"고온플라즈마"의 검색결과 입니다.

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cvd 플라즈마 원리 원자 흡수 분광계 안과 수술 icp-oes ICP 레포트 진공증착 탄소나노튜브

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"고온플라즈마" 검색결과 1,081-1,100 / 1,376건

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도가니, 사기증발접시, 백금도가니: 물질을 융해하거나 배소하는 등의 고온처리에 사용되는 내열성 용기 전기회화로② 전기회화로(Electric furnace)③ 건조용기 ... 를 염기성으로 한 다음 재빨리 회화시킨다.③ Low temperature plasma ashing- 직접 회화법의 특별한 타입으로서 전자기장에 의해서 산소를 생성하는 발생기로 약간

리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.12.05

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[재료특성] mems 재료특성

한다. 또 plasma를 베이스로 3차원 이온 주입이 가능한 플라즈마 마베스이온주입(PBII)법에 의해 부착력의 큰 DLC막을 형성할 수 있고, 엄격한 조건으로 사용한 접동(摺動)부품 ... ℃의 고온에서도 연속사용이 가능하다. 유리전이점은 310℃이다.- 고온에서도 크리프가 작다.- 기계적강도, 충격강도가 아주 높으며 치수안정성도 양호하다.- 전기절연성은 대단히 우수 ... 하다.- 내마모성과 난연성, 내방사성이 우수하다.- 상온에서도 내약품성이 높으며 유기용제에 거의 침해되지 않으나 고온에서는 알칼리에 침해된다.- 내열성은 400℃에서 감소하지만 800

리포트 | 20페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.02

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수액 및 수혈 요법

1년~성인노인plasma혈장40%40%5%7%Interstitial fluid(ISF)간질액15%18%Intracellular fluid(ICF)세포내액40%30%40%27%전체 ... 의 부족량이 발생- 잠재손실(외상, 감염, 복수), 불감손실(발열, 고온, 발한) 고려- 수액부족량 : (금식시간 * 시간당 정상유지요구량) + 체외 및 제삼공간 손실량-> 모든

리포트 | 13페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.02.28

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분류학의 정의, 미생물의 분류 및 분류방법, 분류법

미아코플라즈마라 부르는 세포벽이 없는 원핵생물이다.(4)Division Ⅳ. Mendosicutes대부분이 어떤 형의 세포벽을 가지고 있지만, muramic acid를 함유하지 않 ... (mesophiles) 및 고온성 세균(thermophiles)으로 구분할 수 있다.현재 검정 및 활용되고 있는 많은 세균이 중온성 세균이지만, 퇴비부숙 과정과 같이 온도가 60℃이상 ... 오르는 곳에서는 고온성 세균이 중점적으로 증식하게 된다.고온성 세균에는 Bacillus stearothermophilus, Clostridium thermocellum등이 있

리포트 | 12페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.06.16

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[반도체]진공증착

지마를 사용하지 않는 일반적은 PVD 즉 Evaporation이라고하는 저항가열식 증착 방법과2) 플라즈마를 사용하는 PAPVD(Plasma assited PVD)로 나뉩니다 ... 법)와 CVD (화학 기상 증착법)로 나누어집니다. PVD에는 sputtering, evaporation 등이 있고, CVD에는 thermal CVD, Plasma Enhanced ... , 입자의 장거리 비행가능, 증발과 승화작용, 안정된 플라즈마를 유지, 생화학 반응 억제, 우주환경 제공 등의 특성이 있다.진공의 응용분야진공기술의 응용범위는 전 산업에 걸쳐 있

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.26

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[OLED]표준광원 색좌표 진공펌프

현미경 Plasma 발생기, 물리 실험 장치터보 분자 펌프, 저온 냉각 펌프, 흡착펌프1.4 진공기술1.5 펌프의 종류◎ 건식 로타리 베인 펌프 (DRY-RUNNING ... 방출 (초고진공,극 진공에서 문제)고온,용해금속(특히Al) 으로의 방출(증착,Sputter)(CO,CO2,CH4) : 진공장치 벽면의 오염.C.도입Gas (Ar) : Sputter ... 은 진공이 얻어지지 않는 원인이 된다.이런 문제점을 해결하기 위해서 Dry 진공 Pump는 알루미늄, 합금제를 채용하는 것에 의해 광범위하게 균열화가 가능하다.H(고온형)과 L(저온

리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.15

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[열역학]연료전지

분해법(Direct Cracking), 플라즈마 촉매개질법(Plasma Catalytic Reforming), 흡착부과반응개질법(Sorption Enhanced reaction Pro높다. ... 도 정도 이하의 것을 저온형, 그 이상의 것을 고온형이라고 한다. 또, 발전효율의 향상을 꾀한 것이나, 귀금속 촉매를 사용하지 않는 고온형의 용융탄산염(溶融炭酸鹽) 연료전지를 제2 ... 이 가능.⑥ 열병합(고온연료전지의 경우) : 폐열 활용이 가능.5. 연료전지(Fuel cell)의 활용분야① 고분자전해질 연료전지 및 이를 이용한 무공해 연료전지 자동차 개발을 통해

리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.04.21

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LCD발광효율을 높이는방법

에 적용되고 있다.하지만 고출력·고효율 백색 LED를 구현하기 위해서는 소자의 구조, 방열, 패키지 구조, 고온에서 안정한 형광물질의 개발 및 효율증대 등 여전히 많은 연구가 필요 ... 시키는 연구를 진행 중이다.차세대 대형 평판 디스플레이(FPD)로 각광을 받는 PDP는 비활성 기체의 플라즈마에 의해 형광체가 여기되므로, 형광체는 스퍼터링 조건에서도 화학적, 기계 ... 로, 발광 활성체 이온을 흔적량 또는 상당량 포함시켜서, 플라즈마 디스플레이 패널의 형광체로 사용된다. 이들 내화성 산화물의 제조 온도는 일반적으로 상당히 높다. 본 연구실

리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.14

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반도체 제조 공정

반도체 소자를 제조하기 위한 가장 중요한 재료6. 산화공정 (Thermal Oxidation)☞ 산화란 : 고온(800~1200℃)에서 산소나 수증기를 주입시키고 열을 가해 실리콘 ... 을 화학적 에칭액 혹은 플라즈마를 이용하여 제거시킨다. 노출된 감광막이 제거된 후 남아있는 감광막을 단단히 굳히기 위해 웨이퍼를약 80~100℃ 온도에서 굽는 과정을 수행한다.10 ... 화학액 또는플라즈마를 사용해 깨끗이 제거해준다. 이렇게 식각을 이용한 패턴 형성 과정은 각 패턴층에 대해 반복j적으로 실시된다.11. 이온 주입 (Ion Implantation

리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.06.02

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[기술]제진합금, 비정질 합금

이다. 스퍼터링법은 Ar과 같은 불활성 가스를 방전하여 플라즈마(Plasma)로 만들고, 모합금에 충돌시켜 튀어나온 원자를 기판 위에 부착하여 박막을 만드는 것으로, 희토류 금속 ... 제로 점탄성 고분자 재료의 슬립에 의해 진동에너지를 흡수하는 방법이다. 이 방법은 제진 특성도 우수하고 가격도 저렴한 편이나, 고분자 재료의 특성상 고온에서 사용이 불가능하며(사용 ... 성을 나타내는 고온에서 高감쇠능을 나타내므로 고온에서의 제진재료로서 사용될 수 있다.(2) 강자성형강자성 결정에는 자기스핀이 일치하도록 격자에 자기장이 생기게 되므로 자구

리포트 | 22페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.03.28

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임플란트 표면처리에 따른 골융합 비교분석

취약하여 가루로 만들 수도 있으며 적열(赤熱)상태 에서는 선으로 만들 수 있다.나. 기계적 성질① 가볍고 강하며 내식성 우수하다.② 고온강도 우수(크리프 강도 우수)하다.③ 내열 ... 은 경우 실패율이 높다. 지금은 거의 사용하지 않는다.2) Additive to increase bone contact area2세대 임플란트인 Titanium plasma s ... 한 gradational treatment라 한다.5) Sintered porous-surface implant이 표면 처리방법은 작은 구슬 정도의 Titanium 알갱이를 고온에서 표면에 붙인 것

리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.01.07

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[용접-A+자료] 플라즈마용접

면 주원으로 이용하는 것으로써 이를 플라즈마 용접이라 한다.『 1-1. 플라즈마용접형태 』PLASMA용접은 TIG와 유사하나 텅스텐 용접봉이 구리전극의 노즐속에 내장되어 ARC를 발생 ... 의 각부위 온도 』4 플라즈마 아크 용접의 원리아크 플라즈마를 좁은 틈으로 고속도로 분출시킴으로써 생기는 고온의 불꽃을 이용해서 절단, 용사, 용접하는 방법으로 10000∼30000 ... ℃의 고온 플라즈마를 다음과 같은 방법으로 분출시킨다.아래그림과 같이 아크 플라즈마의 외주부를 가스로 강제 냉각하면 아크 플라즈마의 열손실이 대단히 증가하므로 전류를 일정하게 유지

리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2003.08.14

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[공업화학실험] 박막재료의 표면 처리 및 식각 공정

plasma aching) ---플라즈마 애슁장치를 이용하여 산소 플라즈마를 발생시켜서 적절한 조건에서 마스크 패턴을 제거한다.(6) 산화막의 표면, 표면 색깔과 패턴 관찰 -- ... -광학현미경 관찰◎플라즈마1.플라즈마 상태일반적으로 물질은 고체, 액체, 기체의 여러 가지 상태가 있으며 그들 상태의 기본적인 구성요소는 원자 혹은 원자가 여러 개 모인 분자 또는 ... 화합물이다. 플라즈마는 원자 및 분자 또는 화합물을 구성하는 전자가 핵의 속박에서 벗어나 자유롭게 움직이며 돌아 다니는 상태이다. 즉 플라즈마는 음전하를 띤 전자와 양전하를 띤

리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.01.20

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[로켓] 발사체의 추진기관에 따른 분류

와 같은 각속도로 회전을 하기 때문에 밤에 지상에서 보면 상공에 정지해 있는 것을 쉽게 발견할 수 있다.① 전열 로켓: 로켓내부에 저장된 추진제를 전력으로 가열하여 고온의 가스로 전환 ... 다.② 전자기 추력기: 추진제 가스가 이온화되어 플라즈마가 형성된다. 이 플라즈마를 전기장이나 자기장에 보내 가속을 시킨 후 분사하여 추력을 얻는다. 그래서, 플라즈마엔진이라고도 한다 ... 의 하류에서 별도로 방출하여 이온과 재결합시켜 중성화시켜야 한다,??(2) 핵에너지 로켓핵 반응에서 생기는 막대한 양의 에너지를 추진제가 흡수하여 고온의 가스로 노즐을 통해 팽창 분사

리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.07.18

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반도체공정실험 예비보고서 (식각)

한다.④ 식각된 산화막의 표면, 표면 색깔과 패턴 관찰 ---- 광학현미경 관찰⑤ 마스크 패턴의 제거(O2 plasma aching) ---- 플라즈마 애슁장치를 이용하여 산소 플라즈마 ... 를발생시켜서 적절한 조건에서 마스크 패턴을 제거한다.⑥ 산화막의 표면, 표면 색깔과 패턴 관찰 ---- 광학현미경 관찰4.실험이론4-1> 플라즈마▷ 플라즈마의 정의물질의 상태는 고체 ... , 액체, 기체, 플라즈마 상태(제 4의 상태)가 있다. 기체(gas)입자, 즉 기체분자나원자에 에너지가 가해지면(일반적으로 가속된 전자의 충돌에 의해서 에너지가 전달된다) 최외각

리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.30

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[나노공학]나노란?

에서 만들어진 고온 플라즈마를 플라즈마 Flam으로 분출시켜 원료를 가열,증발시키는 방법 장점 : 1) W,Mo,Al2O3,SiO2등 고융점 저증기압 재료도 안정적으로 증발시킬수 있 ... 성 등 환경기술측면Physical method - Evaporation condensation method - CO2 laser method - plasma heating ... ondensation method 대상물질을 가열시키고,이를 내각, 응축시켜 나노분말을 제조하는방법 가열방법에 따라 저항 가열법 , 플라즈마 가열법, 유도 가열법 , 레지저 가열법 장점

리포트 | 24페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.05.26 | 수정일 2025.01.21

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판매자 표지

[A+평가자료] 국내 신재생 에너지의 종류와 특징

하지 않는 등 장점이 많으나 고온, 고밀도의 플라즈마 처리기술이 개발 단계에 있어 실용화되기 까지는 아직도 상당한 시일이 필요하다.국내에서는 기초과학지원연구소 주관으로 한국과학기술 ... 신뢰성 향상과 태양열이용 기술의 확보를 위해 중고온 등 시스템 개발에 중점 추진중? 태양열 집열기 및 온수·급탕기술- 보급 단계로 가정용 온수기(약 18.8만대) 및 골프장 ... 필요? 저온 활용 분야- 골프장, 양어장, 온실 등 한정된 분야에 보급되고 있으나 품질향상을 위한 생산, 평가,대규모시스템 설계기술의 확보가 필요함? 중고온 활용 분야- 대부분

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.12.05 | 수정일 2017.04.06

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[공학]FED의 에미터

부분 600℃이상의 온도가 요구된다. 그러나 PECVD는 source gas의 분해를 플라즈마를 이용함으로써 비교적 낮은 온도에서 gas를 분해시킴으로써 박막 증착을 할 수 있 ... 성이 가증하고 저온합성, 고순도 합성, 대면 적 기판합성이 가능하며, 탄소나노튜브의 구조제어가 용이한 장점을 가지고 있음. 고온의 로안에 탄소 성분의 가스를 흘려주면서 탄소 나노

리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.24

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[공학] 건식도금에 대하여 CVD와 PVD

시켜서 소재에 응결시키면서 도금하는 방법을 말한다. 따라서 여러 가지 방법이 있다.(저항가열법, 유도가열법, 전자빔 가열법, 플라즈마 빔 가열법, 직류법, 고주파법, 반응성 법, 직류 ... 과 적당한 화학작용이 있어야 하므로 적용범위가 한정된다.2)표면과 화학결합을 한 도금피막이므로 밀착성은 좋다.3)소재(substrate)는 고온으로 가열되어야 할 필요가 있 ... 의 내벽의 보호막, 태양전지의 유력한 제조법의 하나로 주목되고 있다.【1】CVD의 원리CVD 법은 저온에서 기화한 휘발성의 금속염(氣相, vapour)와 고온에 가열된 물체(도금

리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.06.01

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화학발광법/비분산적외선법 ICP-MS/ICP-OES

장치로 서 고온의 플라즈마를 이온원으로 사용하여 이온화 효율이 높으며 해석이 단순한 질량분석 스 펙트럼을 제공하고 스펙트럼에 나타나는 방해영향이 적은 특성을 바탕으로 낮은 검출한계 ... : 일정주기마다 자동적으로 제로교정과 스팬교정을 수행하는 장치이다.2. ICP1) ICP-MS① 정의 : ICP-MS는 유도결합 방법으로 생성된 플라즈마를 이온원으로 사용하는 질량분석

리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.11.07

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