반도체 공정 실습보고서

흑돈팜

개인인증 판매자스토어

최초 등록일: 2020.10.07
최종 저작일: 2019.05; 15페이지/ MS 워드; 가격 2,500원

다운로드

장바구니

상세정보
자료후기 (2)
자료문의 (0)
판매자정보

소개글

서울대학교 반도체공동연구소에서 진행한 반도체 공정 교육관련 실습 보고서입니다. A+맞은 보고서이니 잘 사용하셨으면 좋겠습니다.

반도체 공정(웨이퍼)이 어떤 과정에 의해 이루어지는지에 대해 사진과 함께 설명하는 보고서입니다.

본문내용

▶ 웨이퍼 준비
1. 웨이퍼의 종류: 웨이퍼는 p형과 n형이 있으며 결정 방향에 따라 (0 0 1)부터 (1 1 1)으로 나누어짐
2. 채널의 종류에 따라 도핑타입, 도핑농도에 따라 저항특성, 결정방향에 따라 면밀도 차이로 인한 특성이 바뀜.

▶ 웨이퍼 공정
1. 클리닝 공정
▷ 클리닝 공정 목적: “Si wafer 표면 위 공기 중 산소와 만나 형성된 얇은 산화층과 먼지를 제거하기 위함”.
SPM-Clean 황산과 과산화수소수의 혼합용액으로 웨이퍼 표면 유기물과 금속이물질을 제거(600초)
APM-Clean 암모니아와 과산화수소의 혼합용액인 SC1 용액으로 먼지와 유기 오염물 제거(600초)
HPM-Clean 염산과 과산화수소의 혼합용액인 SC2 용액으로 금속 오염물 제거(600초)
HF-Clean 세정공정중 만들어 질 수 있는 자연산화막을 DHF용액으로 제거(60초)

2. 이온주입공정
▷ 이온주입 공정 목적: “극성을 띠는 이온을 가속시켜 웨이퍼 표면에 쏘면 웨이퍼표면 농도가 변화할 것이다.”  주입한 이온에 따라 n-type, p-type으로 나누어진다.

참고 자료

없음

이 자료와 함께 구매한 자료

삼성전자 DS부문 반도체 공정설계/공정기술 합격 자소서 - 화학과/화공과 시점 l 반도체 자기소개서 7페이지

자료후기(2)

주의사항

환불정책

해피캠퍼스는 구매자와 판매자 모두가 만족하는 서비스가 되도록 노력하고 있으며, 아래의 4가지 자료환불 조건을 꼭 확인해주시기 바랍니다.

파일오류	중복자료	저작권 없음	설명과 실제 내용 불일치
파일의 다운로드가 제대로 되지 않거나 파일형식에 맞는 프로그램으로 정상 작동하지 않는 경우	다른 자료와 70% 이상 내용이 일치하는 경우 (중복임을 확인할 수 있는 근거 필요함)	인터넷의 다른 사이트, 연구기관, 학교, 서적 등의 자료를 도용한 경우	자료의 설명과 실제 자료의 내용이 일치하지 않는 경우

이런 노하우도 있어요!더보기

찾던 자료가 아닌가요?아래 자료들 중 찾던 자료가 있는지 확인해보세요

반도체 공동 연구소 기본 공정교육(3일) 실습보고서(MOS Capacitor 제작 및 C-V 측정 보고서) 9페이지

않게 하는 성질을 보임) - 박종승(서울대학교 반도체공동연구소)강사 조언 ... capacitor를 제작하고, C-V 특성을 측정함 으로써 반도체 공정을 기본 ... .11(금) 3일 ▣교육 장소 : 반도체공동연구소 설계연구관 제1교육실
대한민국의 과학자, 강대원박사 5페이지

-1992년 5월 13일) 대한민국의 반도체 물리학자, 서울 출생. 강대원 ... (모스펫:전계효과금속산화물반도체)이 무엇인지 살펴보고 MOS-PET이 현재 ... 21세기 반도체에 어떤 영향을 끼치고 있는지 살펴보겠다. MOS-PET
[리포트][진로탐구활동] 반도체공학 기술자에 관한 보고서입니다. 요즘 반도체 관련 전공자가 상당히 부족하다는 평이 많습니다. 따라서 이 분야는 전망이 매우 밝습니다. 5페이지

학과입니다. 반도체의 작동원리, 반도체 설계, 제조에 필요한 공정이나 과정 ... 나의 진로 탐구활동 1. 직업명: 반도체공학 기술 ... . 하는 일 반도체공학 기술자는 냉장고, 텔레비전, 세탁
자신이 근무하고 싶은 조직과 담당하고 싶은 업무에 대해서 분석하시오. 5페이지

이용해볼 수 있다. 예를 들어 서울대학교 반도체 공정 연구소에서 시행하는 ... 실습 교육, 연세대학교 등에서도 이와 같은 반도체 공정 실습 교육을 ... 을 선정한 이유는 반도체 공정의 직접적이고, 더 깊은 연구가 필요하기 때문이다
High-k report 8페이지

가져다준다. 5. Reference - 광운대학교 반도체공정(1), 21-2 ... 박막의 전기적, 구조적 특성 연구, 서울대학교 대학원, 공학전문대학 ... 사용되고 있는 반도체 소자로 가장 널러 사용되고 있는 메모리이다. 스위치
[서울시립대] 전자전기컴퓨터설계실험2 / Lab02(결과) / 2021년도(대면) / A+ 9페이지

사용할 목적으로 설계된 비메모리 반도체 칩으로, 복잡한 큰 디지털 시스템은 ... Sheet 4) (주) 한백전자 기술연구소 Combo-II SE 활용설명서 ... . 6. Reference 1) 서울시립대학교 전자전기컴퓨터설계실험2 실험
책요약 - 아픔이 길이 되려면 7페이지

저자 김승섭 연세대학교 의과대학 졸업 서울대학교 보건대학원 석사 하버드대학교 ... 증가하면 자살률이 증가한다. 누군가는 그들 편에 서야 한다 삼성반도체 직업 ... 보건대학원 박사 조지워싱턴대학교 보건대학원 강사 2013~현재
나노기술조사 및 보고서 8페이지

서울대 교수와 유정호 연구원이 '반도체 나노결정을 핵형성 과정에서부터 ... 되어서 우리나라가 차세대 나노 반도체 공정 기술을 주도하여 반도체 기술 ... 반도체 분야의 활용이 매우 기대되고 있습니다. 이번 연구결과는 나노기술의
신소재공학 텀프로젝트 mems 에 관한 보고서 32페이지

그래피 등이 연구 되었다. 이처럼 반도체 기판 자체를 에칭하여 3차원 구조를 ... 그림은 MEMS 기술의 시초가 된 반도체 제조 공정이다. 다음 단원의 ... DLC 윤활 박막 반도체 처리 고강도, 윤활 MEMS 공정의 재료 재료의 물
삼성반도체 54페이지

반도체 산업에 뛰어든 삼성의 초기 조직구조는 매우 소규모 조직원들의 ... % 8.3% 6.1% 5.3% 국내 연구개발 투자 현황 삼성반도체의 혁신 ... . 참고자료 삼성반도체의 혁신 단계별 조직설계 D 램시장 – 연구개발단계
[연구개발][R&D][연구개발사례][R&D사례]연구개발(R&D)의 정의, 연구개발(R&D)의 결정요인, 3M과 삼성전자의 연구개발(R&D) 사례, 모토롤라의 연구개발(R&D) 사례, 연구개발(R&D)의 애로사항에 관한 분석 17페이지

위에 올라섰다. MOS 메모리시장에서 삼성전자, 미국의 대표적 반도체기업인 ... 중반에서부터 어느 활동이나 정책보다 높은 것으로 나타나고 있으며(서울대학교 경영 ... 성을 잃게 된다. 실제 하나의 고집적 반도체를 설계하기 위해서는 다양한
한국 반도체 산업의 국가경쟁력- 포터의 다이아몬드 모델 중 정부의 역할을 중심으로 15페이지

설립하였고, ETRI와 서울대학교 반도체 공동연구소, KAIST 등 ... 육성하여 반도체 산업의 발전을 지원하고자 했다. 한국전자통신연구소(ETRI)를 ... 정부의 반도체 산업 정책 고찰 Ⅳ. 결론 Ⅰ. 서론 1. 연구목적 ‘왜
[HJBT] HJBT 27페이지

반도체 칩 제작에 적합한 기술이다. 실리콘 게르마늄은 전 조성 범위에서 ... 실리콘 반도체 생산에 사용되는 기존 공정을 그대로 활용, 생산단가도 3 ... 를 연구했다. 그가 실리콘-게르마늄 반도체에 주목하기 시작한 것은 지난 90
나노 기술과 현재 개발된 것이나 진행중인 기술 16페이지

서울대 반도체공동연구센터가 유일해 칩 제작을 위해 오랜 기간을 ... 사파이어 11. 근원적인 변화로써의 나노테크 요약문 나노튜브 한 개가 반도체 ... 가 될 수 있다는 사실은 이미 알려져 있었다. 그러나 이것이 반도체
반도체산업의 HRM (교육훈련을 중점으로) 26페이지

제품 개발 선점에 집중하고 있다. 또한 가칭 「반도체 종합연구센터」 신설 등 ... 반도체 산업의 HARM (교육훈련을 중점으로) 요 약 20여 년 전 ... 인재가 부족한 국내 반도체산업의 특성상 인재의 중요성은 무엇보다 커지고 있다
Etch process 19페이지

(배석희.안상렬 외) 6) Dry etch 서울대학교 반도체 공동연구소 ... ) 반도체 공정의 기초 2) 박막공정 공학 3) A study of etch ... plasmas 4) 반도체 공정 교육 이론 (ISRC) 5) 진공공학