"질화붕소의 제조"의 검색결과 입니다.

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cvd 반도체 공정 기계제어공학부 회주철 SM45C 철 물성치 용접기능사 61종열처리최고 제조기술면접 항공기 복합소재 CU 물성표

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"질화붕소의 제조" 검색결과 41-60 / 83건

판매자 표지

일반화학용어 정리,일반화학개념정리

고, 탄화규소·탄화붕소·탄화텅스텐·질화붕소·질화알루미늄·산화지르코늄·탄소섬유 등의 합성원료를 쓰며, 또 광통신용 글라스파이버처럼 완전히 새로운 제조 기술을 이용하는 등, 많은 점 ... 에서 종래의 제조 기술과의 사이에 큰 차이가 있다. 이 밖에 압전 세라믹스·초전도 세라믹스·세라믹 센서·세라믹 엔진 ·세라믹 파이버·바이오 세라믹스 등이 있다.니켈카드뮴전지

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| 리포트 | 94페이지 | 3,500원 | 등록일 2009.12.29

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공구재종 및 코팅

율이 높음충격저항 작음열팽창계수 작음전단강도 작음압축강도 높음공구 재료 및 특징3) CERMET 4) cBN (입방정 질화붕소) 1500℃에서 8GPa의 고온 고압을 유지할 수 있 ... ,성형,소결 과정)으로 제조한 복합금속, 간단히 말해서 소결 탄화물 합금, Cemented Tungsten Carbides, Hard metal 이라 부른다WC(탄화텅스텐)를 주

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| 리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.04.05

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열처리와 표면처리

로서 필요한 성질을 얻을 수 있음 금속의 가공성을 개선함 제조 공정으로서의 열처리로 다양한 성질을 얻을 수 있음강의 변태강에서는 온도와 조성에 따라서 많은 상들이 나타나고 있 ... 이 많은 합금층을 형성하는 처리법 보로나이징 강재의 표면에 붕소를 침투시켜 경도와 내멸성이 우수한 붕화층을 형성시키는 처리금속의 시멘테이션기타 표면 경화전해 경화법 전기분해에 있 ... 로 분무상태로 만들어 목적하는 소재의 표면에 분사하여 피복층을 형성하는 방법 방전 경화법 강제품을 음극에, 상대극을 양극으로 하여 공중방전 함으로써 제품표면에 질화, 금속침트 담금

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| 리포트 | 87페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.11.08

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[철강][금속][금속 부식][도금][도금 원리][도금 종류][도금 과정][전기도금][화학도금][건식도금]철강의 활용과 금속의 부식, 도금의 원리, 도금의 종류, 도금의 과정, 전기도금, 화학도금, 건식도금 분석

, 수소화붕소화합물, 히드라진 등이 사용된다. 하이포아인산염을 사용할 때는 니켈-인 합금이, 수소화붕소화합물을 사용할 때는 니켈-붕소 합금이 석출된다. 화학도금은 비금속물질 특히 합성 ... deposition)으로 크게 분류할 수 있다. 건식도금기술은 소재(基板:기판에 엷은 금속 또는 금속화합물을 피복시킨다는 의미에서 박막(薄膜)제조기술(thin film technology)이 ... 라는다. 역사적으로는 1920년대에 고순도의 금속을 얻는 방법으로 요오드(iodine)법 등이 등장했고, 1940년대부터는 고순도 게르마늄, 실리콘의 제조법 등의 반도체공업에 깊

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| 리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2009.07.15

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세라믹의 개요

공법 등으로 점차 치밀한미세조직을 가진 소결체 제조가 가능하게 되었다.대표적인 것으로탄화물 :B₄C, SiC, TiC, ZrC, Mo₂C, WC질화물 : BN, ALN, Si₃N₄ ... 세 라 믹 의 개 요세라믹이란?세라믹이란 함은 무기물질을 주원료로 사용하는 산화물(Oxide), 질화물(Nitride), 탄화물(carbide)등의 재료를 뜻한다. 이러한 재료 ... 을(금속 + 질소)탄화물 (금속 + 탄소)붕화물 (금속 + 붕소)【산화물계】Al₂O₃ZirconiaFine Ceramics의 대표적인 제품으로써 다이아몬드(Moor 경도 10

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| 리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.07.29

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현미경을 이용한 금속관찰

을 두고 각 시편의 금속조직을 관찰한다.각종 재료로 제조된 부품의 외관 결함은 용이하게 발견할 수 있으나, 내부결함은 찾아내기가 용이하지 않다. 국산부품과 외산부품을 비교하면 외관 ... 을 만들고 있다.알루미늄(Al)은 강력한 탈산제이지만 너무 많이 첨가되면 강을 취약하게 만든다. 탈 진, 탈산용으로는 0.1% 이하로 첨가하는 것이 보통이며 질화물인 AlN은 미세 석출 ... 하 여 강의 결정립 미세화에 효과적이므로 극미세 결정립을 갖는 강인강을 제조할 수 있 다. 또한 고온산화방지 및 내황화성에 극히 효과적이다.비소(As)는 제선제강공정에서 제거

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| 리포트 | 45페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.06.10

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철을 이루는 5대 구성요소의 물성치와 특성, 그리고 취급방법....

을 방지합니다.?다른 원소와 결합하여 질화물을 형성하는데 AlN이 강중에 미세하게 석출되어 있으면 오스테나이트 결정립이 미세하게 되어 세립강 제조가 가능하지만 다량 존재하면 고온 ... 로 첨가하는 것이 보통이며 질화물인 AlN은 미세석출하여 강의 결정립 미세화에 효과적이므로 극미세 결정립을 갖는 강인강을 제조할 수 있습니다. 또한 고온산화방지 및 내황화성에 극히 ... ℃에서의 청열취성에 의해 인장강도, 항복강도는 증가하고 충격치는 저하하여 강의 취하를 일으킵니다. 이를 방지하기 위해 친화력이 큰 알루미늄, 티타늄, 바나듐, 붕소 등을 첨가하여 취하현상

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| 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.09.28

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[강구조공학] 강재의 첨가물 및 열처리 방법

, 붕소 등을 첨가하여 취하현상을 방지한다.다른 원소와 결합하여 질화물을 형성하는데 AlN이 강중에 미세하게 석출되어 있으면 오스테나이트 결정립이 미세하게 되어 세립강 제조가 가능하지 ... , 탈산용으로는 0.1% 이하로 첨가하는 것이 보통이며 질화물인 AlN은 미세석출하여 강의 결정립 미세화에 효과적이므로 극미세 결정립을 갖는 강인강을 제조할 수 있다. 또한 고온산화방지 ... 등과 질화물을 형성하여 결정립을 미세화시킨다.7. 수소(H) : 원자반경이 매우 작아 강중에 침입형으로 존재하며 다른 원소에 비해 확산속도가 빠르다. 백점(白点), 헤어크랙, 선상

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| 리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.08.09

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신소재 용어 정리 기계적 기능 강도 경도

한 초경합금(hard metal), CBN(입방정 질화 붕소), 다이아몬드, 탄화규소(SiC), 알루미나(Al2O3) 등이 개발되었다.비강도인장강도를 단위 중량인 밀도(ρ)로 나눈 ... 압연법으로 제조한다. 전해도금법으로 제조하는 경우, 도금 우선방위에 따라, 표면 조도가 커진다. 만약 두께 9μm의 동박을 제조하는데 표면 조도가 3~6μm 라면, 그 제품은 사용 ... 된다. 질화나 쇼트 피닝 등은 표면에 막을 구성하는 것이 아니라, 공작물의 내부 특성이나 구조를 변화시키는 것으로 내마모성을 향상시키는 처리기술이다.* 내식, 내산화, 내마모, 마찰, 미관

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| 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.03.21

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절삭공구 종류

Pressing)법을 적용해 기공을 제거한 상태로 제작된다.(8) CBN (입방정 질화 붕소) : CBN은 고온, 고압 하에서 제조되며, 고온 경도가 극히 높은 공구 재료이다.연삭 ... 성능이 떨어져 별로 많이 사용되지는 않는다.(5) 초경합금 : 초경 합금은 W, Ti, Ta 등의 탄화물을 Co로 결합시킨 합금을 말하는데, 최근에는 질화물을 첨가한 초경 합금

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| 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.10.27

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[반도체]CVD 화학증착

를 필요로 하므로, 앞에서도 언급한 바와 같이, 적용할 수 있는 소재에 큰 제약이 따른다. Thermal CVD로도 TiN(질화티타늄)과 같은 초경피막을 우수한 품질로 제조할 수 있 ... 증착)법은 기체상태의 화합물을 가열된 모재표면에서 반응 시켜고 생성물을 모재표면 에 증착시키는 방법이다. 화학증착은 현재 상업적으로이용되는 박막제조기술로 가장 많이 활용되고 있 ... 하고 고유한 장점들을 가지고 있기 때문이다. 화학증착법의 장점으로는 첫째, 융점이 높아서 제조하기 어려운 재료를 융점보다 낮은 온도에서 용이하게 제조할 수 있고 둘째, 순도가 높고 셋째

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| 리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.26

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pvd와 cvd

반응에 의해 1inch 두께까지 피복시키는데 유용하다. 우리가 화학기상증착을 줄여서 CVD라고 부르는 과정은 금속, 금속간화합물, 붕소화학물, 규소화합물 탄화물, 질화물, 산화물 ... 이다.좀더 풀어서 말하자면, 많이 쓰이는 산화물 반도체나 GaAs 등을 증착시킬 때 PVD 방법들은 그 화합물들을 우선 소결하거나 녹여서 고체 상태의 target으로 제조해서 열 ... 3의 수소한원법에 의해 트랜지스터에 응용되어졌으며 열CVD의 본격적인 도입은 Si게이트 MOS 디바이스의 출현이 계기가 되었다. LOCOS에 사용되는 질화막, 게이트로 되는 단결정

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| 리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.09.28

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윔스 허스트 장치를 통한 대기압 방전 실험

, 시판되고 있다. 최근에 질화붕소관을 이용한 토치도 개발되고 전원도 진공관방식에 더해, 효율 좋은 트렌지스터 방식이 개발되고 있다.고주파 토치로는 축전결합(capacitively c ... , Plasma 용사, 초미립자 제조, 열플라즈마 환경기술 등에 사용된다.전자빔이나 글로 방전 플라즈마를 이용하여 공장의 배기가스 중 NOx, SOx를 제거하는 건식 처리기술은 환경 ... 분야에서도 플라즈마가 중요히 쓰여짐을 보여준다.[플라즈마 응용 분야]산업적으로 사용되는 플라즈마는 저온 플라즈마와 열 플라즈마로 나눌 수 있는데 저온 플라즈마의 경우 반도체 제조

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| 리포트 | 17페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.01.26

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pvd,cvd

한 기체들의 화학반응에 의해 1inch 두께까지 피복시키는데 유용하다. 우리가 화학기상증착을 줄여서 CVD라고 부르는 과정은 금속, 금속간화합물, 붕소화학물, 규소화합물 탄화물, 질화 ... 기 때문이다.좀더 풀어서 말하자면, 많이 쓰이는 산화물 반도체나 GaAs 등을 증착시킬 때 PVD 방법들은 그 화합물들을 우선 소결하거나 녹여서 고체 상태의 target으로 제조해서 ... , SiHCl3의 수소한원법에 의해 트랜지스터에 응용되어졌으며 열CVD의 본격적인 도입은 Si게이트 MOS 디바이스의 출현이 계기가 되었다. LOCOS에 사용되는 질화막, 게이트

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| 리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.09

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No.61 탄소강의 열처리에 따른 미세조직변화와 강도 변화

-izing)② 침탄질화(Carbonitriding) : 부품표면에 탄소와 소량의 질소를 동시에 침투시켜표면경화③ 질화(Nitriding) : 부품표면에 질소의 침투에 의한 표면경화④ 침 ... 질탄화(Nitrocarburizing) : 부품표면에 질소와 소량의 탄소를 동시에 침투시켜표면경화⑤ 침붕(Boriding) : 부품표면에 붕소의 확산침투에 의한 표면경화⑥ 탄질화물 ... 특수한 목적을 위한 첨단 열처리 기술도 점차 개발되고 있다.1) 열처리 종류(1) 표면경화열처리① 침탄, 침탄질화 : 내부도 약간 경화된다.② 연질화, 가스질화 : 내부는 전혀

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| 리포트 | 24페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.12.24

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Crystal Growth

실리콘의 제조이다. 이것은 큰 석영유리로 된제 bell jar의 안에 생성한다. 화학적으로 깨끗한 SiHCl3또는 SiCl4은 H2와 섞고 bell jar안에서 생산이 되며 실리콘 ... 모양 실리콘 단결정을 생성한다. 실리콘 결정은 n-type 또는 p-type 저항력에 요구되는 인 또는 붕소를 주입시킴으로써 이 요소를 용해 시켜 약간의 양을 조절한다3) 웨이퍼 ... 에 의하여 사용되지 않는다.4) 웨이퍼정밀하게 문지른 웨이퍼는 Masking, 식각하기, 높은 온도의 노에서 칩의 실제적인 제조 과정을 위해 준비 되어진다. 그들은 생산의 모든

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| 리포트 | 17페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.11.17

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파인세라믹스

, 여과장치 등으로 이용됨(4) 강도가 작다는 단점을 가짐제 5장 세라믹스를 만든다.1. 소결체1) 파인 세라믹스 제조의 조건(1) 서브마이크론 입자 : 0.1 내지 1 마이크론 사이 ... 것(2) 실리카유리에 무수붕소()를 가한 것3. 가루1) 세라믹스 가루의 의미(1) 그 자체로 사용(2) 소결체의 원료로 사용2) 서브마이크론의 입자지름을 갖는 세라믹스가루 ... 를 만드는 방법(1) 기상반응법 : 금속을 고온에서 증발시켜 기상에서 산화, 탄화, 질화등의 반응을 일으켜 미립자를 안개모양으로 생성시키는 것이다.(2) 분무건조법: 대량으로 미립자

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| 리포트 | 13페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.04.29

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위험물의 종류와 화학반응식

)2S2O8퍼옥소붕산염류NaBo3?4H2O(과붕산나트륨=과산화붕산나트륨=과붕소산나트륨4수화물)Ⅰ50kg차아염소산염류(HClO)Ca(ClO)2, LiClO, Ba(ClO)2? 제2 ... 과 질소(고온)3Mg + N2 → Mg3N2(질화마그네슘)27마그네슘과 CO22Mg + CO2 → 2MgO + C28마그네슘과 염산Mg + 2HCl → MgCl2 +H2↑? 제3 ... O75%CH4 : 5 ∼ 15%C2H6 : 3 ∼ 12.4%C2H2 : 2.5 ∼ 81%? 제4류 위험물(인화성액체)연번반응종류반응식비고1에테르 제조법C2H5OH + C2H5

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| 시험자료 | 14페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.03.23 | 수정일 2020.02.11

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반도체 용어 정리

며, 여러종류의 필름(전도성, 유전성)을 에칭합니다.* 에칭반도체 소자의 제조 공정에서 웨이퍼 표면에 회로의 배선 패턴을 형성하여 식각(蝕刻)하는 것. 대규모 집적 회로(LSI) 등 ... 반도체 소자를 제조하는 공정에서 반도체 단결정 웨이퍼에 박막 형성, 포토리소그래피(photolithography), 에칭, 이온 주입 등의 기술이 가해지는 요소 프로세스 중의 한 공정 ... tacked) waveguide들을 생성함으로써 그들은 일반적인 마이크로 제조 기술들의 사용을 통해 3차원에서 복잡한 광학 회로들을 만들 수 있는 가능성을 보인다.3

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| 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.23

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[공학기술]금속의 광학조직관찰법-결과레포트

는 것은 다이아몬드, 에메리, 스피넬(spinel), 석류석(garnet), 규사 등이다. 인조지립은 1875년 경부터 사용되었는데, 여기에는 용융알루미나, 탄화규소, 탄화붕소 이외 ... 에도 경도가 큰 탄화물, 질화물이 있으며, 그 중에서도 용융알루미나와 탄화규소가 가장 많이 쓰이고 있다. 이 밖에도 천연산 연마 재룐로는 점토류, 활석, 미정질의 규산이 쓰이며, 인 ... 될 수 있을 만큼 적어질 때 까지 주의하여 단계적으로 연마해야 한다.연삭숫돌은 사용목적이나 대상물에 따라서 지립과 결합제를 골라서 제조하고 있으므로 연삭숫돌의 종류, 성능을 잘 파악

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| 리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.05.10

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