삼성전자 및 sk하이닉스 반도체기술 중국 유출사건(2020)_중국으로의 첨단기술 유출 연구분석

소개

"삼성전자 및 sk하이닉스 반도체기술 중국 유출사건(2020)_중국으로의 첨단기술 유출 연구분석"에 대한 내용입니다.

목차

1. 삼성전자 및 sk하이닉스 반도체기술 중국 유출 사건 정보
2. 유사 사례 정보 (중국으로의 첨단기술 유출 사례)
3. 중국으로의 첨단기술 유출
4. 첨단기술유출에 대한 대응방안

본문내용

SK하이닉스의 협력업체 연구소장과 영업그룹장이 협력 과정에서 접한 HKMG(하이K메탈게이트) 기술과 반도체 세정 레시피 등 D램 제조공정 관련 핵심기술을 2018년도부터 중국 업체에 유출해왔다. 해당 협력업체의 조사과정에서 삼성전자 자회사의 전직 직원을 통해 반도체 세정 도면을 빼돌려 중국 수출용 장비를 만드는데 사용했다는 사실도 같이 적발되었다.
유출된 정보는 반도체 제조 공정 과정에서 불순물을 제거하는 세정 작업이라고 한다. 수만 장 이상의 기판으로 공정을 하면서 가장 적절한 배합비율과 순서, 속도 등이 정해지게 되는 반도체 제작의 핵심 기술이다. 이들은 얻은 정보들을 통해 1대당 70억가량의 수출용 반도체 장비를 직접 제작하기도 했다.
해당 업체들은 검찰이 국가정보원 산하의 산업기밀보호센터로부터 국내 핵심 기술에 대한 중국 유출이 이루어진 정황이 있다는 제보를 받고 6개월에 걸친 수사를 통해 적발했다고 알려졌다.

참고자료

· 없음