리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2024.01.30
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  • 자료 표지
    photolithography 및 etching 공정 레포트
    putter에서 증착된 a-SZTO 물질을 마스크가 있는 부분만 남기기 위해서 postive PR 용액을 이용해서원하는 모양의 채널을 형성해준다.annealing process ... hannel과 비슷한과정이다)- Coating PR : positive PR 용액을 wafer 표면에 코팅하기 위한 Skin process 를 진행하기 위해용액을 3 ~ 4방울 뿌린 후 ... .4. Photo-lithography웨이퍼 위에 빛을 조사하여 회로 패턴이 담긴 마스크 상을 비추어 회로를 넣는 공정이다.a) PR : Photoresist- PR 은 3 가지
    리포트 | 11페이지 | 3,000원 | 등록일 2024.10.27 | 수정일 2024.11.08
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  • 자료 표지
    리소그래피, 반도체공정 보고서
    게 Positive PR, Negative PR이 있다. 먼저 Positive 형은 빛을 받은 부분의 Develop 용액이 날라가고, negative PR은 빛을 받은 부분을 제외한 나머지 영역 ... 이 Decelop 용액에 날라간다. 따라서 빛을 expose 시킨 후 빛이 wafer로 투영될 시 투영뿐 아니라 바닥에 맞고 반사되기 때문에 후에 Develop 시킨 후 PR 옆면이 물결무늬가 띄게 됩니다. 이 현상을 사전에 방지하기 위해 PEB공정, 즉 열을 가해 줍니다. ... 1. 실험 제목Positive & Negative Photoresist를 이용한 Photolithography.2. 실험 목적Positive PR과 Negative PR의 차이점
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2021.12.29
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  • 판매자 표지 자료 표지
    성인간호학 요약본
    상승등장성 용액 5% 포도당 용액, 0.9% NS, 락테이트(하트만)저장성 용액 0.2% or 0.45% NS고칼륨혈증넓고 평평해진 P파, 길어진 PR 간격, 뾰족하고 좁은 T파 ... 함몰, 체온 상승 → 변형된 트렌델렌버그세포 외액량 과다 폐부종, 잦은 기침세포 내액량 결핍고나트륨혈증중추신경계 변화세포 내액량 과다저삼투성 용액, SIADH호흡수 증가, ICP ... , QT 간격 감소, 넓은 QRS, 내려간 ST 분절 → Keyexalate 직장 + Sorbitol(변비예방)저칼륨혈증강심제상승한 P파, 길어진 PR 간격, 편평/내려간 T파, QT
    리포트 | 51페이지 | 12,000원 | 등록일 2023.08.30 | 수정일 2023.09.04
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  • 판매자 표지 자료 표지
    Microscale Patterning with Photolithography and Etching Processes_결과레포트
    으로 Isotropic하게 식각되므로 PR의 아래 부분도 식각될 수 있어 미세한 패턴을 구현하기 어렵다. 이번 실험에서는 BOE 용액 내의 HF가 산화규소를 산화시키는 wet ... Result실험과정위의 사진에서 1000nm, 500nm, 300nm, 10nm의 마스크를 사용하여 lithography를 진행하였다. 먼저 웨이퍼에 Cleaning, pr ... 도록, 즉 UV가 나오는 방향을 향하도록 얹고 그 위에 마스크에 맞춰 웨이퍼의 PR doping 된 면을 올린 후 빛을 조사하였다. 이후 developer AZ400K를 사용하여 PR
    리포트 | 6페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.12.12
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  • 자료 표지
    숭실대 Photo-lithography 결과보고서
    , Aligner, Photomask, Developer (AZ-300 MIF), 3D Profiler※주의사항※- PR과 Developer 용액이 피부에 닿지 않도록 한다.- PR ... , Spin coater로 박막 코팅한다.(1000 rpm, 10 sec)③ Soft baking - Hot plate를 이용하여PR 용액의 용매를 날린다.(110 ℃, 1 min ... (㎛) 스케일의 패턴을 제작하고, 패턴 스케일을 측정할 수 있다.Photoresist(PR)를 이용하고 역할을 이해할 수 있다.4. 시약 및 기기- Si wafer (2.5 x 2.5 c
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 4페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.10.05
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  • 판매자 표지 자료 표지
    A+ 유기화학실험1 < Wittig-Horner Reaction > 레포트
    하였다. 반응 과정에서 용액의 색이 무색, 노란색, 갈색 순으로 변하였으며, 결과적으로 흰색의 결정을 얻을 수 있었다. 이후 얻은 product에 대하여 3가지 staining ... 방법으로 TLC를 진행하였다. 254nm UV에서는 SM과 Pr이 모두 잘 관찰되었고, 365nm UV에서는 Pr이, p-anisaldehdye staining에서는 SM이 진하
    리포트 | 17페이지 | 3,000원 | 등록일 2024.01.23
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  • 자료 표지
    (특집) 포토공정 심화 정리5편. 현상(Development)과 Hard bake
    의 극성에 따라 Positve / Negative로 나눔?(1) Postive PR- Developer : 알칼리 용액(NaOH, KOH, TMAH)- Rinser ... (Developer를 씻는 용액) : DI Water- 특징1) 빛이 조사된 부분이 현상액에 녹음2) Dose, PR 두께에 따라 현상 속도 변함3) 현상 시간 : 현상액 농도에 민감4) 조사하지 ... (Development)이란??- PR의 일부 영역을 제거하여 원하는 Pattern의 형식으로 PR을 남기는 공정?> Development 공정의 방식은 크게 Spray 공정 / Puddle 공정
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.15
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  • 판매자 표지 자료 표지
    [반도체공정실험]Cleaning & Oxidation, Photolithography, Dry etching, Metal Deposition, Annealing(Silcidation)
    ) BOE(Buffered Oxide Etchants) 용액을 이용하여 기존에 존재하는 Oxide층과 Wafer의 표면 유기물, 이온, 금속 물질을 화학적으로 제거한다.(NH ... _{4} F`:`H _{20} :계면활성제)Wafer를 BOE 용액(NH _{4} F`:`H _{20}:계면활성제)에 30분 동안 담근다.2) QDR (Quick Drain Rinse ... ) - DI 용액을 이용하여 헹군다.3) Spin Dryer - 30분 동안 700rpm 속도로 회전시켜 Wafer 표면의 물기를 완전히 제거한다.4) 세정 용액의 웨이퍼 표면
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 19페이지 | 5,500원 | 등록일 2022.09.17
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  • 자료 표지
    (특집) 포토공정 심화 정리11편. PR(Photoresist)에대한 이해
    과 DNQ가 빛을 흡수, 빛 감응도 낮음- PAC PR의 Develop현상 : TMAH 용액을 일반적으로 Developer로 사용함??다음으로는 Negative PR인 Cross ... < 포토공정 심화 정리11편. PR(Photoresist)에대한 이해 >이번시간은 '포토공정에 사용되는 소재 PR, 포토레지스트에 대해서 알아보겠습니다.?Photoresist ... , PR은 반도체 원료인 웨이퍼 위에 도포하는 ‘감광액’이다. 빛을 받아 반도체 회로를 새기는 특수 고분자물질이다. 400여 개 반도체 공정 가운데 30여 개에 포토레지스트를 사용
    Non-Ai HUMAN
    | 리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.16
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    [물리화학실험]평형 분배
    적인 점도계이다.V`=` {pi `Pr ^{4}} over {8 eta l} tV:액체량, P:압력, r:반경, t:시간, η:마찰계수, l:길이다. 상대점도 (Relative ... viscosity)eta _{r} `=` {eta } over {eta _{0}} `=` {rho t} over {rho _{0} t _{0}}eta _{0}, η : 각각 용액 ... 의 점도,rho _{0}, ρ:각각 용액의 밀도{eta } over {eta _{0}} `=` {( rho _{s} - rho )t} over {( rho _{s} - rho _{0
    리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2023.04.21
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    산염기 불균형
    (금식, 물 공급 부족, 혼수 등)?배설 증가(설사, 구토, 흡인, 화상)?저탄수성 용액의 정맥 내 과다 투여?항이뇨호르몬 지속적 투여증상갈증, 발열 핍뇨, 의식변화?두통, 서맥 ... , 혈압상승, 호흡수 증가?불안, 흥분, 지남력 변화치료 및 간호등장성 용액 주입?신체 세척 시 등장액 이용?의식수준 사정, 손상예방?수분제한: 건조한 식사. 찬 음료 제공2) 세포 ... , 약한 빈맥, 저혈압, 기립성 저혈압?부정맥, 심수축력 약화, 심정지, 사망초래?오심, 장음항진, 장운동 증가, 설사?저림, 허약감, 이상감각, 무감각, 지각이상심전도길어진 PR간격
    리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2024.09.24
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    [서강대 유기화학실험 A+ 레포트] Exp7.Electrophilic addition of alkyne
    다르게 나타난다.산성 용액에서는 H+가 먼저 methylene에 첨가되는데, O와 결합을 이루는 탄소 원자에 양이온이 만들어지도록 중간체가 만들어진다. 해당 중간체는 공명을 이룰 ... 뒤 황산 첨가 시 온도가 상승하였다. (발열반응)2. 물, HgCl2 그리고 황산이 더해진 용액에 2-methyl-3-butyn-2-ol를 넣어주고 열을 가했더니 노란색으로 색 ... 이 변하고 후에 진한 갈색으로 변하였다.3. K2CO3를 첨가하였을 때 CO2가 발생했고 조금 색이 연해졌다.4. Sep. funnel로 용액을 옮겼을 때 상층(노란색) 그리고 하층
    리포트 | 11페이지 | 3,000원 | 등록일 2024.09.09
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  • 자료 표지
    무기화학실험_Preparation of X-type Zeolite 결과보고서(A+)
    된 제올라이트감압여과 진행 후 제올라이트제올라이트 생성 반응식SiO2 + 2NaOH → Na2O3Si + H2OAl(O-i-Pr)3 + NaOH + H2O → NaAlO2 + 3i ... -Pr-OHNa2O3Si (aq)+ NaAlO2(aq) → Nax[(AlO₂)x?(SiO₂)y]?zH₂O[Part 2] Ion-exchange Properties교반 진행 중교반 ... (aq) 반응AgCl(s) 침천물 형성제올라이트를 구성하는 금속 이온인 Na+와 코발트 이온이 치환되게 되면서 코발트 이온으로 인해 분홍색을 띄던 교반 전 용액이 치환 후 무색
    리포트 | 6페이지 | 3,500원 | 등록일 2025.02.03
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2026년 01월 07일 수요일
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