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ITOscribingcleaning A+ 레포트 건국대학교 고분자재료과학

"ITOscribingcleaning A+ 레포트 건국대학교 고분자재료과학"에 대한 내용입니다.
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최초등록일 2023.06.03 최종저작일 2018.12
건국대학교 고분자재료실험 화학공학과 ito
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ITOscribingcleaning A+ 레포트 건국대학교 고분자재료과학
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    소개

    "ITOscribingcleaning A+ 레포트 건국대학교 고분자재료과학"에 대한 내용입니다.

    목차

    1.실험제목
    2.실험조&실험자
    3.실험목적
    4.실험이론
    5.장치 및 시약
    6.실험방법
    7.참고문헌

    본문내용

    1. 실험제목 : ITO Scribing & Cleaning

    2. 실험조 & 실험자 :

    3. 실험목적

    ◦OLED/PLED/OPV device의 투명전극으로 사용되는 ITO glass를 원하는 크기로 자르는 방법을 습득한다.
    ◦원하는 모양으로 자른 ITO glass의 오염된 표면을 세정하여 소자의 성능 및 수율을 향상시킨다.

    4. 실험이론

    Pattern 공정을 하기 위해서는 주변의 청정도가 매우 중요한데, 아래 그림에서 보는 것과 같이 Clean room 에서 빛에 노출되지 않는 환경을 구비한 후 공정을 시작하여야 한다.
    ◦ Cleaning & Wet-Station 의 중요성
    모든 반도체 공정은 오염물들의 근원이고 이는 소자의 성능과 수율에 직접적인 영향을 미치게 된다. 각 공정 후 Glass 표면의 오염물은 기하급수적으로 늘어나게 되고 이 오염물에 의해 반도체 소자의 수율은 급격히 감소하게 된다. 반도체 세정 공정은 Glass 표면의 모든 오염물을 완벽히 제거하는 것이 가장 이상적인 목표이기는 하지만 그것은 거의 불가능하다고 할 수 있다. 실제로 웨이퍼 세정 공정은 각 공정 전과 후에 실시하여 기하 급수적으로 증가하는 오염물을 최소한의 감소시키는 것이 그 주된 목적이다. 따라서 기판(Glass) 세정 공정은 모든 공정 전후에 반드시 행해져야 한다. 반도체 소장 공정 중 웨이퍼 표면 위에 오염되는 불순물의 종류는 크게 오염물은 particle, 유기 오염물, 금속 오염물 그리고 자연 산화막으로 나눌 수 있다. 이런 다양한 오염물들을 제거하기 위해서 웨이퍼는 각각의 오염물들을 효과적으로 제거하기 위한 여러 가지 세정 용액을 혼합하여 일괄 처리 공정으로 세정된다.

    참고자료

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    · http://iopscience.iop.org/0963-0252/21/5/055030/article
    · http://www.sunhayato-korea.com/ozon-cleaner.htm
    · http://blog.naver.com/caliper9/30092485925
    · http://blog.naver.com/alconoxkorea/10165390132
    · http://terms.naver.com/entry.nhn?docId=758429&mobile&cid=50324&categoryId=50324
    · https://en.wikipedia.org/wiki/Isopropyl_alcohol
    · https://ko.wikipedia.org/wiki/%EC%95%84%EC%9D%B4%EC%86%8C%ED%94%84%EB%A1%9C%ED%95%84_%EC%95%8C%EC%BD%94%EC%98%AC
    · http://terms.naver.com/entry.nhn?docId=1153239&cid=40942&categoryId=32251
    · https://en.wikipedia.org/wiki/Toluene
    · http://terms.naver.com/entry.nhn?docId=607306&cid=42420&categoryId=42420
    · https://en.wikipedia.org/wiki/Acetone
    · http://www.92jse.com/UVOzone_cleaner.htm
    · http://terms.naver.com/entry.nhn?docId=1143922&cid=40942&categoryId=32251
    · http://terms.naver.com/entry.nhn?docId=513897&cid=42407&categoryId=42407
    · https://en.wikipedia.org/wiki/Methanol
    · http://terms.naver.com/entry.nhn?docId=760670&cid=42341&categoryId=42341
    · http://terms.naver.com/entry.nhn?docId=1160238&cid=40942&categoryId=32335
    · http://terms.naver.com/entry.nhn?docId=849972&cid=42346&categoryId=42346
    · http://cafe.naver.com/6cmt/200
    · http://csyeng.co.kr/csyeng/product/sub1.php?section=01
    · http://terms.naver.com/entry.nhn?docId=508600&cid=42380&categoryId=42380

  • AI와 토픽 톺아보기

    • 1. ITO Glass
      ITO (Indium Tin Oxide) glass is a critical component in various display technologies, including LCD, OLED, and touch screens. It serves as a transparent conductive layer that enables the display to function effectively. The advantages of ITO glass include its high optical transparency, low electrical resistance, and compatibility with a wide range of manufacturing processes. However, the limited availability and high cost of indium, the primary material in ITO, have driven the search for alternative transparent conductive materials. Ongoing research and development in this area aim to find cost-effective and environmentally friendly solutions that can maintain the performance characteristics of ITO while addressing the supply and sustainability concerns. As display technologies continue to evolve, the importance of ITO glass and the need for innovative alternatives will remain a key focus in the industry.
    • 2. ITO Cleaning
      Proper cleaning of ITO (Indium Tin Oxide) glass is crucial for maintaining the performance and reliability of display devices. ITO cleaning involves the removal of contaminants, such as organic residues, metal particles, and other impurities, from the surface of the ITO layer. This process is essential to ensure optimal optical and electrical properties, as well as to prevent issues like poor adhesion, increased resistance, and reduced transparency. Effective ITO cleaning techniques, such as wet chemical cleaning, plasma cleaning, and laser cleaning, have been developed to address these challenges. The choice of cleaning method depends on the specific requirements of the display application, the nature of the contaminants, and the overall manufacturing process. Continuous advancements in ITO cleaning technologies are necessary to keep pace with the evolving display industry and ensure the consistent quality and performance of ITO-based devices.
    • 3. Scribing
      Scribing is a critical process in the manufacturing of display panels, particularly for LCD and OLED technologies. It involves the precise cutting or scoring of the glass substrate along predetermined lines to create individual display units or modules. Accurate scribing is essential for minimizing defects, ensuring proper alignment, and facilitating the subsequent separation of the display panels. The scribing process requires the use of specialized equipment, such as laser scribers or mechanical scribers, which can accurately control the depth, width, and positioning of the scribe lines. Advancements in scribing technologies, including the use of high-precision laser systems and advanced control algorithms, have enabled the production of increasingly smaller and more complex display panels with improved yield and quality. As display sizes and resolutions continue to increase, the importance of reliable and efficient scribing techniques will remain a critical aspect of the display manufacturing ecosystem.
    • 4. Wet Cleaning
      Wet cleaning is a crucial process in the manufacturing of display panels, particularly for LCD and OLED technologies. It involves the use of liquid-based cleaning solutions to remove various contaminants, such as organic residues, metal particles, and ionic impurities, from the surface of the display substrate. Effective wet cleaning is essential for maintaining the optical and electrical properties of the display, as well as ensuring the proper adhesion of subsequent layers. The wet cleaning process typically includes a series of steps, such as pre-cleaning, main cleaning, rinsing, and drying, each of which is carefully optimized to achieve the desired level of cleanliness. Advancements in wet cleaning technologies, including the development of more effective cleaning solutions, improved cleaning equipment, and advanced process control, have enabled the production of increasingly complex and high-performance display panels with improved yield and reliability. As display technologies continue to evolve, the importance of efficient and environmentally-friendly wet cleaning processes will remain a critical aspect of the display manufacturing industry.
    • 5. Dry Cleaning
      Dry cleaning is an important complementary process to wet cleaning in the manufacturing of display panels, particularly for LCD and OLED technologies. Dry cleaning techniques, such as plasma cleaning and laser cleaning, are used to remove contaminants and residues that are difficult to remove using wet cleaning methods. Plasma cleaning, for example, utilizes a high-energy ionized gas to effectively remove organic and inorganic contaminants from the surface of the display substrate. Laser cleaning, on the other hand, employs a focused beam of light to selectively remove targeted contaminants without damaging the underlying material. The combination of wet and dry cleaning processes ensures a comprehensive and effective cleaning of the display substrate, which is crucial for maintaining the optical, electrical, and adhesion properties of the display. Advancements in dry cleaning technologies, including the development of more efficient and environmentally-friendly processes, have enabled the production of increasingly complex and high-performance display panels with improved yield and reliability. As display technologies continue to evolve, the integration of advanced wet and dry cleaning techniques will remain a critical aspect of the display manufacturing industry.

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      ITO 유리 기판의 Scribing과 다양한 세정 방법을 소개하고 있으며, 각 공정의 원리와 중요성을 상세히 설명하고 있습니다.

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