[현미경]TEM

소개

투과전자현미경(TEM)에 대한 간단한 레포트입니다. ^-^

목차

투과전자현미경의 기본 구조
전자총
조사시스템
시료실
결상 및 투영 시스템
전자빔 조절 및 교정장치
기록 시스템
TEM의 분해능
전자현미경의 상 결정 원리
전자현미경의 조작
투과전자현미경의 관찰법과 시료제작법
TEM의 좋은 사진과 나쁜사진

본문내용

투과전자현미경의 기본 구조

TEM의 구조는 전자총에서 나온 전자빔은 가능한 밝고 시간적으로 안정하여야 한다. 조사시스템은 관찰시료에 입사되는 전자빔의 세기를 조절하고 빔의 수렴반각등을 선택하는 역할을 하여, 전자빔을 넓은 영역에 균일하도록 쪼여주거나, 혹은 수 ㎚의 작은 탐침을 시료표면에 형성하는 등 조작이 가능하다. TEM의 시편은 직경이 3 ㎚로 표준화되어 있고 관찰영역의 두께가 100㎚정도로 얇은 디스크형태이다. 시편지지대는 작은 시료를 움직이거나 회전 혹은 양축으로 기울일 수 있는 고니오미터고, 대물렌즈 내의 좁은 공간에 위치한다. TEM의 1차 영상은 대물렌즈에 의해서 형성되고 다수의 렌즈들이 대물렌즈 영상을 점차 확대시켜 형광판에 최종영상을 형성시킨다. 따라서 대물렌즈의 품질이 전체적인 TEM 영상의 질을 좌우한다. TEM에서는 명시야상, 암시야상과 전자 회절상을 손쉽고 빠르게 선택할 수 있도록 고안되어 있다. 형광판 아래에 카메라가 위치하여, 영상은 음화로 기록된다. 음화를 현상, 인화하여 사진으로 관찰. 분석하거나 보존한다. 따라서, 암실과 사진작업도 TEM작업의 일부로 간주된다. 최근에는 TV카메라나 CCD카메라에 부착하여, 영상의 관찰이 용이할 뿐만 아니라, 디지털 신호로 컴퓨터에 기록 혹은 신호처리를 행하여 TEM의 사용이 크게 편리해지고 있다.

1. 전자총
전자총은 전자선의 원천인데 필라멘트, Shield와 양극으로 구성. 전자총은 양극이 0전위이고 필라멘트에서는 -50 ～ -100㎸ 의 고전압이 걸려 Shield에는 필라멘트보다 더욱이 수 10에서 1,000V의 마이너스 전압이 걸리도록 되어있다. 이 전압을 바이어스 전압이라 한다. 필라멘트에 전류가 통하면 필라멘트의 온도가 상승하여 열전자가 방출되는데 이 전자의 방출량이 빔전류이다.
전자현미경에서 전자를 생산하는 방법으로 두 가지가 쓰인다. 하나는 W이나 LÅB로 만들어진 필라멘트를 고온으로 가열시켜서 재료표면으로부터 자유전자가 진공중으로 날아가도록 하는 방법이다.(열전자방출이라 함) 다른 하나는 고진공 중에서 금속표면(흔히 W-필라멘트)에 고압의 전위차를 걸어주어 금속표면으로부터 전자를 뽑아내는 방식이다.(전계방출법 이라 함) 앞의 것을 열전자, 그리고 뒤의 것을 전위차계 전자라고 한다. 전자현미경에서는 열전자 전자총이 가장 보편적으로 쓰인다. 최근에는 전계 전자총에 의한 홀로그래피법이 활발하게 연구되고 있다.

참고자료

· 없음